公开(公告)号：US08027026B2

公开(公告)日：2011-09-27

申请号：US13016211

申请日：2011-01-28

申请人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A method including mixing using a mixer a first component and a second component to form a liquid before supply to a space between the projection system and a substrate, measuring a property of the liquid using a measuring device and making the feedback available to a controller, based on the feedback, controlling with the controller a physical property of the liquid by controlling the amount of the first and/or second component used to form the liquid, supplying the liquid to the space between the projection system and the substrate, and projecting a patterned beam of radiation, using the projection system, through the liquid onto a target portion of the substrate.

摘要翻译： 一种方法，包括使用混合器混合第一组分和第二组分以在供应到投影系统和基底之间的空间之前形成液体，使用测量装置测量液体的性质并使反馈可用于控制器， 基于反馈，通过控制用于形成液体的第一和/或第二部件的量，通过控制器控制液体的物理性质，将液体供应到投影系统和基板之间的空间，并且将投影 使用投影系统的图案化的光束束通过液体到达基板的目标部分。

公开(公告)号：US07894040B2

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：US10957751

申请日：2004-10-05

申请人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus is provided in which exposure is carried out by projecting through an aqueous solution of alkali metal halide(s), the solution being in contact with the substrate to be exposed.

摘要翻译： 提供了一种光刻设备，其中通过突出通过碱金属卤化物的水溶液进行曝光，该溶液与待暴露的基板接触。

公开(公告)号：US08755027B2

公开(公告)日：2014-06-17

申请号：US13226037

申请日：2011-09-06

申请人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A fluid system to provide a fluid including liquid in a part of a lithographic apparatus, the fluid system including a manifold to mix a first liquid component and a second component to form the fluid in the part of the lithographic apparatus, a controller to control a physical property of the fluid by controlling the amount of the first and/or second component used to form the fluid, and a measuring device to measure a property of the fluid and to make feedback available to the controller, wherein the controller is configured to control the physical property of the fluid based on the measured property.

摘要翻译： 一种用于在光刻设备的一部分中提供包括液体的流体的流体系统，所述流体系统包括歧管以混合第一液体组分和第二组分以在所述光刻设备的所述部分中形成所述流体;控制器， 通过控制用于形成流体的第一和/或第二部件的量来控制流体的物理性质;以及测量装置，用于测量流体的性质并使反馈可用于控制器，其中控制器被配置成控制 基于测量属性的流体的物理性质。

公开(公告)号：US20110317138A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13226037

申请日：2011-09-06

申请人： Matthew LIPSON ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew LIPSON ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus is provided in which exposure is carried out by projecting through an aqueous solution of alkali metal halide(s), the solution being in contact with the substrate to be exposed.

公开(公告)号：US20110134402A1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：US13016211

申请日：2011-01-28

申请人： Matthew LIPSON ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew LIPSON ,  Marcel Mathijs Theodore Marie Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Johannes Catharinus Hubertus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus is provided in which exposure is carried out by projecting through an aqueous solution of alkali metal halide(s), the solution being in contact with the substrate to be exposed.

摘要翻译： 提供了一种光刻设备，其中通过突出通过碱金属卤化物的水溶液进行曝光，该溶液与待暴露的基板接触。

公开(公告)号：US20060072088A1

公开(公告)日：2006-04-06

申请号：US10957751

申请日：2004-10-05

申请人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

发明人： Matthew Lipson ,  Marcel Mathijs Dierichs ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Johannes Catharinus Mulkens ,  Bob Streefkerk ,  Ronald Wilklow ,  Roel De Jonge

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus is provided in which exposure is carried out by projecting through an aqueous solution of alkali metal halide(s), the solution being in contact with the substrate to be exposed.

