公开(公告)号：US20080002167A1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：US11427183

申请日：2006-06-28

申请人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Hmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

发明人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Hmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

IPC分类号： G03B27/42 ,  G02B9/00

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0856 ,  G02B17/0892 ,  G02B27/0012 ,  G03F7/70091

摘要： The invention concerns a method for operating a projection exposure apparatus to project the image of a structure of an object (5) arranged in an object plane (6) onto a substrate (10) arranged in an image plane (8). The object (5) is illuminated with light of an operating wavelength of the projection exposure apparatus according to one of several adjustable exposure modes. The light produces changes in at least one optical element (9) of the projection exposure apparatus, by which the optical properties of the projection exposure apparatus are influenced. The operation of the projection exposure apparatus makes allowance for the influencing of the optical properties of the projection exposure apparatus or a quantity dependent on the former, being calculated approximately on the basis of the exposure mode used and the structure of the object (5).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于操作投影曝光装置以将布置在物平面（6）中的物体（5）的结构的图像投影到布置在图像平面（8）中的基板（10）上的方法。 根据多种可调曝光模式之一，物体（5）被投影曝光装置的工作波长的光照射。 该光在投影曝光装置的至少一个光学元件（9）中产生变化，由此影响投影曝光装置的光学特性。 投影曝光装置的操作允许基于所使用的曝光模式和对象（5）的结构大致计算投影曝光装置的光学特性或取决于前者的光学特性的影响。

公开(公告)号：US07808615B2

公开(公告)日：2010-10-05

申请号：US11427183

申请日：2006-06-28

申请人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Dittmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

发明人： Toralf Gruner ,  Olaf Conradi ,  Nils Dieckmann ,  Markus Schwab ,  Olaf Dittmann ,  Michael Totzeck ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0856 ,  G02B17/0892 ,  G02B27/0012 ,  G03F7/70091

摘要： The invention concerns a method for operating a projection exposure apparatus to project the image of a structure of an object (5) arranged in an object plane (6) onto a substrate (10) arranged in an image plane (8). The object (5) is illuminated with light of an operating wavelength of the projection exposure apparatus according to one of several adjustable exposure modes. The light produces changes in at least one optical element (9) of the projection exposure apparatus, by which the optical properties of the projection exposure apparatus are influenced. The operation of the projection exposure apparatus makes allowance for the influencing of the optical properties of the projection exposure apparatus or a quantity dependent on the former, being calculated approximately on the basis of the exposure mode used and the structure of the object (5).

摘要翻译： 本发明涉及一种用于操作投影曝光装置以将布置在物平面（6）中的物体（5）的结构的图像投影到布置在图像平面（8）中的基板（10）上的方法。 根据多种可调曝光模式之一，物体（5）被投影曝光装置的工作波长的光照射。 该光在投影曝光装置的至少一个光学元件（9）中产生变化，由此影响投影曝光装置的光学特性。 投影曝光装置的操作允许基于所使用的曝光模式和对象（5）的结构大致计算投影曝光装置的光学特性或取决于前者的光学特性的影响。

公开(公告)号：US07847921B2

公开(公告)日：2010-12-07

申请号：US12177715

申请日：2008-07-22

申请人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US20050146704A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US10949396

申请日：2004-09-27

申请人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US20090040496A1

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：US12177715

申请日：2008-07-22

申请人： Toralf GRUNER ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf GRUNER ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US07408616B2

公开(公告)日：2008-08-05

申请号：US10949396

申请日：2004-09-27

申请人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US08767181B2

公开(公告)日：2014-07-01

申请号：US12946380

申请日：2010-11-15

申请人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

发明人： Toralf Gruner ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Johannes Wangler ,  Markus Brotsack ,  Nils Dieckmann ,  Aksel Goehnermeier ,  Markus Schwab ,  Damian Fiolka ,  Markus Zenzinger

IPC分类号： G03B27/72 ,  G03B27/54 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70225 ,  G03F7/70308

摘要： In an exposure method for exposing a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection exposure system for performing that method, output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. Through variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device, the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.

