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    Negative-type photosensitive resin composition
    1.
    发明申请
    Negative-type photosensitive resin composition 失效
    负型感光性树脂组合物

    公开(公告)号：US20030170569A1

    公开(公告)日：2003-09-11

    申请号：US10357472

    申请日：2003-02-04

    发明人： Hiroshi Takanashi ,  Tomoya Kudo ,  Takekazu Obata

    IPC分类号： G03F007/075 ,  G03F007/032 ,  G03F007/027

    CPC分类号： G03F7/0388 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0758 ,  Y10S430/111

    摘要： Disclosed is a negative-type photosensitive resin composition comprising component (A) that is a product of the Michael addition reaction between an amino group-containing compound (a-1) represented by the general formula (I): 1 (wherein n is an integral number of 1-4), and a polyethyleneglycol di(meth)acrylate (a-2) represented by the general formula (II): 2 (wherein R1 is a hydrogen or a methyl, and m is an integral number of 4-14). The composition of the invention is broadly be applicable in the technical fields of photo masks for etching use in the fabrication of CRT shadow masks, and lead frames for the mounting of IC chips; phosphor patterning of CRT; and further those of photosensitive resin plates, dry films, aqueous photosensitive paints, and aqueous photosensitive adhesives, etc. The composition of the invention has water resistance in spite of its capability of being developed with water and produce effects of enduring acidic wet-etching and repetitive steps of development.

    摘要翻译： 公开了一种负型光敏树脂组合物，其包含作为通式（I）表示的含氨基化合物（a-1）之间的迈克尔加成反应的产物的组分（A）：（其中n是整数 1-4），和由通式（II）表示的聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯（a-2）：其中R1是氢或甲基，m是4-14的整数） 。 本发明的组合物广泛地适用于CRT阴罩的制造中用于蚀刻的光掩模的技术领域，以及用于安装IC芯片的引线框架; CRT的荧光图案化; 以及感光性树脂板，干膜，水性感光性涂料和水性感光性粘合剂等的组合物。本发明的组合物尽管具有用水显影的能力而具有耐水性，并且产生持久的酸性湿蚀刻和 重复的发展步骤。

    Resist composition
    4.
    发明申请
    Resist composition 有权
    抗蚀组成

    公开(公告)号：US20040106063A1

    公开(公告)日：2004-06-03

    申请号：US10615683

    申请日：2003-07-09

    发明人： Jun Hatakeyama ,  Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe

    IPC分类号： G03F007/039 ,  G03F007/021 ,  G03F007/038 ,  G03F007/075

    CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106

    摘要： Although use of a nitrogen-containing compound as a basic compound component of a resist composition makes it possible to ease the T-top problem at an acid dissociation constant pKa falling within a range of 2 to 6, it is accompanied with the problem that the reaction, that is, acid diffusion upon use of a highly-reactive acid-labile group cannot be controlled. In order to overcome this problem, one or more basic compounds selected from those represented by the following formulas (I) to (III) and (1) to (4) are employed. 1 2

    摘要翻译： 尽管使用含氮化合物作为抗蚀剂组合物的碱性化合物组分可以使酸解离常数pKa在2至6的范围内缓解T顶部问题，但是伴随着如下问题： 反应，即使用高反应性酸不稳定基团时的酸扩散是不能控制的。 为了克服这个问题，使用一种或多种选自由下式（I）至（III）和（1）至（4）表示的化合物的碱性化合物。

    Photoresist systems
    5.
    发明申请
    Photoresist systems 有权
    光刻胶系统

    公开(公告)号：US20040029042A1

    公开(公告)日：2004-02-12

    申请号：US10412640

    申请日：2003-04-11

    发明人： Gary N. Taylor ,  Cheng-Bai Xu

    IPC分类号： G03F007/075 ,  G03F007/11 ,  G21K005/00 ,  G03F007/20 ,  G03F007/40

    CPC分类号： G03F7/105

    摘要： New photoresist systems are provided that comprise an underlying processing (or barrier) layer composition and an overcoated photoresist layer. Systems of the invention can exhibit significant adhesion to SiON and other inorganic surface layers.

    摘要翻译： 提供了新的光致抗蚀剂体系，其包括下面的处理（或阻挡）层组合物和外涂光致抗蚀剂层。 本发明的系统可以显示出对SiON和其它无机表面层的显着粘着。

    Lithographic printing plate precursor
    8.
    发明申请
    Lithographic printing plate precursor 失效
    平版印刷版前体

    公开(公告)号：US20030113666A1

    公开(公告)日：2003-06-19

    申请号：US10270599

    申请日：2002-10-16

    申请人： FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

    发明人： Akihiro Endo

    IPC分类号： G03F007/075

    CPC分类号： B41C1/1041 ,  Y10S430/165

    摘要： A lithographic printing plate precursor comprises a support and a hydrophilic layer capable of hydrophobicizing by heat, wherein the hydrophilic layer comprises: a particulate hydrophobicizing precursor; a photo-heat converting agent; a hydrophilic polymer having a silane coupling group, and a metal complex catalyst.

    摘要翻译： 平版印刷版前体包括支持体和能够通过热疏水化的亲水层，其中亲水层包括：颗粒疏水化前体; 光热转换剂; 具有硅烷偶联基团的亲​​水性聚合物和金属络合物催化剂。

    Optical recording materials
    10.
    发明申请
    Optical recording materials 有权
    光学记录材料

    公开(公告)号：US20040219457A1

    公开(公告)日：2004-11-04

    申请号：US10416397

    申请日：2003-10-16

    发明人： Robin J.T. Clabburn ,  Rifat Iqbal ,  Stephen Moratti

    IPC分类号： G03F007/075 ,  G03F007/00 ,  G03C001/73 ,  G03C005/16 ,  G03H001/04 ,  G03F007/40

    CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/001 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  G03H1/02 ,  G03H2260/12 ,  Y10S430/117 ,  Y10T428/1023

    摘要： A photopolymerisable system is disclosed which can be polymerised by exposure to UV light, for example, to form a solid, light-transmitting sheet material having volume refractive index variations defining an optical diffuser or a hologram, for example. The system includes a silicone monomer, prepolymer, macromonomer or co-monomer capable of undergoing free radical initiated polymerization and further includes a photoinitiator.

    摘要翻译： 公开了一种可光聚合系统，其可以通过暴露于UV光聚合，例如形成具有限定光学扩散器或全息图的体积折射率变化的固体透光片材。 该系统包括能够进行自由基引发聚合的硅氧烷单体，预聚物，大分子单体或共聚单体，并且还包括光引发剂。