公开(公告)号：US20130337605A1

公开(公告)日：2013-12-19

申请号：US13972497

申请日：2013-08-21

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Tae-Wook KANG ,  Ou-Hyun Kim ,  Chang-Soon Jl ,  Hyun-Lae Cho ,  Chang-Guo An ,  Jeong-Yeol Lee ,  Jae-Mork Park

IPC: H01L51/00

CPC classification number: H01L51/0029 ,  H01J37/20 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/20235

Abstract: A substrate plasma-processing apparatus for plasma-processing a surface of an electrode of an organic light emitting device. The substrate plasma-processing apparatus may adjust the distance between a first electrode and a substrate and adjust the distance between a second electrode and the substrate.

Abstract translation: 一种用于等离子体处理有机发光器件的电极表面的衬底等离子体处理设备。 衬底等离子体处理设备可以调节第一电极和衬底之间的距离并且调整第二电极和衬底之间的距离。

公开(公告)号：US08901008B2

公开(公告)日：2014-12-02

申请号：US13972497

申请日：2013-08-21

Applicant: Samsung Display Co., Ltd.

Inventor： Tae-Wook Kang ,  Ou-Hyen Kim ,  Chang-Soon Ji ,  Hyun-Lae Cho ,  Cheng-Guo An ,  Jeong-Yeol Lee ,  Jae-Mork Park

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L51/0029 ,  H01J37/20 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/032 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/20235

Abstract: A substrate plasma-processing apparatus for plasma-processing a surface of an electrode of an organic light emitting device. The substrate plasma-processing apparatus may adjust the distance between a first electrode and a substrate and adjust the distance between a second electrode and the substrate.

Abstract translation: 一种用于等离子体处理有机发光器件的电极表面的衬底等离子体处理设备。 衬底等离子体处理设备可以调节第一电极和衬底之间的距离并且调整第二电极和衬底之间的距离。