公开(公告)号：US09120288B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US13614672

申请日：2012-09-13

申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuhei Yamaguchi ,  Shohei Kataoka ,  Michihiro Shirakawa ,  Fumihiro Yoshino ,  Shoichi Saitoh

发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuhei Yamaguchi ,  Shohei Kataoka ,  Michihiro Shirakawa ,  Fumihiro Yoshino ,  Shoichi Saitoh

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  B32B3/10 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40

CPC分类号： B32B3/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/075 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

摘要： The pattern forming method of the invention includes (i) forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin (P) having a repeating unit (a) represented by the following general formula (I), a compound (B) capable of generating an organic acid upon irradiation with actinic rays or radiation, and a nitrogen-containing organic compound (NA) having a group capable of leaving by the action of an acid, (ii) exposing the film, and (iii) developing the film after the exposure using a developer including an organic solvent to form a negative type pattern, in the general formula (I), R0 represents a hydrogen atom or a methyl group, and each of R1, R2, and R3 independently represents a linear or branched alkyl group.

摘要翻译： 本发明的图案形成方法包括：（i）使用含有具有由以下通式（I）表示的重复单元（a）的树脂（P）的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物形成膜， 能够在用光化学射线或辐射照射时能够产生有机酸的化合物（B）和具有能够通过酸作用离去的基团的含氮有机化合物（NA），（ii）曝光该膜和（ iii）使用包含有机溶剂的显影剂在曝光后显影膜以形成负型图案，在通式（I）中，R 0表示氢原子或甲基，R 1，R 2和R 3各自独立地 表示直链或支链烷基。

公开(公告)号：US20120321855A1

公开(公告)日：2012-12-20

申请号：US13580921

申请日：2011-02-24

申请人： Kaoru Iwato ,  Shohei Kataoka ,  Shinji Tarutani ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato ,  Yuichiro Enomoto ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Toru Tsuchihashi ,  Kana Fujii

发明人： Kaoru Iwato ,  Shohei Kataoka ,  Shinji Tarutani ,  Sou Kamimura ,  Keita Kato ,  Yuichiro Enomoto ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Toru Tsuchihashi ,  Kana Fujii

IPC分类号： G03F7/027 ,  B32B3/30 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F224/00

CPC分类号： G03F7/30 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  Y10T428/24479

摘要： Provided is a method of forming a pattern, ensuring excellent sensitivity, limiting resolving power, roughness characteristic, exposure latitude (EL), dependence on post-exposure bake (PEB) temperature and focus latitude (depth of focus DOF), and a resist composition for use in the method. The method comprises (A) forming a film from a resist composition comprising a resin containing a repeating unit containing a group that is decomposed when acted on by an acid to thereby produce an alcoholic hydroxyl group, which resin thus when acted on by an acid decreases its solubility in a developer containing an organic solvent, (B) exposing the film to light, and (C) developing the exposed film using a developer containing an organic solvent.

摘要翻译： 提供了形成图案的方法，确保优异的灵敏度，限制分辨率，粗糙度特性，曝光宽容度（EL），对曝光后烘烤（PEB）温度和聚焦宽度（焦深DOF）的依赖性以及抗蚀剂组合物 用于该方法。 该方法包括（A）由抗蚀剂组合物形成膜，所述抗蚀剂组合物含有含有重复单元的树脂，所述树脂含有当被酸作用时分解的基团，从而产生醇羟基，所述树脂当被酸作用时降低 其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度，（B）将膜曝光，和（C）使用含有有机溶剂的显影剂显影曝光膜。

公开(公告)号：US20100248149A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12729336

申请日：2010-03-23

申请人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito ,  Takeshi Inasaki ,  Shohei Kataoka

发明人： Tomotaka Tsuchimura ,  Hidenori Takahashi ,  Takayuki Ito ,  Takeshi Inasaki ,  Shohei Kataoka

IPC分类号： G03F7/20 ,  C08F12/24 ,  C08F214/16 ,  C08F224/00

CPC分类号： C08F224/00 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F12/30 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/2037 ,  Y10S430/122 ,  C08F220/16 ,  C08F212/32 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1825

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including (P) a resin which contains (A) a repeating unit having an ionic structure moiety capable of producing an acid anion on the side chain upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein a cation moiety of the ionic structure moiety has an acid-decomposable group or an alkali-decomposable group.

