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    Systems and Methods for Adjusting Target Manufacturing Parameters on an Absorbent Product Converting Line
    4.
    发明申请
    Systems and Methods for Adjusting Target Manufacturing Parameters on an Absorbent Product Converting Line 有权
    用于调整吸收性产品转换线上目标制造参数的系统和方法

    公开(公告)号：US20150066187A1

    公开(公告)日：2015-03-05

    申请号：US14474554

    申请日：2014-09-02

    申请人： The Procter & Gamble Company

    发明人： Eric Christopher Berg ,  Louis J. Cedrone ,  Jeffrey Michael Kent ,  Helen Louise Von Den Steinen ,  William Lawrence Lightcap ,  Daniel Royce

    IPC分类号： G05B13/02 ,  G05B19/418

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  A61F13/15772 ,  A61F13/15804 ,  G05B2219/32182 ,  G05B2219/32196

    摘要： Systems and processes herein may be configured to correlate manufacturing parameters and performance feedback parameters with individual absorbent articles manufactured by a converting apparatus. Embodiments of the systems herein may include inspection sensors configured to inspect substrates and/or component parts advancing along the converting line and communicate inspection parameters to a controller and historian. The systems may also include process sensors configured to monitor equipment on the converting line and communicate process parameters to the controller and historian. The systems herein may also be adapted to receive performance feedback parameters based on the packaged absorbent articles. The systems may correlate inspection parameters, process parameters, and/or performance feedback parameters with individual absorbent articles produced on the converting line. The controller may also be configured to perform various functions based on the performance feedback parameters.

    摘要翻译： 本文的系统和工艺可以被配置为使制造参数和性能反馈参数与由转换装置制造的各个吸收制品相关联。 这里的系统的实施例可以包括检查传感器，其被配置为检查沿着转换线前进的基板和/或部件部件，并将检查参数传送到控制器和历史记录器。 系统还可以包括被配置为监视转换线路上的设备并且将过程参数传送给控制器和历史数据库的过程传感器。 本文的系统还可以适于基于包装的吸收制品接收性能反馈参数。 系统可以将检查参数，工艺参数和/或性能反馈参数与在转换线上生产的各个吸收制品相关联。 控制器还可以被配置为基于性能反馈参数来执行各种功能。

    Real-Time Feedback Control for Performing Tooling Operations in Assembly Processes
    5.
    发明申请
    Real-Time Feedback Control for Performing Tooling Operations in Assembly Processes 审中-公开
    用于在装配过程中执行模具操作的实时反馈控制

    公开(公告)号：US20150005945A1

    公开(公告)日：2015-01-01

    申请号：US13929138

    申请日：2013-06-27

    申请人： The Boeing Company

    发明人： Chin H. Toh

    IPC分类号： G05B15/02

    CPC分类号： G05B15/02 ,  B21J15/02 ,  B21J15/28 ,  B21J15/285 ,  G05B13/042 ,  G05B19/41805 ,  G05B19/41885 ,  G05B2219/31031 ,  G05B2219/32182 ,  G05B2219/32216 ,  G05B2219/32359 ,  G05B2219/36252 ,  G05B2219/37576 ,  G05B2219/45088 ,  Y02P90/04 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/26

    摘要： A method and apparatus for controlling a tooling operation to be performed by a tooling system in an assembly process. A current set of parameter values for a set of parameters for the tooling system are modified iteratively, until the current set of parameter values are determined to result in the tooling operation producing an output that meets a set of criteria, to form a final set of parameter values. The tooling operation is performed with the tooling system using the final set of parameter values. A determination is made as to whether the output of the tooling operation meets the set of criteria based on sensor data about the output. A new set of parameter values are identified as the current set of parameter values to be evaluated in response to a determination that the output of the tooling operation does not meet the set of criteria.