摘要翻译： 在用于曝光布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及用于执行该方法的投影曝光系统中的曝光方法中，产生了指向基板并具有输出偏振态的输出辐射。 通过借助于至少一个偏振操纵装置对输出偏振状态的可变调节，输出偏振状态可以形成为接近标称输出偏振状态。 可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

公开(公告)号：US20090115986A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：US11916162

申请日：2006-05-23

申请人： Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Jean-Claude Perrin ,  Julian Kaller ,  Aurelian Dodoc ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Conradi ,  Toralf Gruner ,  Thomas Okon ,  Alexander Epple

发明人： Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Jean-Claude Perrin ,  Julian Kaller ,  Aurelian Dodoc ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Conradi ,  Toralf Gruner ,  Thomas Okon ,  Alexander Epple

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B17/08

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/08 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70941

摘要： Microlithography projection objectives for imaging into an image plane a pattern arranged in an object plane are described with respect to suppressing false light in such projection objectives.

摘要翻译： 关于在这样的投影物镜中抑制假光，描述用于成像到平面中的布置在物体平面中的图案的微光刻投影物镜。

公开(公告)号：US20080212060A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：US12065451

申请日：2006-09-02

申请人： Joern Greif-Wuestenbecker ,  Beate Boehme ,  Ulrich Stroessner ,  Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Dittmann ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Bernd Geh

发明人： Joern Greif-Wuestenbecker ,  Beate Boehme ,  Ulrich Stroessner ,  Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Dittmann ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Bernd Geh

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70666 ,  G03F7/70308

摘要： A method for determining intensity distribution in the focal plane of a projection exposure arrangement, in which a large aperture imaging system is emulated and a light from a sample is represented on a local resolution detector by an emulation imaging system. A device for carrying out the method and emulated devices are also described. The invention makes it possible to improve a reproduction quality since the system apodisation is taken into consideration. The inventive method consists in includes determining the integrated amplitude distribution in an output pupil, combining the integrated amplitude distribution with a predetermined apodization correction and calculating a corrected apodization image according to the modified amplitude distribution.

摘要翻译： 一种用于确定投影曝光装置的焦平面中的强度分布的方法，其中大面积成像系统被仿真并且来自样品的光由仿真成像系统在局部分辨率检测器上表示。 还描述了用于执行该方法和仿真装置的装置。 由于考虑到系统变迹，本发明使得可以提高再现质量。 本发明的方法包括确定输出光瞳中的积分幅度分布，将积分幅度分布与预定的变迹校正相结合，并根据修改的幅度分布来计算校正的变迹图像。

公开(公告)号：US07239450B2

公开(公告)日：2007-07-03

申请号：US11181694

申请日：2005-07-14

申请人： Vladimir Kamenov ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Toralf Gruner ,  Aurelian Dodoc

发明人： Vladimir Kamenov ,  Daniel Kraehmer ,  Michael Totzeck ,  Toralf Gruner ,  Aurelian Dodoc

IPC分类号： G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B1/02 ,  G02B1/08 ,  G02B17/0812 ,  G02B17/0892 ,  G03F7/70966

摘要： A method of determining materials of lenses contained in an optical system of a projection exposure apparatus is described. First, for each lens of a plurality of the lenses, a susceptibility factor KLT/LH is determined. This factor is a measure of the susceptibility of the respective lens to deteriorations caused by at least one of lifetime effects and lens heating effects. Then a birefringent fluoride crystal is selected as a material for each lens for which the susceptibility factor KLT/LH is above a predetermined threshold. Theses lenses are assigned to a first set of lenses. For these lenses, measures are determined for reducing adverse effects caused by birefringence inherent to the fluoride crystals.

摘要翻译： 描述了确定投影曝光装置的光学系统中所包含的透镜的材料的方法。 首先，对于多个透镜的每个透镜，确定敏感度因子K LT / LH 。 该因子是由寿命效应和透镜加热效果中的至少一种引起的各透镜对恶化的敏感性的量度。 然后选择双折射氟化物晶体作为敏感度因子K LT / LH <>高于预定阈值的每个透镜的材料。 这些镜头被分配到第一组透镜。 对于这些透镜，确定了减少由氟化物晶体固有的双折射引起的不利影响的措施。