摘要翻译： 本发明提供一种光活性射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，其包含（P）树脂，该树脂含有（A）具有离子结构部分的重复单元，该离子结构部分能够在照射光化学射线或辐射时在侧链上产生酸性阴离子 ，其中所述离子结构部分的阳离子部分具有酸可分解基团或碱可分解基团。

公开(公告)号：US09223204B2

公开(公告)日：2015-12-29

申请号：US13669530

申请日：2012-11-06

申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。

公开(公告)号：US08846293B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US13431736

申请日：2012-03-27

申请人： Yusuke Iizuka ,  Akinori Shibuya ,  Naohiro Tango ,  Shohei Kataoka

发明人： Yusuke Iizuka ,  Akinori Shibuya ,  Naohiro Tango ,  Shohei Kataoka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the present invention contains (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkaline developer by the action of an acid, and (C) at least one selected from the group of compounds represented by the following formula (ZI-3), (ZI-4) or (ZI-5) and capable of generating an acid upon irradiation of actinic rays or radiation, wherein the resin (A) contains at least one repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an acid to leave a leaving group having a ring structure, and the leaving group having a ring structure has at least one of a polar group as a substituent and a polar atom as a part of the ring structure, and a compound derived from the leaving group having a ring structure has a logP value of not less than 0 and less than 2.8.

摘要翻译： 本发明的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，（C）选自化合物组中的至少一种 由下式（ZI-3），（ZI-4）或（ZI-5）表示，并且能够在光化射线或辐射照射时产生酸，其中树脂（A）含有至少一个具有 能够通过酸的作用分解离开具有环结构的离去基团的基团，具有环结构的离去基团具有作为取代基的极性基团和作为环结构的一部分的极性原子中的至少一种 ，衍生自具有环结构的离去基团的化合物的logP值不小于0且小于2.8。

公开(公告)号：US08846290B2

公开(公告)日：2014-09-30

申请号：US13260777

申请日：2010-03-26

申请人： Naohiro Tango ,  Michihiro Shirakawa ,  Mitsuhiro Fujita ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya ,  Shohei Kataoka

发明人： Naohiro Tango ,  Michihiro Shirakawa ,  Mitsuhiro Fujita ,  Shuhei Yamaguchi ,  Akinori Shibuya ,  Shohei Kataoka

IPC分类号： G03F7/027 ,  C08F220/18

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/42 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/22

摘要： An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin capable of increasing a solubility of the resin (A) in an alkali developer by an action of an acid; and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, wherein (B) the compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation is contained in an amount of 10 to 30 mass % based on the entire solid content of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method uses the composition.

摘要翻译： 光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加树脂（A）在碱性显影剂中的溶解度的树脂; 和（B）能够在用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，其中（B）当以光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物的含量为10〜30质量％ 基于光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物的全部固体含量，并且图案形成方法使用该组合物。

公开(公告)号：US20130004740A1

公开(公告)日：2013-01-03

申请号：US13537843

申请日：2012-06-29

申请人： Shohei KATAOKA ,  Yusuke IIZUKA ,  Akinori SHIBUYA ,  Tomoki MATSUDA ,  Naohiro TANGO

发明人： Shohei KATAOKA ,  Yusuke IIZUKA ,  Akinori SHIBUYA ,  Tomoki MATSUDA ,  Naohiro TANGO

IPC分类号： G03F7/004 ,  B32B3/10 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/128 ,  Y10T428/24802

摘要： An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is capable of improving line edge roughness (LER) and inhibiting pattern collapse, a resist film and a pattern forming method each using the same, a method for preparing an electronic device, and an electronic device are provided.The actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains: (A) a resin having repeating units having a structure represented by any one of the following general formulae (I-1) to (I-3), and repeating units containing at least one selected from the group consisting of a lactone structure, a sultone structure, and a cyano group; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiations.

