公开(公告)号：WO2008014630A1

公开(公告)日：2008-02-07

申请号：PCT/CN2006/001351

申请日：2006-06-30

Applicant: HONEYWELL INTERNATIONAL, INC. ,  LIU, Yaqun ,  DING, Zhe ,  YANG, James ,  XIA, Qingling ,  SMITH, Peter

Inventor： LIU, Yaqun ,  DING, Zhe ,  YANG, James ,  XIA, Qingling ,  SMITH, Peter

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/04 ,  C09D201/00 ,  C09D183/00 ,  C09D183/04 ,  H01L21/312 ,  H01L29/786

CPC classification number: C09D183/04 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C09D4/06 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/3122 ,  H01L27/1248

Abstract: Photosensitive compositions are described that include a) at least one monomeric compound, polymeric compound or a combination thereof; b) at least one photoinitiator; and c) at least one solvent. Photosensitive compositions are also formed from the combination of a) at least one monomeric compound, polymeric compound or a combination thereof; b) at least one photoinitiator; and c) at least one solvent. Methods of producing the photosensitive compositions are described, which comprise a) provide at least one monomeric compound, polymeric compound or a combination thereof; b) providing at least one photoinitiator; c) providing at least one solvent; and d) combining the at least one monomeric compound, polymeric compound or a combination thereof, the at least one photoinitiator and the at least one solvent to form the photosensitive composition.

Abstract translation: 描述了光敏组合物，其包括a）至少一种单体化合物，聚合化合物或其组合; b）至少一种光引发剂; 和c）至少一种溶剂。 光敏组合物还由以下组合形成：a）至少一种单体化合物，聚合物或其组合; b）至少一种光引发剂; 和c）至少一种溶剂。 描述了制备光敏组合物的方法，其包括a）提供至少一种单体化合物，聚合化合物或其组合; b）提供至少一种光引发剂; c）提供至少一种溶剂; 和d）将所述至少一种单体化合物，聚合物或其组合，所述至少一种光引发剂和所述至少一种溶剂组合以形成所述光敏组合物。

公开(公告)号：WO2007094848A3

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：PCT/US2006046810

申请日：2006-12-07

Applicant: DOW CORNING ,  FU PENG-FEI ,  MOYER ERIC SCOTT

Inventor： FU PENG-FEI ,  MOYER ERIC SCOTT

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0752 ,  Y10T428/31663

Abstract: Antireflective coatings comprising (i) a silsesquioxane resin having the formula (PhSiO (3-x) /2 (OH) x) mHSiO (3-x) /2 (OH) x) n (MeSiO (3-x) /2 (OH) x) p where Ph is a phenyl group, Me is a methyl group, x has a value of 0, 1 or 2; m has a value of 0.01 to 0.99, n has a value of 0.01 to 0.99, p has a value of 0.01 to 0.99, and m + n + p = 1; (ii) a polyethylene oxide fluid; and (iii) a solvent; and a method of forming said antireflective coatings on an electronique device.

Abstract translation: 抗反射涂层，其包含（i）具有式（PhSiO（3-x）/ 2（OH）x）mHSiO（3-x）/ 2（OH）x）n（MeSiO（3-x）/ 2 OH）x）p其中Ph是苯基，Me是甲基，x具有0,1或2的值; m的值为0.01〜0.99，n为0.01〜0.99，p为0.01〜0.99，m + n + p = 1。 （ii）聚环氧乙烷流体; 和（iii）溶剂; 以及在电子器件上形成所述抗反射涂层的方法。

公开(公告)号：WO2007116941A1

公开(公告)日：2007-10-18

申请号：PCT/JP2007/057669

申请日：2007-04-05

Applicant: 旭化成ケミカルズ株式会社 ,  荒木 祥文 ,  山澤 一嘉

Inventor： 荒木 祥文 ,  山澤 一嘉

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/032 ,  G03F7/075 ,  G03F7/105 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/033 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/202 ,  G03F7/36

Abstract: Disclosed is a photosensitive resin composition for a solvent-developable type or heat-developable type flexographic printing plate, which comprises (a) a block copolymer comprising a polymer block composed mainly of a conjugated diene and a polymer block composed mainly of a vinyl aromatic hydrocarbon, (b) a photopolymerizable monomer, (c) a photopolymeirzation initiator, and (d) an organic silicon compound. In the photosensitive resin composition, the organic silicon compound is preferably a silicone oil having a specific group, most preferably a silicone oil having an amino or aryl group.

