公开(公告)号：US20070014028A1

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：US11534022

申请日：2006-09-21

申请人： Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Sohmer ,  Alexander Epple ,  Jurgen Grunwald ,  Jorg Schultz ,  Christa Muller

发明人： Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Sohmer ,  Alexander Epple ,  Jurgen Grunwald ,  Jorg Schultz ,  Christa Muller

IPC分类号： G02B21/02

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B13/143 ,  G02B13/18 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075

摘要： A reticle-masking (REMA) objective for imaging an object plane onto an image plane has a condenser portion, an intermediate portion, and a field lens portion. The three portions together have no more than 10 lenses with a combined total of no more than five aspheric lens surfaces. Each of the three portions of the REMA objective has one or two aspheric lens surfaces.

摘要翻译： 用于将物平面成像到图像平面上的掩模版掩模（REMA）物镜具有聚光部分，中间部分和场透镜部分。 三个部分一起不超过10个透镜，总共不超过五个非球面透镜表面。 REMA物镜的三个部分中的每一个具有一个或两个非球面透镜表面。

公开(公告)号：US20070258134A1

公开(公告)日：2007-11-08

申请号：US10571267

申请日：2004-07-14

申请人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

发明人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

IPC分类号： G02B17/00

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70241

摘要： An optical imaging system for a microlithography projection exposure system is used for imaging an object field arranged in an object plane of the imaging system into an image field arranged in an image plane of the imaging system. A projection objective or a relay objective to be used in the illumination system can be involved, in particular. The imaging system has a plurality of lenses that are arranged between the object plane and the image plane and in each case have a first lens surface and a second lens surface. At least one of the lenses is a double aspheric lens where the first lens surface and the second lens surface is an aspheric surface. Lenses of good quality that have the action of an asphere with very strong deformation can be produced in the case of double aspheric lenses with an acceptable outlay as regards the surface processing and testing of the lens surfaces.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光系统的光学成像系统用于将布置在成像系统的物体平面中的物体场成像为布置在成像系统的图像平面中的图像场。 特别是可以涉及在照明系统中使用的投影物镜或中继物镜。 成像系统具有布置在物平面和图像平面之间的多个透镜，并且在每种情况下具有第一透镜表面和第二透镜表面。 至少一个透镜是双非球面透镜，其中第一透镜表面和第二透镜表面是非球面。 对于具有可接受的关于透镜表面的表面处理和测试的费用的双非球面透镜的情况，可以产生具有非常强的变形非球面作用的良好质量的透镜。

公开(公告)号：US07551361B2

公开(公告)日：2009-06-23

申请号：US10571267

申请日：2004-07-14

申请人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

发明人： Hans-Juergen Rostalski ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Joerg Schultz ,  Franz-Josef Stickel ,  Wolfgang Singer ,  Joachim Wietzorrek

IPC分类号： G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70066 ,  G03F7/70241

摘要： An optical imaging system for a microlithography projection exposure system is used for imaging an object field arranged in an object plane of the imaging system into an image field arranged in an image plane of the imaging system. A projection objective or a relay objective to be used in the illumination system can be involved, in particular. The imaging system has a plurality of lenses that are arranged between the object plane and the image plane and in each case have a first lens surface and a second lens surface. At least one of the lenses is a double aspheric lens where the first lens surface and the second lens surface is an aspheric surface. Lenses of good quality that have the action of an asphere with very strong deformation can be produced in the case of double aspheric lenses with an acceptable outlay as regards the surface processing and testing of the lens surfaces.

摘要翻译： 用于微光刻投影曝光系统的光学成像系统用于将布置在成像系统的物体平面中的物体场成像为布置在成像系统的图像平面中的图像场。 特别是可以涉及在照明系统中使用的投影物镜或中继物镜。 成像系统具有布置在物平面和图像平面之间的多个透镜，并且在每种情况下具有第一透镜表面和第二透镜表面。 至少一个透镜是双非球面透镜，其中第一透镜表面和第二透镜表面是非球面。 对于具有可接受的关于透镜表面的表面处理和测试的费用的双非球面透镜的情况，可以产生具有非常强的变形非球面作用的良好质量的透镜。

公开(公告)号：US06680803B2

公开(公告)日：2004-01-20

申请号：US09969441

申请日：2001-10-01

申请人： Jörg Schultz ,  Alexander Sohmer ,  Alexander Epple ,  Johannes Wangler ,  Christa Müller

发明人： Jörg Schultz ,  Alexander Sohmer ,  Alexander Epple ,  Johannes Wangler ,  Christa Müller

IPC分类号： G02B300

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B13/143 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70216

摘要： Partial objective for illumination of an image field in an illuminating device of a microlithographic projection exposure apparatus, arranged between a aperture plane and an image plane. The partial objective comprises a first lens group and a second lens group with a lens with a first aspheric lens surface. The second lens group has at least a first lens with negative refractive power and at least a second lens with positive refractive power. The maximum field height Yimmax within the image field is at least 40 mm; the image-side numerical aperture is at least 0.15. The distribution of the chief ray angles PF over the field heights Yim within the image field is given by a pupil function PF(Yim), which consists of a linear contribution c1·Yim and a non-linear contribution PFNL(Yim), the non-linear contribution PFNL(Yim) being at least +15 mrad for the maximum positive field height Yimmax.

