公开(公告)号：US08758513B2

公开(公告)日：2014-06-24

申请号：US11639224

申请日：2006-12-15

申请人： Jin Seok Lee ,  Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byeong Eok Hwang

发明人： Jin Seok Lee ,  Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byeong Eok Hwang

IPC分类号： C23F1/00 ,  C23C16/00

CPC分类号： H01L21/67173 ,  C23C14/50 ,  C23C14/568

摘要： A processing apparatus includes a loading chamber; a buffer chamber connected to the loading chamber; a first process chamber connected to the buffer chamber; and an unloading chamber connected to the first process chamber, wherein a processing path through the processing apparatus is a forward in-line path in a direction through the loading chamber, the buffer chamber, the first process chamber, and the unloading chamber.

摘要翻译： 一种处理装置，包括装载室; 连接到所述装载室的缓冲室; 连接到缓冲室的第一处理室; 以及连接到所述第一处理室的卸载室，其中通过所述处理装置的处理路径是沿着穿过所述装载室，所述缓冲室，所述第一处理室和所述卸载室的方向的前向一线路径。

公开(公告)号：US07981263B2

公开(公告)日：2011-07-19

申请号：US11797775

申请日：2007-05-07

申请人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C25B9/00 ,  C25B11/00 ,  C25B13/00 ,  C23C14/00

CPC分类号： C23C14/352 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor having a substrate and a plurality of target devices facing the substrate and substantially parallel to each other, each target device being rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括具有基板的基座和面向基板并且基本上彼此平行的多个目标装置，每个目标装置可旋转。

公开(公告)号：US20070256933A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US11797775

申请日：2007-05-07

申请人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Hyuk Sang Yoon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/32

CPC分类号： C23C14/352 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor having a substrate and a plurality of target devices facing the substrate and substantially parallel to each other, each target device being rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括具有基板的基座和面向基板并且基本上彼此平行的多个目标装置，每个目标装置可旋转。

公开(公告)号：US08470142B2

公开(公告)日：2013-06-25

申请号：US11451440

申请日：2006-06-13

申请人： Sung Eun Kim ,  Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Kwang Jong Yoo ,  Yang Sik Moon ,  Byeong Cheol An

发明人： Sung Eun Kim ,  Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Kwang Jong Yoo ,  Yang Sik Moon ,  Byeong Cheol An

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/35

摘要： A sputtering apparatus for depositing a target material on a substrate includes a chamber, a target in the chamber to provide the target material, a carrier to carry the substrate in the chamber to face the target, and a plurality of masks arranged along sides of the carrier and being movable back and forth with respect to the carrier.

摘要翻译： 用于在基板上沉积目标材料的溅射装置包括：腔室，用于提供目标材料的腔室中的靶;载体，用于将腔室中的衬底运送到靶材;以及多个掩模， 并且可相对于承载件来回移动。

公开(公告)号：US08142111B2

公开(公告)日：2012-03-27

申请号：US13053861

申请日：2011-03-22

申请人： Sung Eun Kim ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Tae Kyun Kwon

发明人： Sung Eun Kim ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Tae Kyun Kwon

IPC分类号： B65G53/00

CPC分类号： H01L21/67784

摘要： Provided is a support platform of a non-contact transfer apparatus. The support platform is arranged horizontally and includes first and second members adding a lift force to a first force for lifting peripheral portions of a transferred object, wherein the first force is lower than a second force lifting a central portion of the transferred object.

摘要翻译： 提供一种非接触式传送装置的支撑平台。 支撑平台水平地布置，并且包括第一和第二构件，其将第一和第二构件加到用于提升转移物体的周边部分的第一力，其中第一力低于提升被转移物体的中心部分的第二力。

公开(公告)号：US08052850B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US11802174

申请日：2007-05-21

申请人： Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Tae Hyun Lim ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/3407 ,  C23C14/352 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3423

摘要： A sputtering apparatus includes a susceptor for receiving a substrate, and a first target device disposed to be opposite to a center region of a substrate and at least second and third target devices disposed to be opposite to peripheral regions of the substrate, wherein the second and third target devices are rotatable.

