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公开(公告)号：US6139763A
公开(公告)日：2000-10-31
申请号：US451778
申请日：1999-12-01
IPC分类号： H01L21/304 , C09G1/02 , C09K3/14 , C23F1/18 , C23F1/30
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1463
摘要： A polishing composition comprising the following components:(a) an abrasive,(b) an oxidizing agent capable of oxidizing tantalum,(c) a reducing agent capable of reducing tantalum oxide, and(d) water.
摘要翻译： 一种抛光组合物，其包含以下组分：（a）研磨剂，（b）能够氧化钽的氧化剂，（c）能够还原氧化钽的还原剂和（d）水。
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公开(公告)号：US06428721B1
公开(公告)日：2002-08-06
申请号：US09564546
申请日：2000-05-04
IPC分类号： C09K1306
CPC分类号： H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1463
摘要： A polishing composition comprising the following components: (a) an abrasive, (b) &agr;-alanine, (c) hydrogen peroxide, and (d) water.
摘要翻译： 一种抛光组合物，其包含以下组分：（a）研磨剂，（b）α-丙氨酸，（c）过氧化氢和（d）水。
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公开(公告)号：US6027554A
公开(公告)日：2000-02-22
申请号：US949776
申请日：1997-10-14
申请人： Hitoshi Kodama , Satoshi Suzumura , Noritaka Yokomichi , Shirou Miura , Hideki Otake , Atsunori Kawamura , Masatoki Ito
发明人： Hitoshi Kodama , Satoshi Suzumura , Noritaka Yokomichi , Shirou Miura , Hideki Otake , Atsunori Kawamura , Masatoki Ito
CPC分类号： C09G1/02
摘要： A polishing composition comprising silicon nitride fine powder, water and an acid.
摘要翻译： 包含氮化硅细粉末，水和酸的抛光组合物。
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公开(公告)号：US5733819A
公开(公告)日：1998-03-31
申请号：US789541
申请日：1997-01-27
申请人： Hitoshi Kodama , Satoshi Suzumura , Noritaka Yokomichi , Shirou Miura , Hideki Otake , Atsunori Kawamura , Masatoki Ito
发明人： Hitoshi Kodama , Satoshi Suzumura , Noritaka Yokomichi , Shirou Miura , Hideki Otake , Atsunori Kawamura , Masatoki Ito
CPC分类号： C09G1/02
摘要： A polishing composition comprising silicon nitride fine powder, water and an acid.
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