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    Process tuning with polarization
    1.
    发明授权
    Process tuning with polarization 有权
    极化过程调谐

    公开(公告)号：US09563135B2

    公开(公告)日：2017-02-07

    申请号：US13239034

    申请日：2011-09-21

    申请人： Steven George Hansen ,  Heine Melle Mulder ,  Tsann-Bim Chiou

    发明人： Steven George Hansen ,  Heine Melle Mulder ,  Tsann-Bim Chiou

    IPC分类号： G03B27/68 ,  G03B27/54 ,  G03B27/32 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70566 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70625

    摘要： A method for configuring an illumination source of a lithographic apparatus, the method including dividing the illumination source into pixel groups, each pixel group including one or more illumination source points in a pupil plane of the illumination source; changing a polarization state of each pixel group and determining an incremental effect on each of the plurality of critical dimensions resulting from the change of polarization state; calculating a first plurality of sensitivity coefficients for each of the plurality of critical dimensions using the determined incremental effects; selecting an initial illumination source; iteratively calculating a lithographic metric as a result of a change of polarization state using the calculated first plurality of sensitivity coefficients, the change of the polarization state of the pixel group in the initial illumination source creating a modified illumination source; and adjusting the initial illumination source based on the iterative results of calculations.

    摘要翻译： 一种用于配置光刻设备的照明源的方法，所述方法包括将照明源分为像素组，每个像素组包括照明源的光瞳平面中的一个或多个照明源点; 改变每个像素组的偏振态，并确定由偏振状态改变导致的多个临界尺度中的每一个的增量效应; 使用所确定的增量效应来计算所述多个关键尺寸中的每一个的第一多个灵敏度系数; 选择初始照明源; 使用所计算的第一多个灵敏度系数来迭代地计算作为偏振态的变化的结果的光刻度量，所述初始照明源中的像素组的偏振状态的改变创建修改的照明源; 并根据迭代计算结果调整初始照明源。

    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
    3.
    发明申请
    LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 有权
    LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法

    公开(公告)号：US20130107238A1

    公开(公告)日：2013-05-02

    申请号：US13663924

    申请日：2012-10-30

    申请人： Heine Melle Mulder

    发明人： Heine Melle Mulder

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/26

    CPC分类号： G03F7/2008 ,  G03F7/26 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70575

    摘要： A apparatus having a projection system to project a plurality of radiation beams onto a substrate, wherein the plurality of radiation beams includes a first group of one or more radiation beams formed from radiation within a first wavelength range and a second group of one or more radiation beams formed from radiation within a second wavelength range, different from the first wavelength range. The apparatus also has a dispersion element configured such that one or more radiation beams of the first group are incident on the dispersion element at a different angle from the one or more radiation beams of the second group and such that the one or more radiation beams of the first and second group output from the dispersion element are substantially parallel.

    摘要翻译： 一种具有投影系统以将多个辐射束投影到衬底上的投影系统的装置，其中所述多个辐射束包括由第一波长范围内的辐射和第一组一个或多个辐射形成的第一组一个或多个辐射束 在与第一波长范围不同的第二波长范围内的辐射形成的光束。 该装置还具有一个色散元件，其配置成使得第一组的一个或多个辐射束以与第二组的一个或多个辐射束不同的角度入射在分散元件上，并且使得一个或多个辐射束 从分散元件输出的第一和第二组基本上是平行的。

    Mirror array for lithography
    5.
    发明授权
    Mirror array for lithography 有权
    用于光刻的镜阵列

    公开(公告)号：US08052289B2

    公开(公告)日：2011-11-08

    申请号：US11448152

    申请日：2006-06-07

    申请人： Marius Ravensbergen ,  Heine Melle Mulder

    发明人： Marius Ravensbergen ,  Heine Melle Mulder

    IPC分类号： G02B7/195 ,  G03B27/52

    CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70858

    摘要： A mirror array apparatus includes a carrier configured to support a plurality of individually adjustable reflective elements. At least one actuator is associated with each reflective element, the actuator being configured to adjust the orientation or position of the associated reflective element. The apparatus further includes a liquid in contact with at least a portion of the reflective elements.

    摘要翻译： 镜阵列装置包括被配置为支撑多个可单独调节的反射元件的载体。 至少一个致动器与每个反射元件相关联，致动器被配置成调节相关联的反射元件的取向或位置。 该装置还包括与至少一部分反射元件接触的液体。

    Lithographic Apparatus and Method
    9.
    发明申请
    Lithographic Apparatus and Method 审中-公开
    平版印刷设备和方法

    公开(公告)号：US20130044302A1

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：US13550561

    申请日：2012-07-16

    申请人： Heine Melle MULDER ,  Steven George Hansen ,  Thijs Johan Henry Hollink

    发明人： Heine Melle MULDER ,  Steven George Hansen ,  Thijs Johan Henry Hollink

    IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/32

    CPC分类号： G03F7/70091

    摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system, a patterning device, and a projection system. The illumination system provides a radiation beam. The patterning device imparts the radiation beam with a pattern in its cross-section. The substrate holder holds a substrate. The projection system projects the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The apparatus is constructed and arranged, at least in use, to image a pattern on to the substrate using radiation having: a bright field intensity distribution in a first direction; and a dark field intensity distribution in second direction, substantially perpendicular to the first direction.

    摘要翻译： 光刻设备包括照明系统，图案形成装置和投影系统。 照明系统提供辐射束。 图案形成装置在其横截面中赋予具有图案的辐射束。 衬底保持器支撑衬底。 投影系统将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上。 该装置至少在使用中被构造和布置，以使用具有在第一方向上的亮场强度分布的辐射将图案成像到基板上; 以及基本上垂直于第一方向的第二方向上的暗场强度分布。