公开(公告)号：US07473907B2

公开(公告)日：2009-01-06

申请号：US11091238

申请日：2005-03-28

申请人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Markus Weiss ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Marcel Dierichs ,  Roel Moors ,  Karl Heinz Schuster ,  Axel Scholz ,  Philipp Bosselmann ,  Bernd Warm

发明人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Markus Weiss ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Marcel Dierichs ,  Roel Moors ,  Karl Heinz Schuster ,  Axel Scholz ,  Philipp Bosselmann ,  Bernd Warm

IPC分类号： G01G1/00 ,  G01J1/42

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558

摘要： There is provided an illumination system that includes (a) a light source that emits light having a wavelength ≦193 nm, where the light provides a predetermined illumination in a plane distant from the light source and defines a used area in the plane, and (b) a sensor, situated in or near the plane, for detecting light outside the used area.

摘要翻译： 提供了一种照明系统，其包括（a）发射波长<= 193nm的光的光源，其中所述光在远离光源的平面中提供预定照明并且在平面中限定使用区域，以及 （b）位于或靠近平面的传感器，用于检测使用区域外的光。

公开(公告)号：US20050274897A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US11091238

申请日：2005-03-28

申请人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Markus Weiss ,  Vadim Banine ,  Marcel Dierichs ,  Roel Moors ,  Karl Schuster ,  Axel Scholz ,  Philipp Bosselmann ,  Bernd Warm

发明人： Wolfgang Singer ,  Martin Antoni ,  Johannes Wangler ,  Markus Weiss ,  Vadim Banine ,  Marcel Dierichs ,  Roel Moors ,  Karl Schuster ,  Axel Scholz ,  Philipp Bosselmann ,  Bernd Warm

IPC分类号： G03F7/20 ,  G01J1/42

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558

摘要： There is provided an illumination system that includes (a) a light source that emits light having a wavelength ≦193 nm, where the light provides a predetermined illumination in a plane distant from the light source and defines a used area in the plane, and (b) a sensor, situated in or near the plane, for detecting light outside the used area.

摘要翻译： 提供了一种照明系统，其包括（a）发射波长<= 193nm的光的光源，其中所述光在远离光源的平面中提供预定照明并且在平面中限定使用区域，以及 （b）位于或靠近平面的传感器，用于检测使用区域外的光。

公开(公告)号：US06737662B2

公开(公告)日：2004-05-18

申请号：US10157033

申请日：2002-05-30

申请人： Heine Melle Mulder ,  Jan Bernard Plechelmus Van Schoot ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Marcel Dierichs

发明人： Heine Melle Mulder ,  Jan Bernard Plechelmus Van Schoot ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings ,  Antonius Johannes Josephus Van Dijsseldonk ,  Marcel Dierichs

IPC分类号： G01N2186

CPC分类号： G03F7/70116 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/702

摘要： A lithographic projection system has an illumination system. A plurality of directing elements reflect different sub-beams of an incident projection beam into adjustable, individually controllable directions. By using of re-directing optics any desired spatial intensity distribution of the projection beam can be produced in its cross-sectional plane.

摘要翻译： 光刻投影系统具有照明系统。 多个引导元件将入射投影光束的不同子光束反射到可调节的，可独立控制的方向。 通过使用重新引导光学元件，可以在其横截面中产生投影光束的所需空间强度分布。

公开(公告)号：US06710856B2

公开(公告)日：2004-03-23

申请号：US09943088

申请日：2001-08-31

申请人： Hans Van Der Laan ,  Marcel Dierichs ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

发明人： Hans Van Der Laan ,  Marcel Dierichs ,  Hendrikus Robertus Marie Van Greevenbroek ,  Markus Franciscus Antonius Eurlings

IPC分类号： G03B2772

CPC分类号： G03F7/70133

摘要： A method of operating a lithographic projection apparatus including forming a spot of radiation at the wafer level using a pinhole at reticle level. A sensor is defocused with respect to the spot such that it is spaced apart from the wafer level. The sensor is scanned beneath the spot to measure the angular intensity distribution of radiation at the spot and to determine the intensity distribution at the pupil plane of the projection lens system.

摘要翻译： 一种操作光刻投影设备的方法，包括在标线片级使用针孔在晶片级形成辐射点。 传感器相对于斑点散焦，使得其与晶片级间隔开。 传感器被扫描在现场以下，以测量在现场的辐射的角度强度分布，并确定在投影透镜系统的光瞳平面处的强度分布。

公开(公告)号：US20050270513A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11139990

申请日：2005-05-31

申请人： Marcel Dierichs ,  Hako Botma ,  Markus Franciscus Eurlings

发明人： Marcel Dierichs ,  Hako Botma ,  Markus Franciscus Eurlings

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/702

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system including a field faceted mirror including a plurality of field facets and configured to receive radiation from a radiation source and form a plurality of images of the radiation source on corresponding pupil facets of a pupil faceted mirror. Each of the field facets is configured to provide an illumination slit at a level of a patterning device. The illumination slits are summed together at the level of the patterning device to illuminate the patterning device. First blades are configured to block radiation from a radiation source and each first blade is selectively actuable to cover a portion of a selectable number of field facets. The field faceted mirror further comprises partial field facets, the partial field facets being configured to produce a partial illumination slit at the level of the patterning device, and the pupil faceted mirror further includes pupil facets corresponding to the partial field facets. The partial field facets are configured to produce an illumination slit that is summed with the summed illumination slits of the field facets and/or correct for non-uniformity in the summed illumination slits of the field facets. Second blades are selectively actuable to cover a portion of a selectable number of partial field facets.

摘要翻译： 光刻设备包括照明系统，该照明系统包括包括多个场面的场分面反射镜，并且被配置为从辐射源接收辐射并且在瞳孔面镜的相应光瞳面上形成辐射源的多个图像。 每个场面被配置为在图案形成装置的水平面上提供照明狭缝。 照明狭缝在图案形成装置的水平面相加在一起，以照亮图案形成装置。 第一刀片被配置为阻挡来自辐射源的辐射，并且每个第一刀片可选择性地致动以覆盖可选择数量的场面的一部分。 场分面镜还包括部分场面，部分场面被配置为在图案形成装置的高度处产生局部照明狭缝，并且瞳孔面镜还包括对应于部分场面的光瞳面。 部分场面被配置为产生与场面的相加的照明狭缝相加的照明狭缝和/或校正场面的相加的照明狭缝中的不均匀性。 第二刀片可选择性地致动以覆盖可选数量的部分场面的一部分。