公开(公告)号：US20050096222A1

公开(公告)日：2005-05-05

申请号：US10507781

申请日：2003-03-13

申请人： Tomoya Hidaka ,  Tadashi Kawakami

发明人： Tomoya Hidaka ,  Tadashi Kawakami

IPC分类号： G11B7/244 ,  B41M5/30 ,  B41M5/333 ,  C07C317/22 ,  C07C317/44 ,  C07C323/22 ,  C07C323/52 ,  C07C323/60 ,  C07C327/28 ,  C07C333/08 ,  C07C335/26 ,  C07C335/42 ,  G11B7/245 ,  G11B7/246 ,  B41M5/20

CPC分类号： B41M5/3336 ,  B41M5/155 ,  B41M5/3335 ,  C07C317/22 ,  C07C317/44 ,  C07C323/52 ,  C07C323/60 ,  C07C327/28 ,  C07C333/08 ,  G11B7/244 ,  G11B7/245

摘要： An object of the present invention is to provide a novel phenolic compound, and a recording material containing the same, which is excellent in storage stability. The object can be achieved by a phenolic compound represented by the formula (I): [wherein m represents an integer of 0 to 2; R1 and R2 each independently represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 alkoxy group; p and q each independently represents an integer of 0 to 4; t and u each independently represents 0 or 1 and do not simultaneously represent 0; and X represents a group represented by any of the formulas (II) to (VII): (wherein R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 and R11 each independently represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group; a represents an integer of 1 to 6; b represents an integer of 0 to 4; and c represents an integer of 0 to 6)] and a recording material containing the same.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种新型酚类化合物及含有该酚类化合物的记录材料，其储存稳定性优异。 该目的可以通过式（I）表示的酚类化合物来实现：[其中m表示0〜2的整数， R 1和R 2各自独立地表示C 1 -C 6烷基或C 1 -C 6烷氧基; p和q各自独立地表示0〜4的整数; t和u各自独立地表示0或1并且不同时表示0; 并且X表示由式（II）至（VII）中的任一个表示的基团：其中R 3，R 4，R 5， R 6，R 7，R 8，R 9，R 10， 和R 11各自独立地表示氢原子或C 1 -C 6烷基; a表示1〜6的整数; b表示0〜4的整数，c表示0〜 6）]和含有该记录材料的记录材料。

公开(公告)号：US07012159B1

公开(公告)日：2006-03-14

申请号：US10089131

申请日：2000-10-04

申请人： Tomoya Hidaka ,  Shinichi Sato ,  Tadashi Kawakami

发明人： Tomoya Hidaka ,  Shinichi Sato ,  Tadashi Kawakami

IPC分类号： C07C233/05 ,  C07C321/12 ,  C07C317/02

CPC分类号： B41M5/3336 ,  B41M5/155 ,  C07C317/24 ,  C07C317/44 ,  C07C323/22 ,  C07C323/60

摘要： Phenolic compounds of general formula (I); and recording materials characterized by containing one of them and exhibiting high light stability wherein R1 and R2 are each hydrogen or C1-C6 alkyl; m is an integer of 1 to 6; n is an integer of 0 to 2; p and t are each an integer of 0 to 3 with the proviso that not both are simultaneously 0; R3 and R4 are each nitro, carboxyl, halogeno, C1-C6 alkyl, or the like; q and u are each an integer of 0 to 2 with the proviso that when q or u is 2, R3s or R4s may be different from each other; and Y is CO or NR5CO (wherein R5 is hydrogen or the like), with the proviso that when Y is CO, p is 1 and that when p is 0 and Y is NR5CO, n is not 0.