    摘要翻译： 一种用于在组装过程中控制由加工系统执行的加工操作的方法和装置。 迭代地修改用于工具系统的一组参数的当前参数值集合，直到确定当前参数值集合以导致加工操作产生符合一组标准的输出，以形成最终的一组 参数值。 使用最终的参数值集合，使用加工系统执行加工操作。 根据关于输出的传感器数据，确定加工操作的输出是否符合标准集合。 响应于确定加工操作的输出不符合标准的集合，将新的参数值集合识别为要评估的当前参数值集合。

    DESIGN BASED DEVICE RISK ASSESSMENT
    6.
    发明申请
    DESIGN BASED DEVICE RISK ASSESSMENT 有权
    基于设计的设备风险评估

    公开(公告)号：US20120216169A1

    公开(公告)日：2012-08-23

    申请号：US13399805

    申请日：2012-02-17

    申请人： Allen Park ,  Youseung Jin ,  SungChan Cho ,  Barry Saville

    发明人： Allen Park ,  Youseung Jin ,  SungChan Cho ,  Barry Saville

    IPC分类号： G06F17/50

    CPC分类号： H01L22/12 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/8883 ,  G05B19/41875 ,  G05B2219/32182 ,  H01L22/20 ,  H01L2924/0002 ,  Y02P90/22 ,  Y02P90/265 ,  H01L2924/00

    摘要： The present invention includes defining a multiple patterns of interest utilizing design data of the device; generating a design based classification database, the DBC database including design data associated with each of the POIs; receiving one or more inspection results; comparing the inspection results to each of the plurality of POIs in order to identify an occurrence of at least one of the POIs in the inspection results; determining yield impact of each POI utilizing process yield data; monitoring a frequency of occurrence of each of the POIs and the criticality of the POIs in order to identify process excursions of the device; and determining a device risk level by calculating a normalized polygon frequency for the device utilizing a frequency of occurrence for each of the critical polygons and a criticality for each of the critical polygons, the critical polygons defined utilizing design data of the device.

    摘要翻译： 本发明包括使用设备的设计数据定义多个感兴趣的图案; 生成基于设计的分类数据库，DBC数据库包括与每个POI相关联的设计数据; 接收一个或多个检验结果; 将检查结果与多个POI中的每一个比较，以便识别检查结果中的至少一个POI的发生; 使用过程产量数据确定每个POI的产量影响; 监测每个POI的发生频率和POI的临界性，以便识别该设备的过程偏移; 以及通过使用所述关键多边形中的每个关键多边形的出现频率以及所述关键多边形的关键性计算所述设备的归一化多边形频率来确定设备风险级别，所述关键多边形利用所述设备的设计数据来定义。

    CONTROLLING DEVICE FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD THEREFOR
    7.
    发明申请
    CONTROLLING DEVICE FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD THEREFOR 有权
    用于基板处理装置的控制装置及其方法

    公开(公告)号：US20090132078A1

    公开(公告)日：2009-05-21

    申请号：US11874626

    申请日：2007-10-18

    申请人： Shinji SAKANO

    发明人： Shinji SAKANO

    IPC分类号： G06F19/00

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/32097 ,  G05B2219/32182 ,  G05B2219/32198 ,  G05B2219/37575 ,  G05B2219/37576 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/32135 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/22

    摘要： A target value that serves as a control value with feed forward control is optimized. A TL performs a feed forward and a feedback control of a PM. A storage unit stores a plurality of recipes indicating different processing sequences, and a target value that serves as a control value when performing an etching process. A communication unit causes an IMM to measure a processing state of the wafer and receives measurement information. A computation unit computes a feedback value for the current wafer processed in the current cycle, based on pre-processing and post-processing measurement information for the wafer. An update unit updates the target value using the feedback value. A recipe adjustment unit changes the recipe to change the process performed in the same PM. When the process is performed after changing, the updated target value is used to perform feed forward control of the wafer in the same PM.

