公开(公告)号：US5240807A

公开(公告)日：1993-08-31

申请号：US388769

申请日：1989-08-02

申请人： Sangya Jain ,  Salvatore Emmi ,  Thomas S. Phillips

发明人： Sangya Jain ,  Salvatore Emmi ,  Thomas S. Phillips

IPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/095

CPC分类号： G03F7/0952 ,  G03F7/091

摘要： A water soluble built-on mask layer is provided on a photoresist composition disposed on a substrate. The photoresist comprises an o-quinone diazide and a novolak or paravinyl phenol resin. The built-on mask layer comprises a water soluble, photobleachable diazonium salt, a coupler for the diazonium salt and an acidic, polymeric, film forming resin such as polystyrene sulfonic acid.

摘要翻译： 在设置在基板上的光致抗蚀剂组合物上设置水溶性内置掩模层。 光致抗蚀剂包括邻醌二叠氮化物和酚醛清漆或对羟基苯乙烯基酚树脂。 内置掩模层包含水溶性光可漂白重氮盐，重氮盐的偶合剂和酸性聚合物成膜树脂如聚苯乙烯磺酸。

公开(公告)号：US5019488A

公开(公告)日：1991-05-28

申请号：US517530

申请日：1990-04-24

申请人： Donald C. Mammato ,  Sangya Jain ,  Dana Durham ,  Mark A. Spak ,  Douglas A. Usifer ,  Michael McFarland

发明人： Donald C. Mammato ,  Sangya Jain ,  Dana Durham ,  Mark A. Spak ,  Douglas A. Usifer ,  Michael McFarland

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/039

摘要： A method for producing a negative image by coating a substrate with a photosensitive layer containing a blocked hydrophobic polymer capable of deblocking in the presence of an acid, and an oxime sulfonate ester or o-quinone-4-sulfonyl-containing diazide, then imagewise exposing, treating with a gaseous base, removing excess base, overall flood exposing, baking and developing with an aqueous alkaline solution.

摘要翻译： 通过用含有在酸存在下能够解封的封闭的疏水性聚合物的感光层和肟磺酸酯或邻醌-4-磺酰基的重氮化物涂布基材来制造负像的方法，然后成像曝光 用气态碱处理，除去过量的碱，总体暴露，用碱性水溶液烘烤和显影。

公开(公告)号：US4588670A

公开(公告)日：1986-05-13

申请号：US706817

申请日：1985-02-28

申请人： Michael Kelly ,  Donald C. Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain ,  Lawrence Crane

发明人： Michael Kelly ,  Donald C. Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain ,  Lawrence Crane

IPC分类号： C09K9/02 ,  G03C1/72 ,  G03F7/022 ,  G03C1/54 ,  G03C1/60 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/022

摘要： A light sensitive composition for the preparation of a positive acting photoresist which is a mixture of an alkali soluble resin and a compound of the formula ##STR1## wherein X is a naphthoquinone-(1,2)-diazide-(2)-sulfonyl residue.

摘要翻译： 一种用于制备正性光致抗蚀剂的光敏组合物，其为碱溶性树脂和下式化合物的混合物，其中X为萘醌 - （1,2） - 叠氮化物 - （2） - 磺酰基残基 。

公开(公告)号：US5399456A

公开(公告)日：1995-03-21

申请号：US978099

申请日：1992-11-19

申请人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

发明人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/38 ,  G03F7/023

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： A process for converting a normally positive working photosensitive composition to a negative working composition. One forms a composition containing an alkali soluble resin, a 1,2 quinone diazide-4-sulfonyl compound and an acid catalyzed crosslinker in a solvent mixture. After drying and imagewise exposing, the composition is baked and developed to produce a negative image.

摘要翻译： 将正常工作的感光性组合物转变成负极组合物的方法。 一种在溶剂混合物中形成含有碱溶性树脂，1,2-醌二叠氮-4-磺酰基化合物和酸催化交联剂的组合物。 干燥和成像曝光后，将组合物烘焙和显影以产生负像。

公开(公告)号：US4835086A

公开(公告)日：1989-05-30

申请号：US156353

申请日：1988-02-12

申请人： Sangya Jain

发明人： Sangya Jain

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26

CPC分类号： G03F7/094

摘要： A photosensitive article which comprises a substrate, a first light sensitive layer on the substrate, a polysulfone layer and a second light sensitive layer. The first light sensitive layer preferably comprises a depolymerizable polymethyl methacrylate polymer and the second light sensitive layer preferably comprises on o-quinone diazide in admixture with a water insoluble, aqueous alkaline soluble binder resin.