摘要翻译： 通式（I）的酚类化合物; 以及其中含有其中一种并表现出高光稳定性的记录材料，其中R 1和R 2各自为氢或C 1 -C 3烷基， 烷基; m为1〜6的整数。 n为0〜2的整数， p和t各自为0至3的整数，条件是两者不同时为0; R 3和R 4各自为硝基，羧基，卤代C 1 -C 6烷基，或者 喜欢; q和u各自为0至2的整数，条件是当q或u为2时，R 3或R 4可以彼此不同; 并且Y是CO或NR 5 CO（其中R 5是氢等），条件是当Y是CO时，p是1，当p是 0和Y是NR 5 CO，n不为0。

公开(公告)号：US07169737B2

公开(公告)日：2007-01-30

申请号：US10507781

申请日：2003-03-13

申请人： Tomoya Hidaka ,  Tadashi Kawakami

发明人： Tomoya Hidaka ,  Tadashi Kawakami

IPC分类号： B41M5/30

CPC分类号： B41M5/3336 ,  B41M5/155 ,  B41M5/3335 ,  C07C317/22 ,  C07C317/44 ,  C07C323/52 ,  C07C323/60 ,  C07C327/28 ,  C07C333/08 ,  G11B7/244 ,  G11B7/245

摘要： An object of the present invention is to provide a novel phenolic compound, and a recording material containing the same, which is excellent in storage stability. The object can be achieved by a phenolic compound represented by the formula (I): [wherein m represents an integer of 0 to 2; R1 and R2 each independently represents a C1–C6 alkyl group or a C1–C6 alkoxy group; p and q each independently represents an integer of 0 to 4; t and u each independently represents 0 or 1 and do not simultaneously represent 0; and X represents a group represented by any of the formulas (II) to (VII): (wherein R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 and R11 each independently represents a hydrogen atom or a C1–C6 alkyl group; a represents an integer of 1 to 6; b represents an integer of 0 to 4; and c represents an integer of 0 to 6)] and a recording material containing the same.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种新型酚类化合物及含有该酚类化合物的记录材料，其储存稳定性优异。 该目的可以通过式（I）表示的酚类化合物来实现：[其中m表示0〜2的整数， R 1和R 2各自独立地表示C 1 -C 6烷基或C 1 -C 6烷氧基; p和q各自独立地表示0〜4的整数; t和u各自独立地表示0或1并且不同时表示0; 并且X表示由式（II）至（VII）中的任一个表示的基团：其中R 3，R 4，R 5， R 6，R 7，R 8，R 9，R 10， 和R 11各自独立地表示氢原子或C 1 -C 6烷基; a表示1〜6的整数; b表示0〜4的整数，c表示0〜 6）]和含有该记录材料的记录材料。

公开(公告)号：US08197906B2

公开(公告)日：2012-06-12

申请号：US12777666

申请日：2010-05-11

申请人： Nobuo Kimura ,  Yoshitaka Fujita ,  Norifumi Nakamoto ,  Tomoya Hidaka

发明人： Nobuo Kimura ,  Yoshitaka Fujita ,  Norifumi Nakamoto ,  Tomoya Hidaka

IPC分类号： B05D5/00

CPC分类号： C09D5/00 ,  B05D1/185 ,  C03C17/30 ,  Y10T428/261 ,  Y10T428/31504

摘要： A method for producing an organic thin film in which an organic thin film is formed on the surface of a substrate, including a step (A) of bringing the substrate into contact with an organic solvent solution containing a metal-based surfactant having at least one hydrolysable group, and a catalyst capable of interacting with the metal-based surfactant, wherein the water contact within the organic solvent solution is either set or maintained within a predetermined range.

摘要翻译： 一种制造有机薄膜的方法，其中在基材表面上形成有机薄膜，该方法包括使基材与含有至少一种金属基表面活性剂的有机溶剂溶液接触的步骤（A） 可水解基团和能够与金属基表面活性剂相互作用的催化剂，其中有机溶剂溶液中的水接触被设定或保持在预定范围内。

公开(公告)号：US20100324210A1

公开(公告)日：2010-12-23

申请号：US12866899

申请日：2009-02-23

申请人： Tomoya Hidaka ,  Toshiaki Takahashi ,  Kazuhisa Kumazawa

发明人： Tomoya Hidaka ,  Toshiaki Takahashi ,  Kazuhisa Kumazawa

IPC分类号： C08K5/1535 ,  C08L83/06 ,  C08K5/1545

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/045 ,  C08G77/06 ,  C08G77/16 ,  C08G77/18 ,  C08G79/00 ,  C08G79/12 ,  C09D185/00 ,  C23C2222/20