摘要翻译： 布置在孔平面和图像平面之间的微光刻投影曝光装置的照明装置中的照明场的部分目的。 部分目标包括具有第一非球面透镜表面的透镜的第一透镜组和第二透镜组。 第二透镜组具有至少具有负屈光力的第一透镜和至少具有正屈光力的第二透镜。 图像场内的最大场高Yim 至少为40 mm; 图像侧数值孔径至少为0.15。 在场域内的场高度Yim上的主射线角度PF的分布由瞳孔函数PF（Yim）给出，该光瞳函数PF（Yim）由线性贡献c1.Yim和非线性贡献PFNL（Yim）组成， 线性贡献PFNL（Yim）对于最大正场高度Yim 至少为+15mrad。

公开(公告)号：US07697198B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US10576265

申请日：2004-10-15

申请人： David Shafer ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Karl-Heinz Schuster

发明人： David Shafer ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Karl-Heinz Schuster

IPC分类号： G02B17/08

CPC分类号： G02B13/143 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection objective for projecting a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective, having: a first objective part for projecting an object field lying in the object plane into a first real intermediate image; a second objective part for generating a second real intermediate image with the radiation coming from the first objective part; a third objective part for generating a third real intermediate image with the radiation coming from the second objective part; and a fourth objective part for projecting the third real intermediate image into the image plane.

摘要翻译： 一种反折射投射物镜，用于将布置在投影物镜的物平面中的图案投影到投影物镜的像平面中，具有：第一物镜部分，用于将物平面中的物场投影到第一实际中间像中; 第二目标部分，用于利用来自第一目标部分的辐射产生第二实际中间图像; 第三目标部分，用于利用来自第二目标部分的辐射产生第三实际中间图像; 以及用于将第三实际中间图像投影到图像平面中的第四目标部分。

公开(公告)号：US07289279B2

公开(公告)日：2007-10-30

申请号：US11350941

申请日：2006-02-10

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Epple

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B3/00 ,  G02B9/00 ,  G02B9/34

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B9/14 ,  G02B13/0095 ,  G02B13/143 ,  G02B13/24 ,  G02B27/0043

摘要： A projection objective includes a first lens group (G1) of positive refractive power, a second lens group (G2) of negative refractive power and at least one further lens group of positive refractive power in which a diaphragm is mounted. The first lens group (G1) includes exclusively lenses of positive refractive power. The number of lenses of positive refractive power (L101 to L103; L201, L202) of the first lens group (G1) is less than the number of lenses of positive refractive power (L116 to L119; L215 to L217) which are mounted forward of the diaphragm of the further lens group (G5).

摘要翻译： 投影物镜包括正折射光焦度的第一透镜组（G 1），负折射光焦度的第二透镜组（G 2）和安装有光阑的至少一个正屈光力透镜组。 第一透镜组（G 1）仅包括具有正屈光力的透镜。 第一透镜组（G 1）的正屈光力量的透镜数（L 101〜L 103; L 201，L 202）的数量小于正折射力透镜的数量（L 116〜L 119; L 215 至L 217），其安装在另一透镜组（G 5）的隔膜的前方。

公开(公告)号：US06806942B2

公开(公告)日：2004-10-19

申请号：US10434952

申请日：2003-05-08

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Wilhelm Ulrich ,  Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Wolfgang Singer ,  Alexander Epple ,  Helmut Beierl ,  Reiner Garreis

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Wilhelm Ulrich ,  Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Wolfgang Singer ,  Alexander Epple ,  Helmut Beierl ,  Reiner Garreis

IPC分类号： G03B2754

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B13/143 ,  G02B13/24

摘要： A projection exposure system is proposed which is positionable between a first object and a second object for imaging the first object in a region of the second object with light of a wavelength band having a width &dgr;&lgr; about a central working wavelength &lgr;, wherein a relative width &dgr;&lgr;/&lgr; of the wavelength band is larger than 0.002, in particular, larger than 0.005, for example, of the Hg-I-line. The projection exposure system is a so-called three-bulge system comprising three bulges having, as a whole, a positive refractive power and two waists having, as a whole, a negative refractive power. By applying suitable measures, in particular, by suitably selecting the material for the lenses forming the projection exposure system, the long-term stability of the system is increased.