Abstract translation: 公开了用于溶剂显影型或热显示型柔性版印刷版的感光性树脂组合物，其包含（a）包含主要由共轭二烯构成的聚合物嵌段和主要由乙烯基芳香族烃组成的聚合物嵌段的嵌段共聚物 ，（b）光聚合性单体，（c）光聚合引发剂，（d）有机硅化合物。 在感光性树脂组合物中，有机硅化合物优选为具有特定基团的硅油，最优选为具有氨基或芳基的硅油。

公开(公告)号：WO2006071914A3

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：PCT/US2005047182

申请日：2005-12-27

Applicant: 3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

Inventor： ARNEY DAVID S ,  BAI FENG ,  DEVOE ROBERT J ,  LEATHERDALE CATHERINE A

IPC: G03F7/075 ,  B29C67/00 ,  C08F283/12 ,  C08G77/452 ,  C08G77/54 ,  C08L83/16

CPC classification number: G03F7/028 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C08F283/00 ,  C08F283/12 ,  C08F290/00 ,  C08F290/06 ,  C08F290/068 ,  C08G77/452 ,  C08G77/54 ,  C08L33/06 ,  C08L51/085 ,  C08L53/00 ,  C08L83/14 ,  C08L83/16 ,  C09D143/04 ,  C09D183/16 ,  G03F7/031 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2053 ,  C08L2666/14 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04 ,  C08L2666/28

Abstract: A single- or multi-photon reactive composition comprises a liquid polysilazane precursor, a multifunctional acrylate additive, and a single- or multi-photon photocuring composition. The invention can be used to provide ceramic-based microstructures as, for example, high temperature resistant materials, including devices such as microcombustors, micro-heat-exchangers, sensor and actuator systems, microfluidic devices, and micro-optics systems that can be used independently or integrated into other systems.

Abstract translation: 单光子或多光子反应性组合物包含液体聚硅氮烷前体，多官能丙烯酸酯添加剂和单光子或多光子光固化组合物。 本发明可用于提供陶瓷基微结构，例如耐高温材料，包括微型燃烧器，微型热交换器，传感器和致动器系统，微流体装置和可用于的微光学系统的装置 独立或集成到其他系统中。

公开(公告)号：WO2007086323A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：PCT/JP2007/050793

申请日：2007-01-19

Applicant: 旭化成エレクトロニクス株式会社 ,  小林 隆昭 ,  木村 正志

Inventor： 小林 隆昭 ,  木村 正志

IPC: G03F7/075 ,  C08F290/14 ,  C08F299/08 ,  C08G59/18 ,  C08G77/04

CPC classification number: C08F290/14 ,  C08F299/00 ,  C08F299/08 ,  C08G77/20 ,  C08G77/70 ,  C08K5/5425 ,  C08K5/5435 ,  C08L83/04 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  G03F7/0757

Abstract: 　特にＬＳＩチップのバッファコート材料として有用な、感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂によって得られる樹脂膜を提供する。 　このために、特定の化学式で表される化合物を、特定の混合比で重縮合して得られる重縮合物：１００重量部、光重合開始剤：０．０１～５重量部、及び、特定の有機シラン：１～３０重量部、を含む感光性樹脂組成物、及び、該感光性樹脂組成物をシリコンウエハ面上に塗布し、露光し、現像し、キュアして得られる樹脂膜を用いる。

Abstract translation: 一种特别用作LSI芯片的缓冲涂料的感光性树脂组合物， 和由感光性树脂组合物得到的树脂膜。 感光性树脂组合物包含：100重量份以特定比例将由特定化学式表示的化合物缩聚得到的缩聚物; 0.01-5重量份的光聚合引发剂; 和1-30重量份的特定有机硅烷。 通过将感光性树脂组合物涂布在硅晶片表面上并对涂层进行曝光，显影和固化而获得树脂膜。

公开(公告)号：WO2007049440A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：PCT/JP2006/319927

申请日：2006-10-05

Applicant: 東レ株式会社 ,  仁王 宏之 ,  細野 博 ,  諏訪 充史

Inventor： 仁王 宏之 ,  細野 博 ,  諏訪 充史

IPC: C08L83/04 ,  C08G77/06 ,  C08K5/06 ,  C09D183/04 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G03F7/075

CPC classification number: C08L83/04 ,  C08G77/12 ,  C08G77/18 ,  C08G77/24 ,  C08G77/70 ,  C08K5/05 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0757