摘要： It is to provide a solution for forming an organic metal thin film that can form rapidly a dense monomolecular film with less impurity. A solution for forming an organic thin film comprising(A) at least one organic metal compound shown by the following formula (I) (provided that at least one organic metal compound contains a hydroxyl group); and (B) at least one organic metal compound shown by the following formula (II), R3mM2X54-m  (II) wherein the solution is 40≦[(A)/{(A)+(B)}]×100≦100 (mass %), and 0≦[(B)/{(A)+(B)}]×100≦60 (mass %); or a solution for forming an organic thin film comprising an organic metal compound having at least one hydroxyl group and at least one hydrolysable group among the organic metal compounds shown by the following formula (I); or a solution for forming an organic thin film wherein the mass ratio of trimer with respect to dimer is greater than 0.5 among the metal organic compound shown by formula (I).

摘要翻译： 提供形成有机金属薄膜的解决方案，其可以形成快速形成较少杂质的致密单分子膜。 一种形成有机薄膜的溶液，其包含（A）至少一种由下式（I）表示的有机金属化合物（条件是至少一种有机金属化合物含有羟基）; （B）至少一种下式（II）所示的有机金属化合物，其中溶液为40＆lt;（A）/ {（A）+（B）}]×100＆amp; （质量％），0＆nlE; [（B）/ {（A）+（B）}]×100＆nlE; 60（质量％） 或用于形成有机薄膜的溶液，所述有机薄膜包含由下式（I）表示的有机金属化合物中具有至少一个羟基和至少一个可水解基团的有机金属化合物; 或形成有机薄膜的溶液，其中三聚物相对于二聚体的质量比在式（I）所示的金属有机化合物中大于0.5。

公开(公告)号：US20090281238A1

公开(公告)日：2009-11-12

申请号：US12312096

申请日：2007-11-13

申请人： Tomoya Hidaka ,  Yoshitaka Fujita ,  Norifumi Nakamoto ,  Kazuhisa Kumazawa ,  Eiji Hoshi

发明人： Tomoya Hidaka ,  Yoshitaka Fujita ,  Norifumi Nakamoto ,  Kazuhisa Kumazawa ,  Eiji Hoshi

IPC分类号： C09D5/00

CPC分类号： C09D7/1233 ,  B05D1/185 ,  B05D7/24 ,  B05D2202/00 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/30 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/113 ,  C08K5/01 ,  C08K5/04 ,  C08K5/05 ,  C08K5/5419 ,  C09D7/63 ,  C09K3/18

摘要： The object is to provide a method for forming an organic thin film which enables to form quickly a dense monomolecular film with less impurity. It is a method for forming an organic thin film which comprises:1) a step of preparing a hydroxyl group-containing solution by mixing the following (a), (b) and (c) so that the total amount of (A) and (B) in the hydroxyl group-containing solution becomes 0.1 wt % to 80 wt %, and conducting hydrolysis to generate a hydroxyl group-containing compound; a) an adjuvant for forming an organic thin film comprising a metal surfactant (A) having at least one or more hydrolysable group, and a compound (C) that can interact with the metal surfactant in an organic solvent b) a metal surfactant having at least one or more hydrolysable group (B), and c) water 2) a step of preparing a solution for forming an organic thin film by mixing an organic solvent and the hydroxyl group-containing solution obtained in the above step 1); and 3) a step of allowing the substrate to contact with the solution for forming an organic thin film obtained in the above step 2).

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种形成有机薄膜的方法，其能够快速形成具有较少杂质的致密单分子膜。 形成有机薄膜的方法包括：1）通过混合以下（a），（b）和（c）制备含羟基溶液的步骤，使得（A）和 含羟基溶液中的（B）成为0.1重量％〜80重量％，进行水解生成含羟基化合物; a）用于形成包含具有至少一个或多个可水解基团的金属表面活性剂（A）的有机薄膜的助剂和可在有机溶剂中与金​​属表面活性剂相互作用的化合物（C）b）具有 至少一个或多个可水解基团（B）和c）水2）通过混合有机溶剂和在上述步骤1）中获得的含羟基溶液来制备用于形成有机薄膜的溶液的步骤; 和3）允许基板与用于形成上述步骤2）中获得的有机薄膜的溶液接触的步骤。

