公开(公告)号：US08567214B2

公开(公告)日：2013-10-29

申请号：US13169459

申请日：2011-06-27

申请人： Junko Miyasaka ,  Akio Koike ,  Tomonori Ogawa ,  Masahiro Kawagishi

发明人： Junko Miyasaka ,  Akio Koike ,  Tomonori Ogawa ,  Masahiro Kawagishi

IPC分类号： C03B19/14

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/20 ,  Y02P40/57

摘要： The present invention relates to a method for producing a glass body containing: hydrolyzing a silicon compound and a compound containing a metal serving as a dopant, in a flame projected from a burner to form glass fine particles; and depositing and growing the formed glass fine particles on a base material, in which a raw material mixed gas containing a gas of the silicon compound, a gas of the compound containing a metal serving as a dopant, and either one of a combustible gas and a combustion supporting gas is fed into a central nozzle (A) positioning in the center of the burner; the other gas of the combustible gas and the combustion supporting gas is fed into a nozzle (B) different from the central nozzle (A) of the burner; a combustible gas or a combustion supporting gas is arbitrarily fed into a nozzle different from the nozzles (A) and (B); and a flow rate of the raw material mixed gas is 50% or more and not more than 90% of the largest flow rate among flow rate(s) of the combustible gas(ses) and the combustion supporting gas(ses) fed from other nozzle or nozzles than the central nozzle (A).

摘要翻译： 本发明涉及一种玻璃体的制造方法，其特征在于，在从燃烧器投射的火焰中，含有硅化合物和含有作为掺杂剂的金属的化合物，形成玻璃微粒; 并且将形成的玻璃微粒沉积并生长在基材上，其中含有硅化合物的气体的原料混合气体，含有作为掺杂剂的金属的化合物的气体，以及可燃性气体和 燃烧支持气体被供给到位于燃烧器中心的中心喷嘴（A）中; 可燃气体和燃烧辅助气体的其他气体被供给到与燃烧器的中心喷嘴（A）不同的喷嘴（B）中; 将可燃气体或燃烧性支持气体任意地供给到与喷嘴（A）和（B）不同的喷嘴中; 并且原料混合气体的流量在可燃气体（s）和从其他方式供给的燃烧负载气体（s））的流量之间的最大流量的50％以上且不大于90％ 喷嘴或喷嘴比中心喷嘴（A）。

公开(公告)号：US08546283B2

公开(公告)日：2013-10-01

申请号：US13531928

申请日：2012-06-25

申请人： Junko Miyasaka ,  Akio Koike ,  Tomonori Ogawa

发明人： Junko Miyasaka ,  Akio Koike ,  Tomonori Ogawa

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C3/112

CPC分类号： C03C3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24

摘要： The present invention relates to a substrate for EUV lithography optical member, comprising a silica glass containing TiO2, in which the substrate has two opposite surfaces, and the substrate has temperatures at which a coefficient of linear thermal expansion (CTE) is 0 ppb/° C. (Cross-Over Temperature: COT), and in which the two opposite surfaces have difference in the COTs of 5° C. or more.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于EUV光刻光学部件的基板，其包括含有二氧化钛的二氧化硅玻璃，其中该基板具有两个相对的表面，该基板具有线性热膨胀系数（CTE）为0ppb /°的温度 C.（交叉温度：COT），其中两个相对表面的COT值在5℃以上有差异。

公开(公告)号：US20120264584A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：US13531928

申请日：2012-06-25

申请人： Junko Miyasaka ,  Akio Koike ,  Tomonori Ogawa

发明人： Junko Miyasaka ,  Akio Koike ,  Tomonori Ogawa

IPC分类号： C03C3/04

CPC分类号： C03C3/06 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24

摘要： The present invention relates to a substrate for EUV lithography optical member, comprising a silica glass containing TiO2, in which the substrate has two opposite surfaces, and the substrate has temperatures at which a coefficient of linear thermal expansion (CTE) is 0 ppb/° C. (Cross-Over Temperature: COT), and in which the two opposite surfaces have difference in the COTs of 5° C. or more.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于EUV光刻光学部件的基板，其包括含有二氧化钛的二氧化硅玻璃，其中该基板具有两个相对的表面，该基板具有线性热膨胀系数（CTE）为0ppb /°的温度 C.（交叉温度：COT），其中两个相对表面的COT值在5℃以上有差异。

