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    Positive resist composition and pattern-forming method using the same
    5.
    发明授权
    Positive resist composition and pattern-forming method using the same 有权
    正型抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US07351515B2

    公开(公告)日：2008-04-01

    申请号：US10941822

    申请日：2004-09-16

    申请人： Shoichiro Yasunami ,  Kenji Wada ,  Kunihiko Kodama ,  Kenichiro Sato

    发明人： Shoichiro Yasunami ,  Kenji Wada ,  Kunihiko Kodama ,  Kenichiro Sato

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

    摘要： A positive resist composition includes: (A) a resin capable of increasing a solubility thereof in an alkali developer by an action of an acid; (B) a compound capable of generating a sulfonic acid represented by the following formula (I) upon irradiation with one of an actinic ray and a radiation; and (C1) at least one of an amine compound having at least an aliphatic hydroxyl group in a molecule and an amine compound having at least an ether bond in a molecule: A1A2-SO3H)n   (I) wherein A1 represents an n-valent linking group, A2 represents a single bond or a divalent aliphatic group, and A2's each may be the same or different, provided that at least one group represented by A1 or A2 contains a fluorine atom, and n represents an integer of from 2 to 4.

    摘要翻译： 正型抗蚀剂组合物包括：（A）能够通过酸的作用增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂; （B）在用光化学射线和辐射之一照射时能够产生由下式（I）表示的磺酸的化合物; 和（C1）分子中至少具有脂肪族羟基的胺化合物和分子中具有至少一个醚键的胺化合物中的至少一种：＆lt;线内配方说明=“在线式” end =“lead”？> A 1 A 2 3 （I）<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“tail”？>其中A 1代表n价连接基团，A < SUB 2表示单键或二价脂族基团，并且A 2各自可以相同或不同，条件是至少一个由A 1表示的基团 或A 2 含有氟原子，n表示2〜4的整数。

    Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same
    7.
    发明申请
    Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same 审中-公开
    正光敏组合物和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20070054217A1

    公开(公告)日：2007-03-08

    申请号：US11514957

    申请日：2006-09-05

    申请人： Kunihiko Kodama ,  Kenji Wada

    发明人： Kunihiko Kodama ,  Kenji Wada

    IPC分类号： G03C1/00

    CPC分类号： G03F7/0397

    摘要： A positive photosensitive composition comprises: (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation; and (B) a resin having a group capable of decomposing by action of an acid to increase solubility of the group in an alkali developer, wherein the resin (B) comprises: at least one methacrylate repeating unit; at least one acrylate repeating unit; and at least one repeating unit (Ba) having a diamantane structure.

    摘要翻译： 正型感光性组合物包含：（A）能够在光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物; 和（B）具有能够通过酸分解的基团的树脂，以增加基团在碱性显影剂中的溶解度，其中树脂（B）包含：至少一个甲基丙烯酸酯重复单元; 至少一个丙烯酸酯重复单元; 和至少一个具有双金刚烷结构的重复单元（Ba）。