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    Plasma spraying device and a method for introducing a liquid precursor into a plasma gas stream
    3.
    发明授权
    Plasma spraying device and a method for introducing a liquid precursor into a plasma gas stream 有权
    等离子喷涂装置以及将液体前体引入等离子气体流中的方法

    公开(公告)号：US08001927B2

    公开(公告)日：2011-08-23

    申请号：US11820631

    申请日：2007-06-19

    申请人： Jean-Luc Dorier ,  Christoph Hollenstein ,  Gérard Barbezat ,  Arno Refke

    发明人： Jean-Luc Dorier ,  Christoph Hollenstein ,  Gérard Barbezat ,  Arno Refke

    IPC分类号： C23C16/00

    CPC分类号： H05H1/42 ,  C23C4/134 ,  H05H1/34 ,  H05H2001/3484 ,  Y10T137/0346

    摘要： The invention relates to a plasma spraying device (1) for spraying a coating (2) onto a substrate (3) by a thermal spray process. Said plasma spraying device (1) includes a plasma torch (4) for heating up a plasma gas (5) in a heating zone (6), wherein the plasma torch (4) includes a nozzle body (7) for forming a plasma gas stream (8), and said plasma torch (4) has an aperture (9) running along a central longitudinal axis (10) through said nozzle body (7). The aperture (9) has an convergent section (11) with an inlet (12) for the plasma gas (5), a throat section (13) including a minimum cross-sectional area of the aperture, and a divergent section (14) with an outlet (15) for the plasma gas stream (8), wherein an introducing duct (16) is provided for introducing a liquid precursor (17) into the plasma gas stream (8). According to the invention a penetration means (18, 161, 181, 182) is provided to penetrate the liquid precursor (17) inside the plasma gas stream (8). The invention relates also to a method for introducing a liquid precursor (17) into a plasma gas stream (8) as well as to the use of a plasma spraying device (1) and a method in accordance with the present invention for coating a surface of a substrate (3).

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于通过热喷涂方法将涂层（2）喷涂到基材（3）上的等离子体喷涂装置（1）。 所述等离子喷涂装置（1）包括用于加热加热区（6）中的等离子体气体（5）的等离子体焰炬（4），其中等离子体喷枪（4）包括用于形成等离子体气体的喷嘴体（7） 流（8）和所述等离子体焰炬（4）具有通过所述喷嘴体（7）沿着中心纵向轴线（10）延伸的孔（9）。 孔（9）具有会聚部分（11），其具有用于等离子体气体（5）的入口（12），包括孔的最小横截面面积的喉部（13）和发散部分（14） 具有用于等离子体气流（8）的出口（15），其中提供用于将液体前体（17）引入等离子体气流（8）中的引入管道（16）。 根据本发明，提供穿透装置（18,161,181,182）以穿透等离子气体流（8）内部的液体前体（17）。 本发明还涉及一种将液体前体（17）引入等离子体气流（8）的方法，以及使用等离子体喷涂装置（1）和根据本发明的用于涂覆表面的方法 的基板（3）。

    METHOD FOR PREVENTING EXPLOSION OF EXHAUST GAS IN DECOMPRESSION PROCESSING APPARATUS
    9.
    发明申请
    METHOD FOR PREVENTING EXPLOSION OF EXHAUST GAS IN DECOMPRESSION PROCESSING APPARATUS 审中-公开
    防止排气处理装置中的排气爆炸的方法

    公开(公告)号：US20150330631A1

    公开(公告)日：2015-11-19

    申请号：US14699102

    申请日：2015-04-29

    申请人： Tokyo Electron Limited

    发明人： Norihiko AMIKURA ,  Norikazu SASAKI ,  Risako MIYOSHI

    IPC分类号： F23N5/24 ,  G01N25/54

    CPC分类号： F23N5/24 ,  F23M11/00 ,  F23M2900/11021 ,  G01N25/54 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/32844 ,  Y02C20/30 ,  Y02P70/605 ,  Y10T137/0346