摘要翻译： 提出了一种投影曝光系统，其可定位在第一物体和第二物体之间，用于在具有围绕中心工作波长λ的宽度偏差的波长带的光的第二物体的区域内成像第一物体，其中相对宽度 波长带的偏差λ/λ大于0.002，特别是大于0.005，例如Hg-I线。 投影曝光系统是所谓的三凸起系统，其包括总体上具有正屈光力的三个凸起，以及整体上具有负屈光力的两个凸起。 通过适当的措施，特别是通过适当选择形成投影曝光系统的透镜的材料，可以提高系统的长期稳定性。

公开(公告)号：US20080037111A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US10576265

申请日：2004-10-15

申请人： David Shafer ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Karl-Heinz Schuster

发明人： David Shafer ,  Alexander Epple ,  Aurelian Dodoc ,  Wilhelm Ulrich ,  Karl-Heinz Schuster

IPC分类号： G02B17/08

CPC分类号： G02B13/143 ,  G02B17/08 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70275

摘要： A catadioptric projection objective for projecting a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective, having: a first objective part for projecting an object field lying in the object plane into a first real intermediate image; a second objective part for generating a second real intermediate image with the radiation coming from the first objective part; a third objective part for generating a third real intermediate image with the radiation coming from the second objective part; and a fourth objective part for projecting the third real intermediate image into the image plane.

摘要翻译： 一种反折射投射物镜，用于将布置在投影物镜的物平面中的图案投影到投影物镜的像平面中，具有：第一物镜部分，用于将物平面中的物场投影到第一实际中间像中; 第二目标部分，用于利用来自第一目标部分的辐射产生第二实际中间图像; 第三目标部分，用于利用来自第二目标部分的辐射产生第三实际中间图像; 以及用于将第三实际中间图像投影到图像平面中的第四目标部分。

公开(公告)号：US20060176573A1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：US11350941

申请日：2006-02-10

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Epple

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B9/14 ,  G02B13/0095 ,  G02B13/143 ,  G02B13/24 ,  G02B27/0043

摘要： A projection objective includes a first lens group (G1) of positive refractive power, a second lens group (G2) of negative refractive power and at least one further lens group of positive refractive power in which a diaphragm is mounted. The first lens group (G1) includes exclusively lenses of positive refractive power. The number of lenses of positive refractive power (L101 to L103; L201, L202) of the first lens group (G1) is less than the number of lenses of positive refractive power (L116 to L119; L215 to L217) which are mounted forward of the diaphragm of the further lens group (G5).

摘要翻译： 投影物镜包括正折射光焦度的第一透镜组（G 1），负折射光焦度的第二透镜组（G 2）和安装有光阑的至少一个正屈光力透镜组。 第一透镜组（G 1）仅包括具有正屈光力的透镜。 第一透镜组（G 1）的正屈光力量的透镜数（L 101〜L 103; L 201，L 202）的数量小于正折射力透镜的数量（L 116〜L 119; L 215 至L 217），其安装在另一透镜组（G 5）的隔膜的前方。

公开(公告)号：US07023627B2

公开(公告)日：2006-04-04

申请号：US10873292

申请日：2004-06-23

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Epple

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Alexander Epple

IPC分类号： G02B9/60

CPC分类号： G03F7/70241 ,  G02B9/14 ,  G02B13/0095 ,  G02B13/143 ,  G02B13/24 ,  G02B27/0043

摘要： A projection objective includes a first lens group (G1) of positive refractive power, a second lens group (G2) of negative refractive power and at least one further lens group of positive refractive power in which a diaphragm is mounted. The first lens group (G1) includes exclusively lenses of positive refractive power. The number of lenses of positive refractive power (L101 to L103; L201, L202) of the first lens group (G1) is less than the number of lenses of positive refractive power (L116 to L119; L215 to L217) which are mounted forward of the diaphragm of the further lens group (G5).

摘要翻译： 投影物镜包括正折射光焦度的第一透镜组（G 1），负折射光焦度的第二透镜组（G 2）和安装有光阑的至少一个正屈光力透镜组。 第一透镜组（G 1）仅包括具有正屈光力的透镜。 第一透镜组（G 1）的正屈光力量的透镜数（L 101〜L 103; L 201，L 202）的数量小于正折射力透镜的数量（L 116〜L 119; L 215 至L 217），其安装在另一透镜组（G 5）的隔膜的前方。