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    PROACTIVE ARC MANAGEMENT OF A PLASMA LOAD
    1.
    发明申请
    PROACTIVE ARC MANAGEMENT OF A PLASMA LOAD 有权
    等离子体负载的主动弧管理

    公开(公告)号：US20120043890A1

    公开(公告)日：2012-02-23

    申请号：US12859998

    申请日：2010-08-20

    申请人： Skip B. Larson ,  Kenneth E. Nauman ,  Hendrik Walde ,  R. Mike McDonald

    发明人： Skip B. Larson ,  Kenneth E. Nauman ,  Hendrik Walde ,  R. Mike McDonald

    IPC分类号： H05H1/24

    CPC分类号： H05H1/46 ,  H05H2001/4682

    摘要： Proactive arc management systems and methods are disclosed. In many implementations, proactive arc management is accomplished by executing an arc handling routine in response to an actual arc occurring in the plasma load and in response to proactive arc handling requests in a sampling interval. The number of proactive arc handling requests in a sampling interval is a function of a proactive arc management count that in turn is a function of actual number of arcs in a preceding sampling interval. Accordingly during a present sampling interval proactive arc management executes arc handling for actual arcs in the present sampling interval and for each count in a proactive arc management count updated as a function of the number of arcs in the immediately preceding sampling interval.

    摘要翻译： 公开了主动弧管理系统和方法。 在许多实现中，主动电弧管理是通过响应于在等离子体负载中发生的实际电弧并且响应于采样间隔中的主动电弧处理请求执行电弧处理程序而实现的。 采样间隔中的主动弧处理请求的数量是主动弧管理计数的函数，而主动弧管理计数又是先前采样间隔中实际弧数的函数。 因此，在当前采样间隔期间，主动弧管理对当前采样间隔中的实际弧执行弧处理，并且以在紧接在前的采样间隔内的弧数的函数更新的主动弧管理计数中的每个计数。

    Current Threshold Response Mode for Arc Management
    2.
    发明申请
    Current Threshold Response Mode for Arc Management 有权
    电弧管理的当前阈值响应模式

    公开(公告)号：US20120285620A1

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：US13104762

    申请日：2011-05-10

    申请人： Skip B. Larson ,  Kenneth E. Nauman

    发明人： Skip B. Larson ,  Kenneth E. Nauman

    IPC分类号： H05B31/26 ,  H01L21/3065

    CPC分类号： H01J37/32944 ,  H01J37/32064 ,  H01J37/3299

    摘要： This disclosure describes systems, methods, and apparatuses for extinguishing electrical arcs in a plasma processing chamber. Once an arc is detected, the steady state voltage provided to the plasma processing chamber can be reduced, and the current being provided to the chamber decays below a steady state value as the arc is extinguished. When the current falls to or below a current threshold, the voltage can be ramped back up bringing the voltage and current back to steady state values. This technique enables power to return to a steady state level faster than traditional arc mitigation techniques.

    摘要翻译： 本公开描述了用于在等离子体处理室中熄灭电弧的系统，方法和装置。 一旦检测到电弧，可以减小提供给等离子体处理室的稳态电压，并且当电弧熄灭时，提供给室的电流衰减到低于稳态值。 当电流下降到或低于电流阈值时，可以将电压反斜坡，使电压和电流恢复到稳定状态值。 这种技术使电源能够比传统的电弧缓解技术更快地恢复到稳定状态。

    Current threshold response mode for arc management
    4.
    发明授权
    Current threshold response mode for arc management 有权
    电弧管理的当前阈值响应模式

    公开(公告)号：US09263241B2

    公开(公告)日：2016-02-16

    申请号：US13104762

    申请日：2011-05-10

    申请人： Skip B. Larson ,  Kenneth E. Nauman

    发明人： Skip B. Larson ,  Kenneth E. Nauman

    IPC分类号： C23C16/00 ,  H01J37/32

    CPC分类号： H01J37/32944 ,  H01J37/32064 ,  H01J37/3299

    摘要： This disclosure describes systems, methods, and apparatuses for extinguishing electrical arcs in a plasma processing chamber. Once an arc is detected, the steady state voltage provided to the plasma processing chamber can be reduced, and the current being provided to the chamber decays below a steady state value as the arc is extinguished. When the current falls to or below a current threshold, the voltage can be ramped back up bringing the voltage and current back to steady state values. This technique enables power to return to a steady state level faster than traditional arc mitigation techniques.

    摘要翻译： 本公开描述了用于在等离子体处理室中熄灭电弧的系统，方法和装置。 一旦检测到电弧，可以减小提供给等离子体处理室的稳态电压，并且当电弧熄灭时，提供给室的电流衰减到低于稳态值。 当电流下降到或低于电流阈值时，可以将电压反斜坡，使电压和电流恢复到稳定状态值。 这种技术使电源能够比传统的电弧缓解技术更快地恢复到稳定状态。