摘要翻译： 能够改善线边缘粗糙度（LER）并抑制图案塌陷的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜和各自使用它们的图案形成方法，制备电子器件的方法和 提供电子设备。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有：（A）具有由以下通式（I-1）至（I-3）中任一个表示的结构的重复单元的树脂和含有 选自内酯结构，磺内酯结构和氰基中的至少一种; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。

公开(公告)号：US08329379B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US12748728

申请日：2010-03-29

申请人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

发明人： Takayuki Ito ,  Hidenori Takahashi ,  Tomotaka Tsuchimura ,  Shohei Kataoka ,  Takeshi Inasaki

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

摘要： Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, a resist film formed with the composition, and a pattern-forming method using the same. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (P) a resin that contains the following repeating units (A), (B) and (C); and a solvent having a boiling temperature of 150° C. or less, (A) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a repeating unit containing a group capable of decomposing and forming a carboxylic acid by the action of an acid, and (C) a repeating unit containing a carbon-carbon unsaturated bond.

摘要翻译： 提供了一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，由该组合物形成的抗蚀剂膜和使用其的图案形成方法。 光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（P）含有以下重复单元（A），（B）和（C）的树脂; 和沸点为150℃以下的溶剂，（A）含有能够在光化射线或辐射照射时能够分解形成酸的基团的重复单元，（B）含有能够具有基团的重复单元 通过酸的作用分解和形成羧酸，和（C）含有碳 - 碳不饱和键的重复单元。

公开(公告)号：US20120251948A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13431736

申请日：2012-03-27

申请人： Yusuke IIZUKA ,  Akinori SHIBUYA ,  Naohiro TANGO ,  Shohei KATAOKA

发明人： Yusuke IIZUKA ,  Akinori SHIBUYA ,  Naohiro TANGO ,  Shohei KATAOKA

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

摘要： The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the present invention contains (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkaline developer by the action of an acid, and (C) at least one selected from the group of compounds represented by the following formula (ZI-3), (ZI-4) or (ZI-5) and capable of generating an acid upon irradiation of actinic rays or radiation, wherein the resin (A) contains at least one repeating unit having a group capable of decomposing by the action of an acid to leave a leaving group having a ring structure, and the leaving group having a ring structure has at least one of a polar group as a substituent and a polar atom as a part of the ring structure, and a compound derived from the leaving group having a ring structure has a log P value of not less than 0 and less than 2.8.

摘要翻译： 本发明的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）能够通过酸作用增加在碱性显影剂中的溶解性的树脂，（C）选自化合物组中的至少一种 由下式（ZI-3），（ZI-4）或（ZI-5）表示，并且能够在光化射线或辐射照射时产生酸，其中树脂（A）含有至少一个具有 能够通过酸的作用分解离开具有环结构的离去基团的基团，具有环结构的离去基团具有作为取代基的极性基团和作为环结构的一部分的极性原子中的至少一种 ，并且衍生自具有环结构的离去基团的化合物的log P值不小于0且小于2.8。

公开(公告)号：US20120219913A1

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：US13406306

申请日：2012-02-27

申请人： Shohei KATAOKA ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Shuhei YAMAGUCHI ,  Shoichi SAITOH ,  Michihiro SHIRAKAWA ,  Fumihiro YOSHINO

发明人： Shohei KATAOKA ,  Hidenori TAKAHASHI ,  Shuhei YAMAGUCHI ,  Shoichi SAITOH ,  Michihiro SHIRAKAWA ,  Fumihiro YOSHINO

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397

摘要： Provided is a pattern forming method that is excellent in roughness performance such as line width roughness and exposure latitude, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the pattern forming method.The pattern forming method includes (1) forming a film using an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin that includes 65 mol % or more of a repeating unit having a group which generates a polar group by being degraded by the action of an acid based on all repeating units in the resin and at least one kind of repeating unit represented by the following General Formula (I) or (II), (2) exposing the film, and (3) developing the exposed film using a developer that contains an organic solvent.

摘要翻译： 提供了一种图案形成方法，其具有优异的粗糙度性能，例如线宽粗糙度和曝光宽容度，以及用于图案形成方法的光化学敏感或辐射敏感性树脂组合物和抗蚀剂膜。 图案形成方法包括：（1）使用含有树脂的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物形成膜，所述树脂组合物包含65摩尔％以上的具有通过降解产生极性基团的基团的重复单元 基于树脂中所有重复单元的酸的作用和由以下通式（I）或（II）表示的至少一种重复单元，（2）使膜曝光，和（3）显影曝光膜 使用含有机溶剂的显影剂。