公开(公告)号：US20120314198A1

公开(公告)日：2012-12-13

申请号：US13486064

申请日：2012-06-01

申请人： Sang-Hee Lee ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Soo-Young Lee ,  Qing Dai

发明人： Sang-Hee Lee ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Soo-Young Lee ,  Qing Dai

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J2237/31769

摘要： In a method of estimating a PSF in the electron-beam lithography process, a linear resist test pattern may be formed on a substrate. A line response function (LRF) may be determined using a cross-sectional profile of the linear resist test pattern. A development rate distribution in a first direction, the first direction may be substantially perpendicular to an extending direction of the linear resist test pattern, may be calculated using the LRF. A line spread function (LSF), which may represent an exposure distribution in the first direction, may be calculated using the development rate distribution. The PSF may be estimated using the LSF.

摘要翻译： 在电子束光刻工艺中估计PSF的方法中，可以在衬底上形成线性抗蚀剂测试图案。 线路响应函数（LRF）可以使用线性抗蚀剂测试图案的横截面轮廓来确定。 可以使用LRF计算第一方向上的显影速率分布，第一方向可以基本上垂直于线性抗蚀剂测试图案的延伸方向。 可以使用开发速率分布来计算可以表示第一方向上的曝光分布的线扩展函数（LSF）。 可以使用LSF估计PSF。

公开(公告)号：US20130143150A1

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：US13571043

申请日：2012-08-09

申请人： JIN CHOI ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

发明人： JIN CHOI ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

IPC分类号： G03F1/44

CPC分类号： G03F1/44

摘要： A method for manufacturing a photomask includes forming a photoresist film on a substrate, and forming a defect detecting pattern on the photoresist film. The defect detecting pattern has a first pattern elongated in a first direction and a second pattern overlapping one end of the first pattern and elongated in a second direction different from the first direction. The first pattern and the second pattern are formed using electron beams (e-beam) diffracted by a same amplifier.

摘要翻译： 光掩模的制造方法包括在基板上形成光致抗蚀剂膜，在光致抗蚀剂膜上形成缺陷检测图案。 缺陷检测图案具有沿第一方向延伸的第一图案和与第一图案的一端重叠的第二图案，并且在与第一方向不同的第二方向上延伸。 使用由同一放大器衍射的电子束（e-beam）形成第一图案和第二图案。

公开(公告)号：US20100266959A1

公开(公告)日：2010-10-21

申请号：US12662402

申请日：2010-04-15

申请人： Sang-Hee Lee ,  Jin Choi ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim

发明人： Sang-Hee Lee ,  Jin Choi ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： B82Y40/00 ,  B82Y10/00 ,  G03F1/78 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/0451 ,  H01J2237/0458 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/31771 ,  H01J2237/31776

摘要： A pattern forming method includes providing a resist, irradiating a first electron beam to a first region of the resist, and irradiating a second electron beam to a second region which is defined along a boundary of the first region of the resist, wherein the first electron beam has a first cross section having a polygonal shape, and the second electron beam has a second cross section having a polygonal shape.

摘要翻译： 图案形成方法包括提供抗蚀剂，将第一电子束照射到抗蚀剂的第一区域，并且将第二电子束照射到沿着抗蚀剂的第一区域的边界限定的第二区域，其中第一电子 梁具有具有多边形形状的第一横截面，并且第二电子束具有具有多边形形状的第二横截面。

公开(公告)号：US08329381B2

公开(公告)日：2012-12-11

申请号：US13399090

申请日：2012-02-17

申请人： Jin Choi ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

发明人： Jin Choi ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

IPC分类号： G03C5/00

CPC分类号： H01J37/3026 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31776

摘要： A pattern forming method includes providing a first mask with a first aperture, forming a first transfer pattern on a resist by irradiating a first electron beam through the first aperture, the first transfer pattern extending in a first direction and having a boundary along a circumference thereof, and the first electron beam having a cross section of a first square when emerging from the first aperture, and forming a second transfer pattern on the resist by irradiating a second electron beam through the first aperture, the second transfer pattern extending in the first direction and overlapping a portion the boundary of the first transfer pattern, and the second electron beam having a cross section of a second square when emerging from the first aperture.