摘要翻译： 提供了一种光刻设备，其中通过突出通过碱金属卤化物的水溶液进行曝光，该溶液与待暴露的基板接触。

公开(公告)号：US20080017106A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：US11866955

申请日：2007-10-03

申请人： Matthew LIPSON ,  Ronald Wilklow

发明人： Matthew LIPSON ,  Ronald Wilklow

IPC分类号： C23C16/00 ,  B05C11/00

CPC分类号： C23C14/044 ,  C23C14/24 ,  C23C16/042 ,  C23C16/482 ,  G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

摘要： Systems and methods are used to modify a layer on a substrate that is used to form a pattern generator, so that light reflecting from the modified substrate has a trapezoidal or other custom profile. The layer is modified using various vapor deposition techniques in conjunction with moving or positioning the substrate a desired distance from a blocking device and/or at a desired rate or speed.

摘要翻译： 系统和方法用于修改用于形成图案发生器的衬底上的层，使得从改性衬底反射的光具有梯形或其它定制轮廓。 使用各种气相沉积技术来改变层，结合将基底与阻挡装置和/或以期望的速率或速度移动或定位所需的距离。

公开(公告)号：US20060019030A1

公开(公告)日：2006-01-26

申请号：US10898160

申请日：2004-07-26

申请人： Matthew Lipson ,  Ronald Wilklow

发明人： Matthew Lipson ,  Ronald Wilklow

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： C23C14/044 ,  C23C14/24 ,  C23C16/042 ,  C23C16/482 ,  G03F1/00 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70475

摘要： Systems and methods are used to modify a layer on a substrate that is used to form a pattern generator, so that light reflecting from the modified substrate has a trapezoidal or other custom profile. The layer is modified using various vapor deposition techniques in conjunction with moving or positioning the substrate a desired distance from a blocking device and/or at a desired rate or speed.

摘要翻译： 系统和方法用于修改用于形成图案发生器的衬底上的层，使得从改性衬底反射的光具有梯形或其它定制轮廓。 使用各种气相沉积技术来改变层，结合将基底与阻挡装置和/或以期望的速率或速度移动或定位所需的距离。

公开(公告)号：US20050018296A1

公开(公告)日：2005-01-27

申请号：US10625704

申请日：2003-07-24

申请人： Ronald Wilklow

发明人： Ronald Wilklow

IPC分类号： G02B5/18 ,  G02B27/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70158 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/1857 ,  G02B27/0043 ,  G03F7/70316

摘要： A diffraction element can be used in a system employing very short wavelengths of light, for example light in the nanometer range (e.g., about 100 nm to about 300 nm). The diffraction element is formed using a substrate (or any optical element) having high transmission characteristics in this wavelength range. For example, calcium fluoride or barium fluoride can be used. A layer of amorphous isotropic material, such as silicon dioxide or silica, is deposited on the substrate and patterned to allow for diffraction.

摘要翻译： 衍射元件可用于采用非常短波长的光的系统，例如纳米范围内的光（例如约100nm至约300nm）。 使用在该波长范围内具有高透射特性的基板（或任何光学元件）形成衍射元件。 例如，可以使用氟化钙或氟化钡。 一层无定形各向同性材料，例如二氧化硅或二氧化硅，沉积在基片上并构图以允许衍射。

公开(公告)号：US20050286038A1

公开(公告)日：2005-12-29

申请号：US10878040

申请日：2004-06-29

申请人： Michael Albert ,  Justin Kreuzer ,  Ronald Wilklow

发明人： Michael Albert ,  Justin Kreuzer ,  Ronald Wilklow

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03B27/72

摘要： The present invention relates to an apparatus for polarizing an incident light beam. In embodiments, a tile wave plate assembly is provided. The tile wave plate includes a layered structure having a substrate plate and two layers of mosaic tiles. The layers of the apparatus are mechanically separated to form a controlled gap spacing. The mosaic tiles can be configured to form a pseudo or true zero order wave plate.

摘要翻译： 本发明涉及一种使入射光束偏振的装置。 在实施例中，提供瓦片波片组件。 瓦片波片包括具有基板和两层马赛克瓦的层状结构。 设备的层被机械分离以形成受控的间隙间隔。 可以将马赛克瓦片配置成形成伪或真正的零级波片。