摘要翻译： 溅射装置包括用于接收基板的基座和设置成与基板的中心区域相对的第一目标装置和设置成与基板的周边区域相对设置的至少第二和第三目标装置，其中第二和 第三目标装置是可旋转的。

公开(公告)号：US20110164930A1

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：US13053861

申请日：2011-03-22

申请人： Sung Eun KIM ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Tae Kyun Kwon

发明人： Sung Eun KIM ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Tae Kyun Kwon

IPC分类号： B65G51/03

CPC分类号： H01L21/67784

摘要： Provided is a support platform of a non-contact transfer apparatus. The support platform is arranged horizontally and includes first and second members adding a lift force to a first force for lifting peripheral portions of a transferred object, wherein the first force is lower than a second force lifting a central portion of the transferred object.

摘要翻译： 提供一种非接触式传送装置的支撑平台。 支撑平台水平地布置，并且包括第一和第二构件，其将第一和第二构件加到用于提升转移物体的周边部分的第一力，其中第一力低于提升被转移物体的中心部分的第二力。

公开(公告)号：US07708866B2

公开(公告)日：2010-05-04

申请号：US11471782

申请日：2006-06-21

申请人： Sung Eun Kim ,  Cheon Soo Lee ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

发明人： Sung Eun Kim ,  Cheon Soo Lee ,  Hwan Kyu Yoo ,  Byung Han Yun

IPC分类号： C23C14/35

CPC分类号： C23C14/3464 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/34

摘要： A sputtering apparatus comprises a substrate unit that includes a substrate on which a target material is deposited in a chamber and a target unit on which a plurality of target sections formed of the target material are arranged. The sputtering apparatus further comprises a cathode plate that supplies electric power to surfaces of the plurality of target sections and a plurality of gas supply ports provided on regions between the plurality of target sections.

摘要翻译： 溅射装置包括：基板单元，其包括其中在其中沉积靶材料的基板和其上布置有由目标材料形成的多个目标部分的目标单元。 溅射装置还包括向多个目标部分的表面提供电力的阴极板和设置在多个目标部分之间的区域上的多个气体供应端口。

公开(公告)号：US08113761B2

公开(公告)日：2012-02-14

申请号：US11454868

申请日：2006-06-19

申请人： Sang Eon Ahn ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Cheon Soo Lee

发明人： Sang Eon Ahn ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Cheon Soo Lee

IPC分类号： B65G35/00

CPC分类号： B65G51/03

摘要： There is provided a support platform of a non-contact transfer apparatus. The support platform of a non-contact transfer apparatus includes a plurality of first holes each having a plurality of sub-holes arranged in a radial direction and a plurality of second holes arranged in a line proximate the first holes.

摘要翻译： 提供了非接触式传送装置的支撑平台。 非接触转印装置的支撑平台包括多个第一孔，每个第一孔具有沿径向布置的多个子孔，并且多个第二孔布置成靠近第一孔的线。

公开(公告)号：US07927045B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US11455930

申请日：2006-06-20

申请人： Sung Eun Kim ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Tae Kyun Kwon

发明人： Sung Eun Kim ,  Hyun Joo Jeon ,  Hwan Kyu Yoo ,  Ji Young Oh ,  Tae Kyun Kwon

IPC分类号： B65G53/00

CPC分类号： H01L21/67784

摘要： Provided is a support platform of a non-contact transfer apparatus. The support platform is arranged horizontally and includes first and second members adding a lift force to a first force for lifting peripheral portions of a transferred object, wherein the first force is lower than a second force lifting a central portion of the transferred object.

摘要翻译： 提供一种非接触式传送装置的支撑平台。 支撑平台水平地布置，并且包括第一和第二构件，其将第一和第二构件加到用于提升转移物体的周边部分的第一力，其中第一力低于提升被转移物体的中心部分的第二力。