摘要翻译： 图案形成方法包括：提供具有第一孔的第一掩模，通过照射通过第一孔的第一电子束，在抗蚀剂上形成第一转印图案，第一转印图案沿着第一方向延伸并沿着其圆周具有边界 并且所述第一电子束在从所述第一孔出射时具有第一正方形的横截面，并且通过照射通过所述第一孔的第二电子束在所述抗蚀剂上形成第二转移图案，所述第二转移图案沿所述第一方向延伸 并且当从第一孔径出现时，与第一转印图案的边界的一部分重叠，并且第二电子束具有第二正方形的横截面。

公开(公告)号：US08673522B2

公开(公告)日：2014-03-18

申请号：US13571043

申请日：2012-08-09

申请人： Jin Choi ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

发明人： Jin Choi ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

IPC分类号： G03F1/38

CPC分类号： G03F1/44

摘要： A method for manufacturing a photomask includes forming a photoresist film on a substrate, and forming a defect detecting pattern on the photoresist film. The defect detecting pattern has a first pattern elongated in a first direction and a second pattern overlapping one end of the first pattern and elongated in a second direction different from the first direction. The first pattern and the second pattern are formed using electron beams (e-beam) diffracted by a same amplifier.

摘要翻译： 光掩模的制造方法包括在基板上形成光致抗蚀剂膜，在光致抗蚀剂膜上形成缺陷检测图案。 缺陷检测图案具有沿第一方向延伸的第一图案和与第一图案的一端重叠的第二图案，并且在与第一方向不同的第二方向上延伸。 使用由同一放大器衍射的电子束（e-beam）形成第一图案和第二图案。

公开(公告)号：US20120148959A1

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：US13399090

申请日：2012-02-17

申请人： Jin CHOI ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

发明人： Jin CHOI ,  Byung-Gook Kim ,  Hee-Bom Kim ,  Sang-Hee Lee

IPC分类号： G03F7/22 ,  G03F7/20

CPC分类号： H01J37/3026 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/31776

摘要： A pattern forming method includes providing a first mask with a first aperture, forming a first transfer pattern on a resist by irradiating a first electron beam through the first aperture, the first transfer pattern extending in a first direction and having a boundary along a circumference thereof, and the first electron beam having a cross section of a first square when emerging from the first aperture, and forming a second transfer pattern on the resist by irradiating a second electron beam through the first aperture, the second transfer pattern extending in the first direction and overlapping a portion the boundary of the first transfer pattern, and the second electron beam having a cross section of a second square when emerging from the first aperture.

摘要翻译： 图案形成方法包括：提供具有第一孔的第一掩模，通过照射通过第一孔的第一电子束，在抗蚀剂上形成第一转印图案，第一转印图案沿着第一方向延伸并沿着其圆周具有边界 并且所述第一电子束在从所述第一孔出射时具有第一正方形的横截面，并且通过照射通过所述第一孔的第二电子束在所述抗蚀剂上形成第二转移图案，所述第二转移图案沿所述第一方向延伸 并且当从第一孔径出现时，与第一转印图案的边界的一部分重叠，并且第二电子束具有第二正方形的横截面。

公开(公告)号：US09386311B2

公开(公告)日：2016-07-05

申请号：US13977491

申请日：2011-12-01

申请人： Sang-Hee Lee ,  Fangwen Fu ,  Zhijun Lei

发明人： Sang-Hee Lee ,  Fangwen Fu ,  Zhijun Lei

IPC分类号： H04N7/36 ,  H04N19/51 ,  H04N19/30 ,  H04N19/463 ,  H04N19/132 ,  H04N19/184 ,  H04N19/42 ,  H04N19/43

CPC分类号： H04N19/51 ,  H04N19/132 ,  H04N19/184 ,  H04N19/30 ,  H04N19/42 ,  H04N19/43 ,  H04N19/463

摘要： Systems, apparatus and methods are described including determining a first value by reducing a bit-length of a reference pixel value and adding a first predetermined value to the result and determining a second value by subtracting a residual pixel value from a current pixel value to generate a difference value, reducing a bit-length of the difference value and adding the first predetermined value to the result. The range of the second value may then be clipped by setting the second value to zero when the second value is equal to or less than a second predetermined value and setting the second value to a third predetermined value when the second value is equal to or greater than a fourth predetermined value. The first value and the second value may then be used for inter-layer residual prediction in Scalable Video Coding (SVC) systems.

