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1.发明申请Method and apparatus for optical film measurements in a controlled environment 失效用于在受控环境中进行光学膜测量的方法和装置公开(公告)号：US20050286056A1
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：US11216101
申请日：2005-09-01
CPC分类号： B24B37/013 , B08B5/02 , B24B49/12 , G01N2021/151
摘要： An optical probe (and method) for measuring a surface in an environment containing a first substance, includes a light source for transmitting a light onto an area of the surface to obtain a measurement, a source of the first substance including one of a fluid and a gas for displacing a second substance from an area of the surface receiving the light, and a measuring device for receiving the light being reflected from the surface and for determining a measurement of the surface based upon the reflected light.
摘要翻译： 一种用于测量包含第一物质的环境中的表面的光学探针（和方法），包括用于将光传输到所述表面的区域以获得测量的光源，所述第一物质的源包括流体和 用于从接收光的表面的区域移动第二物质的气体和用于接收从表面反射的光并用于基于反射光确定表面的测量的测量装置。
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2.发明申请Imprint reference template for multilayer or multipattern registration and method therefor 审中-公开用于多层或多模式注册的印刷参考模板及其方法公开(公告)号：US20060157898A1
公开(公告)日：2006-07-20
申请号：US11037890
申请日：2005-01-18
IPC分类号： B29C35/08
CPC分类号： G03F7/0002 , B01D2239/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7011 , G03F9/7019
摘要： A method (and resultant structure) of forming a plurality of masks, includes creating a reference template, using imprint lithography to print at least one reference template alignment mark on all of a plurality of mask blanks for a given chip set, and printing sub-patterns on each of the plurality of mask blanks, and aligning the sub-patterns to the at least one reference template alignment mark.
摘要翻译： 一种形成多个掩模的方法（和结果）包括使用压印光刻法创建参考模板以在给定芯片组的所有多个掩模坯料上打印至少一个参考模板对准标记， 所述多个掩模坯料中的每一个上的图案，以及将所述子图案对准所述至少一个参考模板对准标记。
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3.发明申请Method and apparatus for direct referencing of top surface of workpiece during imprint lithography 有权用于在压印光刻期间直接参考工件顶面的方法和装置公开(公告)号：US20060145400A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：US11028798
申请日：2005-01-04
IPC分类号： B29C35/08
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C33/20 , B29C33/30 , B29C33/303 , B29C43/021 , B29C2043/025 , B29C2043/5841 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/703 , G03F9/7042 , G03F9/7053
摘要： An apparatus (and method) for referencing a surface of a workpiece during imprint lithography, includes an air bearing for mechanically referencing a surface of the workpiece, and a lithographic template coupled to the air bearing.
摘要翻译： 一种用于在压印光刻期间参考工件表面的装置（和方法）包括用于机械地参考工件表面的空气轴承和耦合到空气轴承的光刻模板。
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4.发明申请公开(公告)号：US20060147820A1
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：US11028799
申请日：2005-01-04
CPC分类号： G03F9/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/7049 , G03F9/7065 , G03F9/7088 , G03F9/7092
摘要： An apparatus (and method) for forming a pattern on a workpiece, includes an optical phase contrast image sensor, and an imprint lithography system coupled to the optical phase contrast image sensor for laterally aligning an imprint template feature relative to the workpiece.
摘要翻译： 用于在工件上形成图案的装置（和方法）包括光学相差图像传感器和耦合到光学相差图像传感器的压印光刻系统，用于相对于工件横向对准压印模板特征。
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公开(公告)号：US20060105571A1
公开(公告)日：2006-05-18
申请号：US10989078
申请日：2004-11-16
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/58 , B29C71/04 , H01L21/302 , H01L21/461
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/3642 , B29C2043/025 , B29C2043/3647 , B29C2043/3649 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/0273
摘要： A method (and apparatus) for nano lithography, includes applying a pneumatic pressure to at least one of a surface of a semi-rigid mask or template and a portion of a surface of a resist-coated workpiece, and, by the applying of the pneumatic pressure, transferring a pattern from the mask to the workpiece.
摘要翻译： 一种用于纳米光刻的方法（和装置），包括向半刚性掩模或模板的表面和抗蚀剂涂覆的工件的表面的一部分中的至少一个施加气动压力，并且通过施加 气动压力，将图案从面罩转移到工件。
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