公开(公告)号：US06831201B2

公开(公告)日：2004-12-14

申请号：US10239483

申请日：2002-09-20

申请人： Kiyoshi Katsuura ,  Tomoya Hidaka ,  Yutaka Takashina ,  Yasuo Ohnuki

发明人： Kiyoshi Katsuura ,  Tomoya Hidaka ,  Yutaka Takashina ,  Yasuo Ohnuki

IPC分类号： C07C31506

CPC分类号： C07C315/04 ,  C07C315/06 ,  C07C317/22

摘要： The present invention is to provide methods for producing highly pure 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfone monoethers advantageously in industrial production. In a process for producing a compound represented by Formula (1) (wherein, R1 and R2 are each independently halogen, alkyl having 1 to 8 carbons or alkenyl having 2 to 8 carbons; m and n are each independently 0 or an integer of 1 to 4; and R3 is alkyl having 1 to 8 carbons, alkenyl having 2 to 8 carbons, cycloalkyl having 3 to 8 carbons or optionally substituted aralkyl), (1) a pH adjustment is carried out twice or more in the purification process, (2) an excessive amount of alkyl halide used is removed, (3) a solvent, such as water, containing 0.05 ppm or less of iron components is used, (4) tanks with corrosion-resistant layers over the inner walls are used, (6) a chelating agent is added, and (7) a means of drying with mechanical stir is applied.

摘要翻译： 本发明提供了在工业生产中有利地生产高纯度4,4'-二羟基二苯基砜单醚的方法。在制备由式（1）表示的化合物（其中R 1和R 2为 各自独立地为卤素，具有1至8个碳的烷基或具有2至8个碳的烯基; m和n各自独立地为0或1至4的整数;并且R 3为具有1至8个碳的烷基，具有2至 8个碳原子数为3〜8的环烷基或任意取代的芳烷基），（1）在纯化工序中进行两次以上的pH调节，（2）除去过量的烷基卤，（3）溶剂 使用含有0.05ppm以下的铁成分的水，（4）使用内壁具有耐腐蚀层的罐，（6）添加螯合剂，（7）使用 应用机械搅拌。

公开(公告)号：US6143060A

公开(公告)日：2000-11-07

申请号：US68187

申请日：1998-05-01

申请人： Hiroshi Fujii ,  Tomoya Hidaka ,  Shinichi Sato ,  Izuo Aoki

发明人： Hiroshi Fujii ,  Tomoya Hidaka ,  Shinichi Sato ,  Izuo Aoki

IPC分类号： B41M5/132 ,  B41M5/155 ,  B41M5/333 ,  B41M5/337 ,  C07D251/26 ,  C07D251/34 ,  C07D251/38 ,  C07D251/46 ,  C09D11/02 ,  C07D251/30

CPC分类号： B41M5/3336 ,  B41M5/132 ,  B41M5/155 ,  B41M5/3375 ,  C07D251/26 ,  C07D251/34 ,  C07D251/38 ,  C07D251/46

摘要： Triazine derivatives of general formula (I); and recording materials excellent in the storage stability of developed images, particularly the resistance thereof to plasticizers.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP96 / 03176 Sec。 371日期：1998年5月1日 102（e）日期1998年5月1日PCT提交1996年10月30日PCT公布。 出版物WO97 / 16431 日期：1997年5月9日通式（I）的三嗪衍生物; 以及显影图像的保存稳定性优异的记录材料，特别是其对增塑剂的电阻。

