公开(公告)号：US20120028196A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：US13192188

申请日：2011-07-27

申请人： Sou KAMIMURA ,  Kaoru IWATO ,  Yuichiro ENOMOTO ,  Shohei KATAOKA ,  Keita KATO ,  Shoichi SAITOH

发明人： Sou KAMIMURA ,  Kaoru IWATO ,  Yuichiro ENOMOTO ,  Shohei KATAOKA ,  Keita KATO ,  Shoichi SAITOH

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40

摘要： An embodiment of the method of forming a pattern, comprises (a) forming a chemically amplified resist composition into a film, (b) exposing the film to light, and (c) processing the exposed film with an organic processing liquid, wherein the processing liquid contains an organic solvent whose normal boiling point is 175° C. or higher, the organic solvent being contained in the processing liquid in a content of less than 30 mass %.

摘要翻译： 形成图案的方法的一个实施方案包括：（a）将化学放大的抗蚀剂组合物形成膜，（b）将膜曝光，和（c）用有机处理液处理曝光的膜，其中处理 液体含有正常沸点为175℃以上的有机溶剂，处理液中含有的有机溶剂含量低于30质量％。

公开(公告)号：US20120052449A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：US13216903

申请日：2011-08-24

申请人： Keita KATO ,  Sou KAMIMURA ,  Yuichiro ENOMOTO ,  Kaoru IWATO ,  Shohei KATAOKA ,  Shoichi SAITOH

发明人： Keita KATO ,  Sou KAMIMURA ,  Yuichiro ENOMOTO ,  Kaoru IWATO ,  Shohei KATAOKA ,  Shoichi SAITOH

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： Provided is a method of forming pattern including (a) forming a chemically amplified resist composition into a film, (b) exposing the film to light, and (c) developing the exposed film with a developer containing a first organic solvent, wherein in the developer, particles each having a diameter of 0.3 μm or greater amount to a density of 30 particles/ml or less.

摘要翻译： 提供一种形成图案的方法，包括（a）将化学放大的抗蚀剂组合物形成在膜中，（b）将膜曝光，和（c）用含有第一有机溶剂的显影剂显影曝光的膜，其中在 显影剂，每个具有0.3μm或更大直径的颗粒的密度为30个/ ml或更小。

公开(公告)号：US20120003591A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US13172273

申请日：2011-06-29

申请人： Yuichiro ENOMOTO ,  Shinji TARUTANI ,  Sou KAMIMURA ,  Kaoru IWATO ,  Keita KATO ,  Kana FUJII

发明人： Yuichiro ENOMOTO ,  Shinji TARUTANI ,  Sou KAMIMURA ,  Kaoru IWATO ,  Keita KATO ,  Kana FUJII

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/422

摘要： Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a chemically amplified resist composition into a film, (b) exposing the film to light, and (c) developing the exposed film with a developer containing an organic solvent, wherein the developer contains an alcohol compound (X) at a content of 0 to less than 500 ppm based on the total mass of the developer.

摘要翻译： 提供一种形成图案的方法，包括（a）将化学放大的抗蚀剂组合物形成为膜，（b）将膜曝光，和（c）用含有机溶剂的显影剂显影曝光的膜，其中 显影剂含有基于显影剂总质量为0至小于500ppm的醇化合物（X）。

公开(公告)号：US20120077122A1

公开(公告)日：2012-03-29

申请号：US13245326

申请日：2011-09-26

申请人： Kaoru IWATO ,  Keita KATO

发明人： Kaoru IWATO ,  Keita KATO

IPC分类号： H01L21/02 ,  G03F7/30 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： A pattern forming method includes: (i) forming a film from a chemical amplification resist composition that contains (A) a resin, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation and (C) a tertiary alcohol; (ii) exposing the film; and (iii) performing development by using a developer containing an organic solvent.

摘要翻译： 图案形成方法包括：（i）从化学放大抗蚀剂组合物形成膜，其包含（A）树脂，（B）在通过光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物和（C） 醇; （ii）曝光胶片; 和（iii）通过使用含有有机溶剂的显影剂进行显影。

公开(公告)号：US20130049149A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13598087

申请日：2012-08-29

申请人： Keita KATO ,  Atsushi NAKAMURA

发明人： Keita KATO ,  Atsushi NAKAMURA

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  H01L31/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C2602/14 ,  C07C2603/56 ,  C07C2603/74 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3081 ,  Y10S430/114

摘要： Provided is a method of forming a pattern, including forming an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition into a film, the actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition including a resin (A) including a repeating unit containing a group that when acted on by an acid, is decomposed to thereby produce a polar group and including an aromatic group, which resin when acted on by an acid, decreases its solubility in an organic solvent, a nonionic compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid and a solvent (C), exposing the film to actinic rays or radiation, and developing the exposed film with a developer including an organic solvent to thereby form a negative pattern.

摘要翻译： 提供一种形成图案的方法，包括将光敏射线或辐射敏感性树脂组合物形成在膜中，所述光化学射线或辐射敏感性树脂组合物包括含有包含基团的重复单元的树脂（A） 当被酸作用时，其被分解，从而产生极性基团并且包括芳族基团，该树脂在被酸作用时降低其在有机溶剂中的溶解度，当暴露于光化反应时的非离子化合物（B） 产生酸和溶剂（C），将膜暴露于光化射线或辐射，并用包含有机溶剂的显影剂显影曝光的膜，从而形成负图案。