    摘要翻译： 作为具有前馈控制的控制值的目标值被优化。 TL执行PM的前馈和反馈控制。 存储单元存储指示不同处理顺序的多个配方，以及当执行蚀刻处理时用作控制值的目标值。 通信单元使IMM测量晶片的处理状态并接收测量信息。 计算单元基于晶片的预处理和后处理测量信息来计算当前周期中处理的当前晶片的反馈值。 更新单元使用反馈值更新目标值。 配方调整单元更改配方以更改在同一个PM中执行的过程。 当改变之后执行处理时，更新的目标值被用于在相同的PM中执行晶片的前馈控制。

    PROCESS CONTROL INTEGRATION SYSTEMS AND METHODS
    8.
    发明申请
    PROCESS CONTROL INTEGRATION SYSTEMS AND METHODS 审中-公开
    过程控制集成系统和方法

    公开(公告)号：US20080140590A1

    公开(公告)日：2008-06-12

    申请号：US11609368

    申请日：2006-12-12

    申请人： Hsueh-Chi Shen

    发明人： Hsueh-Chi Shen

    IPC分类号： G06F15/18 ,  G06F17/00

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/32182 ,  G05B2219/32198 ,  G05B2219/35499 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22

    摘要： Systems of process control integration are provided. An embodiment of a system of process control integration comprises multiple process control systems (PCSs) and a supervisor controller. Each PCS calculates at least one process parameter based on at least one process model, a process target and an acceptable range. The supervisor controller couples to and coordinates the PCSs. A semiconductor fabrication operation is performed on a wafer based on the process parameter.

    摘要翻译： 提供过程控制集成系统。 过程控制集成系统的实施例包括多个过程控制系统（PCS）和主管控制器。 每个PCS基于至少一个过程模型，过程目标和可接受的范围来计算至少一个过程参数。 主管控制器耦合到PCS并协调PCS。 基于工艺参数在晶片上进行半导体制造操作。

    Automated tool recipe verification and correction
    9.
    发明授权
    Automated tool recipe verification and correction 有权
    自动化工具配方验证和校正

    公开(公告)号：US07248936B1

    公开(公告)日：2007-07-24

    申请号：US11307293

    申请日：2006-01-31

    申请人： Timothy L. Holmes ,  Susan M. Cianfrani ,  Roger M. Young

    发明人： Timothy L. Holmes ,  Susan M. Cianfrani ,  Roger M. Young

    IPC分类号： G06F19/00

    CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/31422 ,  G05B2219/31443 ,  G05B2219/32182 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/22

    摘要： Automated tool recipe verification and correction are disclosed. A tool recipe is intercepted during uploading or downloading of the tool recipe. A determination whether an associated parameter verification set (PVS) template for the tool recipe exists is performed, and if it exists, a determination whether to verify the tool recipe is performed. Each parameters of the tool recipe having an auditable corresponding parameter is compared to the auditable corresponding parameter of the associated PVS template. Where no non-matching parameter sets exist, the tool recipe is verified; otherwise, a determination as to whether of all of the non-matching parameter sets are indicated as modifiable in the associated PVS template is made. If all of the parameters of the non-matching parameter sets are modifiable, then they are modified to match the respective auditable corresponding parameter and the tool recipe is verified, otherwise, the verification is inhibited.

    摘要翻译： 公开了自动化的工具配方验证和校正。 工具配方在上传或下载工具配方时被截取。 确定是否存在用于工具配方的相关联的参数验证集（PVS）模板，并且如果存在，则执行是否验证工具配方的确定。 具有可审计对应参数的工具配方的每个参数与相关PVS模板的可审计相应参数进行比较。 在不存在非匹配参数集的情况下，对工具配方进行验证; 否则，做出关于所有不匹配参数集是否在相关联的PVS模板中被指示为可修改的确定。 如果非匹配参数集的所有参数均可修改，则修改它们以匹配相应的可审计对应参数，并且验证工具配方，否则禁止验证。