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    Polymerizable composition and image recording material containing the same
    1.
    发明授权
    Polymerizable composition and image recording material containing the same 失效
    可聚合组合物和含有它的成像记录材料

    公开(公告)号：US07063936B2

    公开(公告)日：2006-06-20

    申请号：US10959143

    申请日：2004-10-07

    申请人： Ryuki Kakino ,  Kazuto Kunita

    发明人： Ryuki Kakino ,  Kazuto Kunita

    IPC分类号： G03F7/27 ,  G03F7/32 ,  G03F7/33

    CPC分类号： C08L101/005 ,  B33Y70/00 ,  G03F7/0037 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0388 ,  Y10S430/128 ,  Y10S430/165

    摘要： A polymerizable composition comprising; a dendrimer having at least two polymerizable groups within a molecule; a radical initiator; and an alkali-soluble polymer, and an image recording material comprising a support and a recording layer comprising a polymerizable composition containing a dendrimer having at least two polymerizable groups within a molecule, a radical initiator and an alkali-soluble polymer.

    摘要翻译： 一种可聚合组合物， 在分子内具有至少两个可聚合基团的树枝状大分子; 一个激进的发起者 和碱溶性聚合物，以及包含载体和记录层的图像记录材料，所述记录层包含含有分子内具有至少两个可聚合基团的树枝状聚合物的可聚合组合物，自由基引发剂和碱溶性聚合物。

    Image recording material
    7.
    发明授权
    Image recording material 失效
    图像记录材料

    公开(公告)号：US07288360B2

    公开(公告)日：2007-10-30

    申请号：US10828172

    申请日：2004-04-21

    申请人： Kazuto Kunita ,  Ryuki Kakino

    发明人： Kazuto Kunita ,  Ryuki Kakino

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/04 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262

    摘要： The infrared laser-compatible positive-type image recording materials according to the present invention include a support and a photo/thermosensitive layer formed on the support; and the photo/thermosensitive layer contains an alkali-soluble resin (A), a photothermal converting substance (B) and an ester compound (C) represented by the following General Formula (I), and increases solubility thereof to an alkaline developer as a result exposure to an infrared laser. In the following formula, R1 represents a hydrocarbon group having a pKa of R1OH in a range of 3 to 10; and R2 represents a hydrocarbon group or a substituted carbonyl group. The invention provides image recording materials compatible with high-output lasers that enable highly-sensitive direct plate making by using digital data from a computer or the like, and provide images excellent in development latitude, contrast, and resolution

    摘要翻译： 根据本发明的红外激光兼容正型图像记录材料包括支撑体和形成在支撑体上的光/热敏层; 光敏层包含由以下通式（I）表示的碱溶性树脂（A），光热转换物质（B）和酯化合物（C），并且其对碱性显影剂的溶解度增加为 结果暴露于红外激光。 在下式中，R 1表示具有3至10个范围内的R 0 OH的pKa的烃基; R 2表示烃基或取代的羰基。 本发明提供与高输出激光器兼容的图像记录材料，其通过使用来自计算机等的数字数据实现高灵敏度的直接制版，并且提供优异的显影纬度，对比度和分辨率的图像

    Radical polymerizable composition and lithographic printing plate precursor using the same
    9.
    发明申请
    Radical polymerizable composition and lithographic printing plate precursor using the same 有权
    可自由基聚合组合物和使用其的平版印刷版前体

    公开(公告)号：US20050031986A1

    公开(公告)日：2005-02-10

    申请号：US10900169

    申请日：2004-07-28

    申请人： Ryuki Kakino ,  Kazuto Kunita

    发明人： Ryuki Kakino ,  Kazuto Kunita

    IPC分类号： B41C1/10 ,  G03C1/76 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038

    CPC分类号： B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/04 ,  B41C2201/12 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/145

    摘要： A radical polymerizable composition comprising (A) an alkali-soluble resin containing a radical polymerizable group, (B) a radical polymerizable compound, and (C) a radical initiator, wherein reactivity of a polymerizable group of the polymerizable compound 4B) to a polymerizable group of the polymerizable compound (B) is larger than reactivity of a polymerizable group of the polymerizable compound (B) to a radical polymerizable group of the alkali-soluble resin (A), and a reactivity of a radical polymerizable group of the alkali-soluble resin (A) to a polymerizable group of the polymerizable compound (B) is larger than reactivity of a radical polymerizable group of the alkali-soluble resin (A) to a radical polymerizable group of the alkali-soluble resin (A).

    摘要翻译： 一种自由基聚合性组合物，其含有（A）含有自由基聚合性基团的碱溶性树脂，（B）自由基聚合性化合物和（C）可聚合化合物4B的聚合性基团的反应性） 聚合性化合物（B）的基团的浓度比可聚合化合物（B）的聚合性基团与碱溶性树脂（A）的自由基聚合性基团的反应性大， 可溶性树脂（A）与聚合性化合物（B）的聚合性基团的摩尔比大于碱溶性树脂（A）的自由基聚合性基团与碱溶性树脂（A）的自由基聚合性基团的反应性。

    RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH
    10.
    发明申请
    RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH 有权
    耐腐蚀组合物及其形成方法

    公开(公告)号：US20100028804A1

    公开(公告)日：2010-02-04

    申请号：US12535240

    申请日：2009-08-04

    申请人： Kaoru IWATO ,  Kazuto Kunita

    发明人： Kaoru IWATO ,  Kazuto Kunita

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30

    摘要： A resist composition comprises two or more polymers containing a first polymer and a second polymer and a compound that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, wherein when the resist composition is formed into a dry resist film, the mixing ratios of at least the first and second polymers in the resist film exhibit a gradient distribution such that the mixing ratios continuously change in entirety or partially in the direction of the depth from the surface of the resist film on the air side toward a support, and wherein the mixing ratio of the first polymer at a superior portion of the resist film is higher than that of the second polymer, while the mixing ratio of the second polymer at an inferior portion of the resist film is higher than that of the first polymer.

    摘要翻译： 抗蚀剂组合物包括含有第一聚合物和第二聚合物的两种或更多种聚合物和当暴露于光化射线或辐射时产生酸的化合物，其中当抗蚀剂组合物形成干燥抗蚀剂膜时， 抗蚀剂膜中的第一和第二聚合物的至少表现出梯度分布，使得混合比在空气侧的抗蚀剂膜的表面朝向载体的深度方向全部或部分地连续变化，并且其中混合 抗蚀剂膜的上部的第一聚合物的比例高于第二聚合物，而抗蚀剂膜的下部的第二聚合物的混合比高于第一聚合物的比例。