公开(公告)号：US06916534B2

公开(公告)日：2005-07-12

申请号：US10092503

申请日：2002-03-08

申请人： Kazuhiro Wataya ,  Takao Maeda ,  Toshihiko Tsukatani

发明人： Kazuhiro Wataya ,  Takao Maeda ,  Toshihiko Tsukatani

IPC分类号： C01F17/00 ,  C04B35/50 ,  C04B35/622 ,  B32B15/02 ,  B32B19/00

CPC分类号： C04B35/50 ,  C01F17/0043 ,  C01P2004/32 ,  C01P2004/54 ,  C01P2004/61 ,  C01P2006/10 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/16 ,  C01P2006/21 ,  C01P2006/90 ,  C04B35/622 ,  Y10T428/29 ,  Y10T428/2982

摘要： Spherical particles of a rare earth (inclusive of yttrium)-containing compound and having a breaking strength of 10-300 MPa and an average particle diameter of 10-80 μm are suitable for plasma spraying.

摘要翻译： 含稀土（含钇）的化合物的球形颗粒具有10-300MPa的断裂强度和10-80μm的平均粒径适用于等离子喷涂。

公开(公告)号：US08138060B2

公开(公告)日：2012-03-20

申请号：US12258850

申请日：2008-10-27

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

IPC分类号： B32B27/32 ,  B32B9/04 ,  B32B13/04 ,  B32B9/00 ,  B32B19/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C18/1216 ,  C23C24/04

摘要： A wafer has a rare earth oxide layer disposed, typically sprayed, on a substrate. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

摘要翻译： 晶片具有通常喷涂在基板上的稀土氧化物层。 作为等离子体蚀刻或沉积系统中的虚设晶片是有用的。

公开(公告)号：US07968205B2

公开(公告)日：2011-06-28

申请号：US11550929

申请日：2006-10-19

申请人： Hajime Nakano ,  Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda

发明人： Hajime Nakano ,  Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda

IPC分类号： B32B9/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C24/04 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32559

摘要： A corrosion resistant member to be exposed to a halogen-containing gas atmosphere or a halogen-containing gas plasma atmosphere, comprising a substrate and a plurality of layers deposited thereon including a layer of rare earth fluoride providing the outermost surface and a layer of rare earth oxide having a porosity of less than 5% underlying the rare earth fluoride layer.

摘要翻译： 暴露于含卤素气体气氛或含卤素的气体等离子体气氛中的耐腐蚀构件，包括基材和沉积在其上的多层，其中包括提供最外表面的稀土氟化物层和稀土层 具有低于稀土氟化物层下面5％孔隙率的氧化物。

公开(公告)号：US07816013B2

公开(公告)日：2010-10-19

申请号：US12326310

申请日：2008-12-02

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

IPC分类号： B32B9/04 ,  B32B9/06 ,  B32B13/04

CPC分类号： H01L21/02002

摘要： A wafer has a rare earth fluoride coating disposed, typically sprayed on a substrate as an outermost layer, the rare earth fluoride being selected from lanthanoid fluorides, yttrium fluoride, and scandium fluoride. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

摘要翻译： 晶片具有通常喷涂在作为最外层的基板上的稀土氟化物涂层，稀土氟化物选自镧系氟化物，氟化钇和氟化钪。 作为等离子体蚀刻或沉积系统中的虚设晶片是有用的。

公开(公告)号：US07674427B2

公开(公告)日：2010-03-09

申请号：US11476066

申请日：2006-06-28

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

IPC分类号： C22C28/00 ,  C23G1/02 ,  E01B9/10 ,  F16B33/00

CPC分类号： H01J37/32431 ,  C22B59/00 ,  C22C28/00 ,  C23G1/10 ,  H01J37/32477 ,  H01J2237/022 ,  Y10S438/968

摘要： By using a rare earth metal having a minimal content of impurity metal element, machining it into a member and cleaning with an organic acid-base capping agent, there is obtained a rare earth metal member composed entirely of a rare earth metal and containing not more than 100 ppm of impurity metal element in a sub-surface zone, which member is characterized by a high surface purity, a large grain size, minimized grain boundaries, and improved halogen resistance or corrosion resistance.