公开(公告)号：US20120205343A1

公开(公告)日：2012-08-16

申请号：US13445345

申请日：2012-04-12

申请人： Akio Koike ,  Junko Miyasaka

发明人： Akio Koike ,  Junko Miyasaka

IPC分类号： C03C15/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C33/3842 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/14 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C15/00 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44

摘要： The present invention relates to a method for producing a silica glass substrate for an imprint mold, containing: obtaining a glass body from a glass-forming raw material containing an SiO2 precursor; machining the glass body into a glass substrate having a predetermined shape; and removing an affected layer on a surface of the glass substrate, to produce a silica glass substrate for an imprint mold having a fictive temperature distribution in a region from the surface to a depth of 10 μm on the side to be subjected to a transfer pattern formation of the glass substrate being within ±30° C.

摘要翻译： 本发明涉及一种压印模具用石英玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括：从含有SiO 2前体的玻璃成形原料获得玻璃体; 将玻璃体加工成具有预定形状的玻璃基板; 并除去玻璃基板的表面上的受影响层，从而生成用于压印模具的石英玻璃基板，该印模具具有在要进行转印图案的一侧的表面至深度10μm的区域中具有虚构的温度分布 玻璃基板的形成在±30℃以内

公开(公告)号：US08735308B2

公开(公告)日：2014-05-27

申请号：US12718776

申请日：2010-03-05

申请人： Akio Koike ,  Chikaya Tamitsuji ,  Kunio Watanabe ,  Tomonori Ogawa

发明人： Akio Koike ,  Chikaya Tamitsuji ,  Kunio Watanabe ,  Tomonori Ogawa

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/00 ,  C03C19/00 ,  C03C3/06

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/36 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/54

摘要： The present invention relates to an optical member including a TiO2-containing silica glass having: a TiO2 concentration of from 3 to 10% by mass; a Ti3+ concentration of 100 wt ppm or less; a thermal expansion coefficient at from 0 to 100° C., CTE0-100, of 0±150 ppb/° C.; and an internal transmittance in the wavelength range of 400 to 700 nm per a thickness of 1 mm, T400-700, of 80% or more, in which the optical member has a ratio of variation of Ti3+ concentration to an average value of the Ti3+ concentration, ΔTi3+/Ti3+, on an optical use surface, is 0.2 or less.

摘要翻译： 本发明涉及一种含有TiO2含量为3〜10质量％的含TiO 2的二氧化硅玻璃的光学构件， Ti3 +浓度为100重量ppm以下; 0-100℃的热膨胀系数，CTE0-100，为0±150ppb /℃。 并且在400〜700nm的波长范围内的内部透射率，每1mm厚度，T400〜700，为80％以上，其中光学部件具有Ti 3+浓度的变化比与Ti 3+的平均值的比值， 在光学用表面上的浓度＆Dgr; Ti 3+ / Ti 3+为0.2以下。

公开(公告)号：US20120121857A1

公开(公告)日：2012-05-17

申请号：US13295652

申请日：2011-11-14

申请人： Akio Koike ,  Takahiro Mitsumori ,  Yasutomi Iwahashi ,  Tomonori Ogawa

发明人： Akio Koike ,  Takahiro Mitsumori ,  Yasutomi Iwahashi ,  Tomonori Ogawa

IPC分类号： C03C3/04 ,  B32B3/00 ,  C03B25/00

CPC分类号： C03B19/1453 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/24

摘要： The present invention relates to a process for production of a TiO2—SiO2 glass body, comprising a step of, when an annealing point of a TiO2—SiO2 glass body after transparent vitrification is taken as T1(° C.), holding the glass body after transparent vitrification in a temperature region of from T1−90(° C.) to T1−220(° C.) for 120 hours or more.

摘要翻译： 本发明涉及一种制备TiO 2 -SiO 2玻璃体的方法，包括以下步骤：当将透明玻璃化后的TiO 2 -SiO 2玻璃体的退火点作为T1（℃）时，将玻璃体 在从T1-90（℃）到T1-220（℃）的温度区域透明玻璃化120小时以上。

公开(公告)号：US08590342B2

公开(公告)日：2013-11-26

申请号：US13295652

申请日：2011-11-14

申请人： Akio Koike ,  Takahiro Mitsumori ,  Yasutomi Iwahashi ,  Tomonori Ogawa

发明人： Akio Koike ,  Takahiro Mitsumori ,  Yasutomi Iwahashi ,  Tomonori Ogawa

IPC分类号： C03B25/00 ,  C03B19/00

CPC分类号： C03B19/1453 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/24

摘要： The present invention relates to a process for production of a TiO2—SiO2 glass body, comprising a step of, when an annealing point of a TiO2—SiO2 glass body after transparent vitrification is taken as T1(° C.), holding the glass body after transparent vitrification in a temperature region of from T1−90(° C.) to T1−220(° C.) for 120 hours or more.