    摘要： Disclosed is a plasma processing apparatus in which a main control unit is capable of managing the processing situation of an exhaust gas in an exhaust gas processing unit through a dilution controller. The exhaust gas processing unit includes a detoxifying device connected to the outlet of a vacuum pump through an exhaust pipe, a dilution gas source connected to the exhaust pipe near the outlet of the vacuum pump through a dilution gas supply pipe, an MFC and an opening/closing valve installed at the middle of the dilution gas supply pipe, a gas sensor attached to the exhaust pipe on the downstream side of an end (node N) of the dilution gas supply pipe, and a dilution controller configured to control the MFC.

    摘要翻译： 公开了一种等离子体处理装置，其中主控制单元能够通过稀释控制器管理废气处理单元中的废气的处理情况。 废气处理单元包括通过排气管连接到真空泵出口的解毒装置，通过稀释气体供给管，MFC和开口连接到靠近真空泵出口的排气管的稀释气体源 安装在稀释气体供给管的中间的气体传感器，附着在稀释气体供给管的端部（节点N）的下游侧的排气管的气体传感器，以及配置为控制MFC的稀释控制器。

    Method for feeding hot gas to a shaft furnace
    10.
    发明授权
    Method for feeding hot gas to a shaft furnace 有权
    将热气送入立式炉的方法

    公开(公告)号：US08550811B2

    公开(公告)日：2013-10-08

    申请号：US13257116

    申请日：2010-03-15

    申请人： Jean-Paul Simoes ,  Jean-Luc Roth

    发明人： Jean-Paul Simoes ,  Jean-Luc Roth

    IPC分类号： F23N1/02

    CPC分类号： C21B9/10 ,  C21B9/12 ,  Y02P10/122 ,  Y10T137/0346 ,  Y10T137/0352

    摘要： The present invention proposes a method for feeding hot gas to a shaft furnace (12), wherein the method comprises feeding a first portion (32) of a first gas flow (24) to a mixing chamber (36) and feeding a second portion (34) of the first gas flow (24) into said shaft furnace. The method further comprises feeding a second gas flow (28) to the mixing chamber (36), allowing the first portion (32) of the first gas flow (24) to mix with the second gas flow (28) in the mixing chamber (36), thereby forming a third gas flow (38), and feeding the third gas flow (38) to the shaft furnace (12). The first gas flow (24) has a first volumetric fluid flow rate (V1), a first temperature (T1) and a first pressure (p1); the second gas flow (28) has a second volumetric fluid flow rate (V2), a second temperature (T2) and a second pressure (p2); and the third gas flow (38) has a third volumetric fluid flow rate (V3), a third temperature (T3) and a third pressure (p3). According to an important aspect of the present invention, the first temperature (T1) is higher than the second temperature (T2) and the first pressure (p1) is lower than the second pressure (p2) and the third temperature (T3) is regulated by controlling the second pressure (p2).

    摘要翻译： 本发明提出了一种向竖炉（12）供给热气体的方法，其中所述方法包括将第一气流（24）的第一部分（32）输送到混合室（36）并将第二部分 34）进入所述竖炉中。 该方法还包括将第二气流（28）输送到混合室（36），允许第一气流（24）的第一部分（32）与混合室中的第二气流（28）混合 36），从而形成第三气流（38），并将第三气流（38）输送到竖炉（12）。 第一气流（24）具有第一体积流体流速（V1），第一温度（T1）和第一压力（p1）; 第二气流（28）具有第二体积流体流速（V2），第二温度（T2）和第二压力（p2）; 并且第三气流（38）具有第三体积流体流速（V3），第三温度（T3）和第三压力（p3）。 根据本发明的重要方面，第一温度（T1）高于第二温度（T2），第一压力（p1）低于第二压力（p2），第三温度（T3）被调节 通过控制第二压力（p2）。