摘要翻译： 一种感光制品，包括基底，基底上的第一感光层，聚砜层和第二光敏层。 第一感光层优选包含可解聚聚甲基丙烯酸甲酯聚合物，并且第二感光层优选包含在邻醌二叠氮化物上与水不溶性水性碱溶性粘合剂树脂的混合物。

公开(公告)号：US5256522A

公开(公告)日：1993-10-26

申请号：US815645

申请日：1991-12-30

申请人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

发明人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/2022 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： A process for converting a normally positive working photosensitive composition to a negative working composition is disclosed. One forms a composition containing an alkali soluble resin, a 1,2 quinone diazide-4-sulfonyl compound and an acid catalyzed crosslinker in a solvent mixture. After drying and imagewise exposing, the composition is baked and developed to produce a negative image. The image-reversal negative-working photoresists of this invention have superior storage stability and shelf life.

摘要翻译： 公开了将正常正性感光性组合物转变为负性组合物的方法。 一种在溶剂混合物中形成含有碱溶性树脂，1,2-醌二叠氮-4-磺酰基化合物和酸催化交联剂的组合物。 干燥和成像曝光后，将组合物烘焙和显影以产生负像。 本发明的图像反转负性光刻胶具有优异的储存稳定性和保质期。

公开(公告)号：US4931381A

公开(公告)日：1990-06-05

申请号：US268640

申请日：1988-11-08

申请人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

发明人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： A process for converting a normally positive working photosensitive composition to a negative working composition. One forms a composition containing an alkali soluble resin, a 1,2 quinone diazide-4-sulfonyl compound and an acid catalyzed crosslinker in a solvent mixture. After drying and imagewise exposing, the composition is baked and developed to produce a negative image.

摘要翻译： 将正常工作的感光性组合物转变成负极组合物的方法。 一种在溶剂混合物中形成含有碱溶性树脂，1,2-醌二叠氮-4-磺酰基化合物和酸催化交联剂的组合物。 干燥和成像曝光后，将组合物烘焙和显影以产生负像。

公开(公告)号：US4929536A

公开(公告)日：1990-05-29

申请号：US268639

申请日：1988-11-08

申请人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

发明人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： A process for converting a normally positive working photosensitive composition to a negative working composition is disclosed. One forms a composition containing an alkali soluble resin, a 1,2 quinone diazide-4-sulfonyl compound and an acid catalyzed crosslinker in a solvent mixture. After drying and imagewise exposing, the composition is baked and developed to produce a negative image. The image-reversal negative-working photoresists of this invention have superior storage stability and shelf life.

摘要翻译： 公开了将正常正性感光性组合物转变为负性组合物的方法。 一种在溶剂混合物中形成含有碱溶性树脂，1,2-醌二叠氮-4-磺酰基化合物和酸催化交联剂的组合物。 干燥和成像曝光后，将组合物烘焙和显影以产生负像。 本发明的图像反转负性光刻胶具有优异的储存稳定性和保质期。

公开(公告)号：US5217840A

公开(公告)日：1993-06-08

申请号：US530545

申请日：1990-05-25

申请人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

发明人： Mark A. Spak ,  Donald Mammato ,  Dana Durham ,  Sangya Jain

IPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/38 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/168

摘要： A process for converting a normally positive working photosensitive composition to a negative working composition. One forms a composition containing an alkali soluble resin, a 1,2 quinone diazide-4-sulfonyl compound and an acid catalyzed crosslinker in a solvent mixture. After drying and imagewise exposing, the composition is baked and developed to produce a negative image.

摘要翻译： 将正常工作的感光性组合物转变成负极组合物的方法。 一种在溶剂混合物中形成含有碱溶性树脂，1,2-醌二叠氮-4-磺酰基化合物和酸催化交联剂的组合物。 干燥和成像曝光后，将组合物烘焙和显影以产生负像。

公开(公告)号：US4863827A

公开(公告)日：1989-09-05

申请号：US921291

申请日：1986-10-20

申请人： Sangya Jain ,  Yuh-Loo Chang

发明人： Sangya Jain ,  Yuh-Loo Chang

IPC分类号： G03C1/72 ,  G03F7/022 ,  G03F7/095

CPC分类号： G03F7/095

摘要： A process for forming a multi-level positive working photosensitive element. One forms a composition containing an alkali soluble resin, an o-quinonediazide compound and an in-situ generated acid catalyzed crosslinker in a solvent mixture. After coating on a substrate, drying and partially cross-linking the first layer, a second positive working light sensitive layer is applied. Each light sensitive layer is activated by u.v. radiation in different parts of the spectrum. The top layer is imagewise exposed and developed to form a mask. The second layer is flood exposed through this mask and developed. Each development is conducted with an aqueous alkaline solution.

摘要翻译： 一种形成多级正性感光元件的方法。 一种在溶剂混合物中形成含有碱溶性树脂，邻醌二叠氮化合物和原位产生的酸催化交联剂的组合物。 在基板上涂布之后，干燥并部分交联第一层，施加第二正性工作光敏层。 每个光敏层由u.v. 辐射在不同部位的光谱。 顶层被图像曝光和显影以形成掩模。 第二层是通过这个面罩暴露出来并开发出来的。 每个显影用碱性水溶液进行。