公开(公告)号：US06878501B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US09842114

申请日：2001-04-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： C08F232/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F10/00 ,  C08F214/18

CPC分类号： C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40

摘要： Polymers comprising recurring units of cycloolefin having fluorinated alkyl introduced therein are novel and have transparency and alkali solubility. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含引入其中具有氟化烷基的环烯烃的重复单元的聚合物是新颖的并且具有透明性和碱溶解性。 使用聚合物，获得了具有低的F2准分子激光吸收的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06730451B2

公开(公告)日：2004-05-04

申请号：US09735521

申请日：2000-12-14

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03F7038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Polymers comprising recurring units of an acrylic derivative of fluorinated backbone represented by formula (1) are novel. R1, R2 and R3 are independently H, F, C1-20 alkyl or fluorinated C1-20 alkyl, at least one of R1, R2 and R3 contains fluorine, and R4 is an acid labile group. Using such polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含由式（1）表示的氟化主链的丙烯酸衍生物的重复单元的聚合物是新颖的.R 1，R 2和R 3独立地是H，F，C 1-20烷基或氟化C 1-20烷基 ，R 1，R 2和R 3中的至少一个含有氟，R 4是酸不稳定基团。 使用这种聚合物，获得具有F2准分子激光的低吸收性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06710148B2

公开(公告)日：2004-03-23

申请号：US10068298

申请日：2002-02-08

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： C08F11800

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A copolymer of an acrylate monomer containing fluorine at &agr;-position with a norbornene derivative is highly transparent to VUV radiation and resistant to dry etching. A resist composition using the resin as a base polymer is sensitive to high-energy radiation below 200 nm, has excellent sensitivity, and is suited for lithographic microprocessing.

摘要翻译： 在α-位含氟的丙烯酸酯单体与降冰片烯衍生物的共聚物对VUV辐射是高度透明的并且耐干蚀刻。 使用树脂作为基础聚合物的抗蚀剂组合物对于低于200nm的高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，并且适用于光刻微处理。

公开(公告)号：US06461790B1

公开(公告)日：2002-10-08

申请号：US09658604

申请日：2000-09-08

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada ,  Mutsuo Nakashima ,  Masaru Sasago ,  Shinji Kishimura

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada ,  Mutsuo Nakashima ,  Masaru Sasago ,  Shinji Kishimura

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

摘要： Polymers comprising fluorinated vinyl phenol units and having acid labile groups partially introduced are novel. Using such polymers, resist compositions featuring transparency to excimer laser and alkali solubility are obtained.

摘要翻译： 包含氟化乙烯基苯酚单元和部分引入酸不稳定基团的聚合物是新颖的。 使用这种聚合物，获得具有对准分子激光的透明度和碱溶性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06461789B1

公开(公告)日：2002-10-08

申请号：US09643969

申请日：2000-08-23

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03F7038

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108

摘要： Polymers comprising fluorinated vinyl alcohol units and having acid labile groups partially introduced are novel. Using such polymers, resist compositions featuring transparency to excimer laser light and alkali solubility are obtained.

摘要翻译： 包含氟化乙烯醇单元和部分引入酸不稳定基团的聚合物是新颖的。 使用这种聚合物，获得具有对准分子激光的透明度和碱溶性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06790586B2

公开(公告)日：2004-09-14

申请号：US09947504

申请日：2001-09-07

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03F7038

CPC分类号： G03F7/0395 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108

摘要： A resist composition comprising (A) a polymer comprising recurring units having an alicyclic hydrocarbon backbone to which a carboxylate moiety capable of generating carboxylic acid when decomposed under acidic conditions is attached through a C1-C20 alkylene spacer, (B) a photoacid generator, and (C) an organic solvent is sensitive to high-energy radiation, and has excellent sensitivity and resolution at a wavelength below 180 nm, and good plasma etching resistance. Because these features of the inventive resist composition enable its use particularly as a resist at the exposure wavelength of a F2 excimer laser, a finely defined pattern can easily be formed, making the resist ideal as a micropatterning material in VLSI fabrication.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含（A）包含具有脂环族烃主链的重复单元的聚合物，当在酸性条件下分解时，能够产生羧酸的羧酸酯部分通过C1-C20亚烷基间隔基，（B）光致酸产生剂和 （C）有机溶剂对高能辐射敏感，并且在低于180nm的波长下具有优异的灵敏度和分辨率，以及良好的等离子体耐蚀刻性。 由于本发明抗蚀剂组合物的这些特征使得其能够特别用作F2准分子激光器的曝光波长处的抗蚀剂，因此可以容易地形成精细限定的图案，使得抗蚀剂在VLSI制造中理想为微图案材料。

公开(公告)号：US06579658B2

公开(公告)日：2003-06-17

申请号：US09783446

申请日：2001-02-15

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03C1492

CPC分类号： C08F222/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/108

摘要： Polymers comprising recurring units of fluorinated maleic anhydride and/or fluorinated maleimide are novel. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含氟化马来酸酐和/或氟化马来酰亚胺的重复单元的聚合物是新颖的。 使用聚合物，获得了具有低的F2准分子激光吸收的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06511787B2

公开(公告)日：2003-01-28

申请号：US09947764

申请日：2001-09-07

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： An acrylic resin containing hexafluoroisopropanol units has high transmittance to VUV radiation. A resist composition using the resin as a base polymer has high transparency, substrate adhesion, alkali developability and acid-elimination capability and is suited for lithographic microprocessing.

公开(公告)号：US06461791B1

公开(公告)日：2002-10-08

申请号：US09686955

申请日：2000-10-12

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Jun Watanabe ,  Mutsuo Nakashima

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Jun Watanabe ,  Mutsuo Nakashima

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382

摘要： Polymers of a fluorinated backbone having recurring units of formula (1) are novel: R1 is H, F, C1-20 alkyl or fluorinated C1-20 alkyl, R2 is F, C1-20 alkyl or fluorinated C1-20 alkyl, and R3 is C6-20 aryl which may have attached thereto a hydroxyl group and/or a hydroxyl group substituted with an OR4 group wherein R4 is an acid labile group. Using such polymers, resist compositions featuring transparency to excimer laser light and alkali solubility are obtained.

摘要翻译： 具有式（1）重复单元的氟化主链的聚合物是新颖的：R1是H，F，C1-20烷基或氟化C1-20烷基，R2是F，C1-20烷基或氟化C1-20烷基，R3 是可以与其连接羟基和/或被OR4基团取代的羟基的C6-20芳基，其中R4是酸不稳定基团。 使用这种聚合物，获得具有对准分子激光的透明度和碱溶性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06369279B1

公开(公告)日：2002-04-09

申请号：US09657515

申请日：2000-09-07

申请人： Mutsuo Nakashima ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Mutsuo Nakashima ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： C07C4312

CPC分类号： C07C69/017 ,  C07C43/225 ,  C07C43/313 ,  C07C69/712 ,  C07C69/96 ,  C07F7/1804 ,  Y02P20/55

摘要： Styrene derivatives of formula (1) are novel wherein R1 is hydrogen, C1-20 alkyl, fluoro-substituted C1-20 alkyl, chloro, or trichloromethyl, R2 is a phenol protecting group, p, q and r are integers in the range of 0≦p

摘要翻译： 式（1）的苯乙烯衍生物是新的，其中R 1是氢，C 1-20烷基，氟取代的C 1-20烷基，氯或三氯甲基，R 2是苯酚保护基，p，q和r是在 0 <= p <5,0 <= q <5,0