摘要翻译： 本发明涉及一种制备TiO 2 -SiO 2玻璃体的方法，包括以下步骤：当将透明玻璃化后的TiO 2 -SiO 2玻璃体的退火点作为T1（℃）时，将玻璃体 在从T1-90（℃）到T1-220（℃）的温度区域透明玻璃化120小时以上。

公开(公告)号：US20120238434A1

公开(公告)日：2012-09-20

申请号：US13486485

申请日：2012-06-01

申请人： Akio Koike ,  Takahiro Mitsumori ,  Tomonori Ogawa

发明人： Akio Koike ,  Takahiro Mitsumori ,  Tomonori Ogawa

IPC分类号： C03C3/06

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/42

摘要： The present invention relates to a TiO2-containing silica glass containing TiO2 in an amount of from 5 to 10 mass % and at least one of B2O3, P2O5 and S in an amount of from 50 ppb by mass to 5 mass % in terms of the total content.

摘要翻译： 本发明涉及含有5〜10质量％的TiO 2和B 2 O 3，P 2 O 5，S中的至少一种的含TiO 2的二氧化硅玻璃，其量为50ppb〜5质量％ 总内容

公开(公告)号：US07989378B2

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：US12824923

申请日：2010-06-28

申请人： Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

发明人： Akio Koike ,  Yasutomi Iwahashi ,  Shinya Kikugawa

IPC分类号： C03C3/06 ,  C03C3/11 ,  C03C3/112

CPC分类号： C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： The present invention is to provide a TiO2—SiO2 glass having suitable thermal expansion properties as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO2-containing silica glass having a temperature, at which a coefficient of thermal expansion is 0 ppb/° C., falling within the range of 23±4° C. and a temperature width, in which a coefficient of thermal expansion is 0±5 ppb/° C., of 5° C. or more.

摘要翻译： 本发明提供具有合适的热膨胀性能的TiO 2 -SiO 2玻璃作为EUVL用曝光工具的光学部件。 本发明涉及热膨胀系数为0ppb /℃的温度为23±4℃的温度范围的含TiO2的二氧化硅玻璃，其温度范围为 的热膨胀为0±5ppb /℃，为5℃以上。

公开(公告)号：US07462574B2

公开(公告)日：2008-12-09

申请号：US11174533

申请日：2005-07-06

申请人： Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

发明人： Yasutomi Iwahashi ,  Akio Koike

IPC分类号： C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  C03B19/00 ,  C03B19/14

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/42

摘要： A silica glass containing TiO2, characterized in that the fluctuation of the refractive index (Δn) is at most 2×10−4 within an area of 30 mm×30 mm in at least one plane. A silica glass containing TiO2, characterized in that the TiO2 concentration is at least 1 mass %, and the striae pitch is at most 10 μm. An optical material for EUV lithography, characterized in that it is made of a silica glass containing TiO2, and the fluctuation of the refractive index (Δn) is at most 2×10−4 in a plane perpendicular to the incident light direction. An optical material for EUV lithography, characterized in that it is made of a silica glass containing TiO2, wherein the TiO2 concentration is at least 1 mass %, and the difference between the maximum value and the minimum value of the TiO2 concentration is at most 0.06 mass % in a plane perpendicular to the incident light direction.

摘要翻译： 含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其特征在于，在至少一个平面中，在30mm×30mm的面积内，折射率（Deltan）的波动至多为2×10 -4。 含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其特征在于TiO 2浓度为1质量％以上，条纹间距为10μm以下。 一种用于EUV光刻的光学材料，其特征在于它由含有TiO 2的二氧化硅玻璃制成，并且在垂直于入射光方向的平面中折射率（Deltan）的波动为至多2×10 -4。 一种用于EUV光刻的光学材料，其特征在于，其由TiO 2的二氧化硅玻璃制成，其中TiO 2浓度为至少1质量％，并且TiO 2浓度的最大值和最小值之间的差为至多0.06 在垂直于入射光方向的平面中的质量％。