公开(公告)号：US5609672A

公开(公告)日：1997-03-11

申请号：US495442

申请日：1995-07-26

申请人： Tomoya Hidaka ,  Shinichi Sato ,  Hiroyasu Sato ,  Yutaka Takashina

发明人： Tomoya Hidaka ,  Shinichi Sato ,  Hiroyasu Sato ,  Yutaka Takashina

IPC分类号： B41M5/155 ,  B41M5/333 ,  C07C315/06 ,  C07C317/22 ,  C09D11/02

CPC分类号： B41M5/3336 ,  B41M5/155 ,  C07C315/06

摘要： A method for preventing the generation of the hydration of 4-hydroxy-4'-isopropoxydiphenylsulfone characterized in that the particles of 4-hydroxy-4'-isopropoxydiphenylsulfone are subjected to wet grinding in water in the presence of diphenylsulfone derivatives represented by the general formula (I); ##STR1## wherein R.sup.1 represents hydrogen or lower alkyl, R.sup.2 and R.sup.3 represent each independently lower alkyl, n and m denote 0 or an integer of from 1 to 4, with a proviso that n and m can never be 0 at the same time in case R.sup.1 represents hydrogen, is disclosed. By using the dispersible solution of color developer according to the present invention, the production of high sensitive and unclean background-free thermal sensitive recording papers can be accomplished.

摘要翻译： PCT No.PCT / JP94 / 02221 Sec。 371日期：1995年7月26日 102（e）日期1995年7月26日PCT 1994年12月26日PCT PCT。 公开号WO95 / 18018 日期1995年7月6日一种防止4-羟基-4'-异丙氧基二苯基砜水合产生的方法，其特征在于在二苯基砜衍生物存在下将4-羟基-4'-异丙氧基二苯基砜的颗粒在水中进行湿磨 由通式（I）表示; （I）其中R 1表示氢或低级烷基，R 2和R 3表示各自独立的低级烷基，n和m表示0或1至4的整数，条件是n和m不能为0 公开了在R1表示氢的情况下的相同时间。 通过使用根据本发明的显色剂的可分散溶液，可以实现高灵敏度和不清洁的无背景的热敏记录纸的生产。

公开(公告)号：US09303124B2

公开(公告)日：2016-04-05

申请号：US12866899

申请日：2009-02-23

申请人： Tomoya Hidaka ,  Toshiaki Takahashi ,  Kazuhisa Kumazawa

发明人： Tomoya Hidaka ,  Toshiaki Takahashi ,  Kazuhisa Kumazawa

IPC分类号： C08K5/1535 ,  C08G77/06 ,  C08G77/04 ,  C08G79/00 ,  C08G79/12 ,  C09D185/00 ,  C09D183/04 ,  C08G77/16 ,  C08G77/18

CPC分类号： C09D183/04 ,  C08G77/045 ,  C08G77/06 ,  C08G77/16 ,  C08G77/18 ,  C08G79/00 ,  C08G79/12 ,  C09D185/00 ,  C23C2222/20

摘要： It is to provide a solution for forming an organic metal thin film that can form rapidly a dense monomolecular film with less impurity. A solution for forming an organic thin film comprising (A) at least one organic metal compound shown by the following formula (I) (provided that at least one organic metal compound contains a hydroxyl group); and (B) at least one organic metal compound shown by the following formula (II), R3mM2X54-m  (II) wherein the solution is 40≦[(A)/{(A)+(B)}]×100≦100 (mass %), and 0≦[(B)/{(A)+(B)}]×100≦60 (mass %); or a solution for forming an organic thin film comprising an organic metal compound having at least one hydroxyl group and at least one hydrolysable group among the organic metal compounds shown by the following formula (I); or a solution for forming an organic thin film wherein the mass ratio of trimer with respect to dimer is greater than 0.5 among the metal organic compound shown by formula (I).

摘要翻译： 提供形成有机金属薄膜的解决方案，其可以形成快速形成较少杂质的致密单分子膜。 一种形成有机薄膜的溶液，其包含（A）至少一种由下式（I）表示的有机金属化合物（条件是至少一种有机金属化合物含有羟基）; （B）至少一种下式（II）所示的有机金属化合物，其中溶液为40＆lt;（A）/ {（A）+（B）}]×100＆amp; （质量％），0＆nlE; [（B）/ {（A）+（B）}]×100＆nlE; 60（质量％） 或用于形成有机薄膜的溶液，所述有机薄膜包含由下式（I）表示的有机金属化合物中具有至少一个羟基和至少一个可水解基团的有机金属化合物; 或形成有机薄膜的溶液，其中三聚物相对于二聚体的质量比在式（I）所示的金属有机化合物中大于0.5。