公开(公告)号：US5322765A

公开(公告)日：1994-06-21

申请号：US796527

申请日：1991-11-22

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Willard E. Conley ,  Ranee W.-L. Kwong ,  Leo L. Linehan ,  Scott A. MacDonald ,  Harbans S. Sachdev ,  Hubert Schlosser ,  Carlton G. Willson

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Willard E. Conley ,  Ranee W.-L. Kwong ,  Leo L. Linehan ,  Scott A. MacDonald ,  Harbans S. Sachdev ,  Hubert Schlosser ,  Carlton G. Willson

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03C1/72 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/265

摘要： Dry developable top surface imageable photoresist compositions which comprise, in admixture, a film-forming aromatic polymer resin activated to electrophilic substitution, an acid catalyzable agent capable of being inserted into the aromatic polymer resin, and a radiation degradable acid generating compound and processes for generating positive tone resist images on substrates therewith.

摘要翻译： 干可显影的顶表面可成像光致抗蚀剂组合物，其包含活化成亲电取代的成膜芳族聚合物树脂，能够插入到芳族聚合物树脂中的酸催化剂，以及可辐射降解酸生成化合物和产生 正色调抵消了基板上的图像。

公开(公告)号：US4522911A

公开(公告)日：1985-06-11

申请号：US508642

申请日：1983-06-28

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Terry C. Tompkins ,  Carlton G. Willson

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Terry C. Tompkins ,  Carlton G. Willson

IPC分类号： G03F7/20 ,  C07D213/77 ,  G03C1/72 ,  G03C5/08 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03C1/54 ,  C07C113/00 ,  G03C1/60

CPC分类号： C07D213/77 ,  G03F7/0163

摘要： A lithographic resist for use with deep ultra-violet radiation comprising an acidic resin and a diazohomotetramic acid sensitizer.

摘要翻译： 一种与深紫外线辐射一起使用的平版印刷抗蚀剂，包括酸性树脂和重氮磺酰三乙酸敏化剂。

公开(公告)号：US4284706A

公开(公告)日：1981-08-18

申请号：US99806

申请日：1979-12-03

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Carlton G. Willson

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Carlton G. Willson

IPC分类号： G03C1/72 ,  C08K5/1575 ,  C08L61/00 ,  C08L61/04 ,  C08L61/06 ,  G03C1/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  G03F7/038 ,  G03F7/26 ,  H01L21/26 ,  G03C1/54 ,  G03C1/60 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0163 ,  G03F7/0226

摘要： Lithographic resist compositions are provided which permit an improved lift-off process in which the deposition mask with apertures has the desirable negative slope or overhang. The resist composition comprises a phenolic-aldehyde resin, a photosensitizer and Meldrum's diazo, or Meldrum's acid or suitable analogs thereof as a profile modifying agent. The profile modifying agents useful in the present invention have the formula: ##STR1## wherein R.sub.1 is C.sub.1 to C.sub.20 alkyl or aryl, R.sub.2 is H, C.sub.1 to C.sub.20 alkyl or aryl, or together R.sub.1 and R.sub.2 are cycloalkyl, A is N or H.

摘要翻译： 提供了光刻抗蚀剂组合物，其允许改进的剥离过程，其中具有孔的沉积掩模具有期望的负斜率或悬垂。 抗蚀剂组合物包含酚醛树脂，光敏剂和Meldrum的重氮，或Meldrum的酸或其合适的类似物作为轮廓修饰剂。 可用于本发明的轮廓调节剂具有下式：其中R 1为C 1至C 20烷基或芳基，R 2为H，C 1至C 20烷基或芳基，或R 1和R 2为环烷基，A为N或H 。

公开(公告)号：US4601969A

公开(公告)日：1986-07-22

申请号：US717254

申请日：1985-03-28

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Robert D. Miller ,  Terry C. Tompkins ,  Carlton G. Willson

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Robert D. Miller ,  Terry C. Tompkins ,  Carlton G. Willson

IPC分类号： C08L101/00 ,  C08K5/00 ,  C08K5/53 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  C08L61/10 ,  G03C1/72 ,  G03C5/16 ,  G03F7/016 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03C1/54

CPC分类号： G03F7/0163

摘要： A lithographic resin for use with deep ultraviolet radiation comprises a weakly acidic resin and an alpha phosphoryl substituted diazo carbonyl compound as a sensitizer.