摘要翻译： 描述了系统，装置和方法，包括通过减小参考像素值的位长度并将第一预定值加到结果来确定第一值，并通过从当前像素值减去残差像素值来产生第二值以产生 差值，减小差值的位长并将第一预定值加到结果上。 然后可以通过在第二值等于或小于第二预定值时将第二值设置为零来限制第二值的范围，并且当第二值等于或等于更大时将第二值设置为第三预定值 超过第四预定值。 然后可以将第一值和第二值用于可伸缩视频编码（SVC）系统中的层间残差预测。

公开(公告)号：US08425240B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US13234693

申请日：2011-09-16

申请人： Chul-Sub Lee ,  Sang-Hee Lee ,  Kun-Taek Lim

发明人： Chul-Sub Lee ,  Sang-Hee Lee ,  Kun-Taek Lim

IPC分类号： H01R13/648

CPC分类号： H01R13/6593 ,  H01R13/5812 ,  H01R13/6471

摘要： A shield cover for a braided wire shield that is capable of securely fixing a braided wire to a shield member through a single pressing operation. The shield cover having a mating end, an inner casing, an outer cover housing. and a securing section. The inner casing positioned at an end opposite the mating end and having a shield receiving passageway. The outer cover housing positioned at the mating end of the shield cover and forming a connector receiving passageway being wider than the shield receiving passageway. The securing section extends from the inner casing toward the mating end and positioned apart from the outer cover housing.

摘要翻译： 用于编织线屏蔽的屏蔽罩，其能够通过单次按压操作将编织线牢固地固定到屏蔽构件。 屏蔽盖具有配合端，内壳，外盖壳体。 和固定部分。 内壳体位于与配合端相对的端部并且具有屏蔽接收通道。 外盖壳体位于屏蔽盖的配合端并且形成比屏蔽接收通道更宽的连接器接收通道。 固定部分从内壳延伸到配合端并且与外盖壳体分开定位。

公开(公告)号：US20120028500A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：US13234693

申请日：2011-09-16

申请人： Chul-Sub Lee ,  Sang-Hee Lee ,  Kun-Taek Lim

发明人： Chul-Sub Lee ,  Sang-Hee Lee ,  Kun-Taek Lim

IPC分类号： H01R13/648

CPC分类号： H01R13/6593 ,  H01R13/5812 ,  H01R13/6471

摘要： A shield cover for a braided wire shield that is capable of securely fixing a braided wire to a shield member through a single pressing operation. The shield cover having a mating end, an inner casing, an outer cover housing. and a securing section. The inner casing positioned at an end opposite the mating end and having a shield receiving passageway. The outer cover housing positioned at the mating end of the shield cover and forming a connector receiving passageway being wider than the shield receiving passageway. The securing section extends from the inner casing toward the mating end and positioned apart from the outer cover housing.

摘要翻译： 用于编织线屏蔽的屏蔽罩，其能够通过单次按压操作将编织线牢固地固定到屏蔽构件。 屏蔽盖具有配合端，内壳，外盖壳体。 和固定部分。 内壳体位于与配合端相对的端部并且具有屏蔽接收通道。 外盖壳体位于屏蔽盖的配合端并且形成比屏蔽接收通道更宽的连接器接收通道。 固定部分从内壳延伸到配合端并且与外盖壳体分开定位。

公开(公告)号：US20110187956A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：US12915574

申请日：2010-10-29

申请人： Jeung-Soo KIM ,  Sang-Hee Lee ,  Jeong-Ho Hwang ,  Seung-Mock Ro ,  Kyu-Han Bae

发明人： Jeung-Soo KIM ,  Sang-Hee Lee ,  Jeong-Ho Hwang ,  Seung-Mock Ro ,  Kyu-Han Bae

IPC分类号： G02F1/1333

CPC分类号： G02F1/1333

摘要： A liquid crystal display (LCD) including: a display panel; a backlight unit to radiate light to the display panel; a mold frame surrounding the backlight unit and supporting the display panel; a housing to receive the display panel, backlight unit, and mold frame; and a resin unit provided between the display panel and the housing. A receiving groove is formed below the resin unit, by sloped surfaces of the mold frame and side walls of the housing.

摘要翻译： 一种液晶显示器（LCD），包括：显示面板; 背光单元，用于将光照射到显示面板; 围绕所述背光单元并支撑所述显示面板的模框; 用于接收显示面板，背光单元和模具框架的壳体; 以及设置在显示面板和壳体之间的树脂单元。 在树脂单元的下方，通过模架的倾斜表面和壳体的侧壁形成接收槽。