摘要翻译： 通过使用杂质金属元素含量最少的稀土金属，将其加工成部件并用有机酸基封盖剂进行清洗，得到完全由稀土金属组成的稀土金属部件，并且不含有 在表面区域中超过100ppm的杂质金属元素，其特征在于高表面纯度，大晶粒尺寸，最小化的晶界和改善的耐卤素性或耐腐蚀性。

公开(公告)号：US20070003790A1

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：US11476066

申请日：2006-06-28

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Hajime Nakano ,  Takao Maeda

IPC分类号： B32B19/00

CPC分类号： H01J37/32431 ,  C22B59/00 ,  C22C28/00 ,  C23G1/10 ,  H01J37/32477 ,  H01J2237/022 ,  Y10S438/968

摘要： By using a rare earth metal having a minimal content of impurity metal element, machining it into a member and cleaning with an organic acid-base capping agent, there is obtained a rare earth metal member composed entirely of a rare earth metal and containing not more than 100 ppm of impurity metal element in a sub-surface zone, which member is characterized by a high surface purity, a large grain size, minimized grain boundaries, and improved halogen resistance or corrosion resistance.

摘要翻译： 通过使用杂质金属元素含量最少的稀土金属，将其加工成部件并用有机酸基封盖剂进行清洗，得到完全由稀土金属组成的稀土金属部件，并且不含有 在表面区域中超过100ppm的杂质金属元素，其特征在于高表面纯度，大晶粒尺寸，最小化的晶界和改善的耐卤素性或耐腐蚀性。

公开(公告)号：US06767636B2

公开(公告)日：2004-07-27

申请号：US10101612

申请日：2002-03-21

申请人： Yasushi Takai ,  Takao Maeda ,  Toshihiko Tsukatani

发明人： Yasushi Takai ,  Takao Maeda ,  Toshihiko Tsukatani

IPC分类号： B32B516

CPC分类号： C23C4/11 ,  Y10T428/24372 ,  Y10T428/24413 ,  Y10T428/256 ,  Y10T428/2982

摘要： Rare earth oxide particles having an average particle diameter of 3-20 &mgr;m, a dispersion index of up to 0.4, and an aspect ratio of up to 2 are suitable for thermal spraying. Despite their high melting point, the rare earth oxide particles of high purity can form an adherent coating by thermal spraying.

摘要翻译： 平均粒径为3-20μm的稀土氧化物粒子，分散指数为0.4以上，纵横比为2以下，适用于热喷涂。 尽管高熔点，但高纯度的稀土氧化物颗粒可以通过热喷涂形成粘附涂层。

公开(公告)号：US08337956B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US13331180

申请日：2011-12-20

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

IPC分类号： B05D3/02 ,  B05D3/12 ,  B05D1/36 ,  B05D7/00 ,  C23C4/04

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C18/1216 ,  C23C24/04

摘要： A wafer has a rare earth oxide layer disposed, typically sprayed, on a substrate. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

公开(公告)号：US20120088034A1

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：US13331180

申请日：2011-12-20

申请人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

发明人： Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda ,  Junichi Nakayama ,  Hirofumi Kawazoe ,  Masaru Konya ,  Noriaki Hamaya ,  Hajime Nakano

IPC分类号： B05D7/00 ,  C23C4/10 ,  C23C4/04 ,  B05D3/02 ,  B05D3/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C18/1216 ,  C23C24/04

摘要： A wafer has a rare earth oxide layer disposed, typically sprayed, on a substrate. It is useful as a dummy wafer in a plasma etching or deposition system.

摘要翻译： 晶片具有通常喷涂在基板上的稀土氧化物层。 作为等离子体蚀刻或沉积系统中的虚设晶片是有用的。

公开(公告)号：US20070111030A1

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：US11550929

申请日：2006-10-19

申请人： Hajime NAKANO ,  Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda

发明人： Hajime NAKANO ,  Toshihiko Tsukatani ,  Takao Maeda

IPC分类号： B32B19/00

CPC分类号： C23C4/18 ,  C23C4/02 ,  C23C4/11 ,  C23C4/134 ,  C23C24/04 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32559

摘要： A corrosion resistant member to be exposed to a halogen-containing gas atmosphere or a halogen-containing gas plasma atmosphere, comprising a substrate and a plurality of layers deposited thereon including a layer of rare earth fluoride providing the outermost surface and a layer of rare earth oxide having a porosity of less than 5% underlying the rare earth fluoride layer.

摘要翻译： 暴露于含卤素气体气氛或含卤素的气体等离子体气氛中的耐腐蚀构件，包括基材和沉积在其上的多层，其中包括提供最外表面的稀土氟化物层和稀土层 具有低于稀土氟化物层下面5％孔隙率的氧化物。