摘要翻译： 用于深紫外线辐射的平版印刷树脂包括弱酸性树脂和α磷酰基取代的重氮羰基化合物作为敏化剂。

公开(公告)号：US4397937A

公开(公告)日：1983-08-09

申请号：US347658

申请日：1982-02-10

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Terry C. Tompkins ,  Robert J. Twieg ,  Carlton G. Willson

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Dennis R. McKean ,  Robert D. Miller ,  Terry C. Tompkins ,  Robert J. Twieg ,  Carlton G. Willson

IPC分类号： G03C1/72 ,  C08L61/00 ,  C08L61/04 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027 ,  G03C1/54 ,  G03C1/60

CPC分类号： G03F7/022

摘要： Positive resists are formed from a soluble phenolic resin and a sensitizer which is a diester of a 1-oxo-2-diazonaphthalene sulfonic acid and of an unsymmetrical primary or secondary aliphatic diol which is a mixture of geometric and diastereoisomers.

摘要翻译： 正型抗蚀剂由可溶性酚醛树脂和作为1-氧代-2-二氮萘磺酸的二酯和作为几何和非对映异构体的混合物的不对称伯或仲脂族二醇的敏化剂形成。

公开(公告)号：US4139276A

公开(公告)日：1979-02-13

申请号：US890170

申请日：1978-03-27

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Annette B. Jaffe ,  Gary S. Keller

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Annette B. Jaffe ,  Gary S. Keller

IPC分类号： C09K9/02 ,  G02F1/15 ,  G02F1/17 ,  G09F9/30 ,  C09K3/00 ,  G02F1/23

CPC分类号： G02F1/1521 ,  C09K9/02

摘要： Electrochromic display devices having very desirable stability and reversibility are obtained using as the oxidant certain fluorene compounds substituted with at least two alkoxy groups per molecule. The display device comprises a reactive medium between two electrically conductive electrodes at least one of which is transparent. The reactive medium comprises an anhydrous solvent and an oxidant/reductant pair.

摘要翻译： {PG，1具有非常理想的稳定性和可逆性的电致变色显示装置可以用氧化剂获得，每个分子被至少两个烷氧基取代的某些芴化合物。 显示装置包括两个导电电极之间的反应介质，其中至少一个是透明的。 反应介质包括无水溶剂和氧化剂/还原剂对。

公开(公告)号：US4585310A

公开(公告)日：1986-04-29

申请号：US560475

申请日：1983-12-12

申请人： Nicholas J. Clecak ,  Robert J. Cox ,  Joseph S. Feng ,  Jerry Leff

发明人： Nicholas J. Clecak ,  Robert J. Cox ,  Joseph S. Feng ,  Jerry Leff

IPC分类号： G02F1/13 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1337

CPC分类号： G02F1/132 ,  G02F1/133502 ,  G02F1/1337

摘要： The orientation of the alignment layer in a raster-scanned thermally addressed smectic liquid crystal display device can be chosen relative to the writing orientation to accentuate a selected characteristic. A perpendicular alignment with respect to the scan direction produces uniformly written images in both scan directions to allow high quality bidirectional writing. In a preferred embodiment the liquid crystal cell includes a liquid crystal material comprising 4-octyloxy-4'-cyanobiphenyl 37.5%, 4-decyl-4'-cyanobiphenyl 36.8% weight percent and 4-undecyl-4'-cyanobiphenyl 25.7 weight percent.

摘要翻译： 可以相对于写入取向选择光栅扫描的热寻址近晶体液晶显示装置中的取向层的取向，以突出所选择的特性。 相对于扫描方向的垂直对准在两个扫描方向上产生均匀的写入图像，以允许高质量的双向写入。 在一个优选的实施方案中，液晶单元包括一种液晶材料，其包含37.5％4-辛氧基-4'-氰基联苯，36.8％重量的4-癸基-4'-氰基联苯和25.7％重量的4-十四烷基-4'-氰基联苯。

公开(公告)号：US4339522A

公开(公告)日：1982-07-13

申请号：US200296

申请日：1980-10-24

申请人： Richard D. Balanson ,  Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Augustus C. Ouano

发明人： Richard D. Balanson ,  Nicholas J. Clecak ,  Barbara D. Grant ,  Augustus C. Ouano

IPC分类号： G03F7/016 ,  G03C1/54 ,  G03C1/72 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0163

摘要： Phenolic-aldehyde resins sensitized with Meldrum's diazo or a homologue thereof are useful as lithographic resists sensitive to deep ultra-violet light.

摘要翻译： 用Meldrum的重氮或其同系物敏化的酚醛树脂可用作对深紫外光敏感的光刻抗蚀剂。