Abstract: 　段差を有する基板上にも塗布ムラなく塗布可能で、下地段差の被覆性が良好なシロキサン樹脂組成物を提供するために、シロキサン化合物および１－ｔ－ブトキシ－２－プロパノール物を含有するシロキサン樹脂組成物とする。

Abstract translation: 公开了一种硅氧烷树脂组合物，其可以施加在具有台阶的基板上而不产生涂层不均匀性，同时表现出良好的基础台阶覆盖率。 硅氧烷树脂组合物含有硅氧烷化合物和1-叔丁氧基-2-丙醇。

公开(公告)号：WO2007041701A2

公开(公告)日：2007-04-12

申请号：PCT/US2006/039090

申请日：2006-10-04

Applicant: LUMINESCENT TECHNOLOGIES, INC. ,  ABRAMS, Daniel, S. ,  PENG, Danping ,  LIU, Yong ,  RISSMAN, Paul

Inventor： ABRAMS, Daniel, S. ,  PENG, Danping ,  LIU, Yong ,  RISSMAN, Paul

IPC: G03F7/075

CPC classification number: G03F1/36

Abstract: A method for determining a mask pattern to be used on a photo-mask in a photolithographic process is described. During the method, a target pattern that includes at least one continuous feature is provided. Then a mask pattern that includes a plurality of distinct types of regions corresponding to the distinct types of regions of the photo-mask is determined. Note that the mask pattern includes at least two separate features corresponding to at least the one continuous feature. Furthermore, at least the two separate features are separated by a spacing having a length and the spacing overlaps at least a portion of at least the one continuous feature.

Abstract translation: 描述了在光刻工艺中用于确定在光掩模上使用的掩模图案的方法。 在该方法期间，提供了包括至少一个连续特征的目标图案。 然后确定包括对应于光掩模的不同类型的区域的多个不同类型的区域的掩模图案。 注意，掩模图案包括至少两个对应于至少一个连续特征的独立特征。 此外，至少两个分离的特征被具有长度的间隔分开，并且间隔与至少一个连续特征的至少一部分重叠。

公开(公告)号：WO2006129973A1

公开(公告)日：2006-12-07

申请号：PCT/KR2006/002102

申请日：2006-06-01

Applicant: LG CHEM, LTD. ,  KANG, Jung-Won ,  KO, Min-Jin ,  MOON, Myung-Sun ,  CHOI, Bum-Gyu ,  SON, Jeong-Man ,  KANG, Dae-Ho

Inventor： KANG, Jung-Won ,  KO, Min-Jin ,  MOON, Myung-Sun ,  CHOI, Bum-Gyu ,  SON, Jeong-Man ,  KANG, Dae-Ho

IPC: C09D183/00 ,  C09D183/04 ,  C09D183/10 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C08J5/02 ,  C08J5/18 ,  G02B1/10 ,  G03F7/075 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K7/22 ,  C09D7/67 ,  C09D7/70 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/3175 ,  C08L83/00 ,  C08L2666/54

Abstract: The present invention relates to a coating composition for a film with low refractive index and a film prepared therefrom, and more precisely, a coating composition with low refractive index which contains dispersed porous organic/inorganic hybrid nano-particles or a colloid containing the dispersed nano-particles, a photocurable compound having unsaturated functional groups, photoinitiator or photosensitizer, or an organic siloxane thermosetting compound, and a solvent and a film prepared therefrom. According to the present invention, porous particles have been formed by using a structural regulator in a silane compound at a specific size, in order to be fitted for a film with low refractive index, and then the structural regulator has been eliminated by a simple process beforeforming the film, resulting in preparation of a film with extremely low refractive index at a low temperature of up to 12O0C which will be applied as a film with low refractive index or a film with low reflection for various uses including displays.

Abstract translation: 本发明涉及一种低折射率膜和由其制备的膜的涂料组合物，更确切地说，涉及一种包含分散的多孔有机/无机混合纳米颗粒的低折射率涂料组合物或含有分散的纳米颗粒的胶体 颗粒，具有不饱和官能团的光固化性化合物，光引发剂或光敏剂，或有机硅氧烷热固性化合物，以及由其制备的溶剂和膜。 根据本发明，通过在特定尺寸的硅烷化合物中使用结构调节剂形成多孔颗粒，以便适合低折射率的膜，然后通过简单的方法消除结构调节剂 在形成膜之前，导致在高达120℃的低温下制备具有极低折射率的膜，其将作为具有低折射率的膜或低反射膜用于包括显示器的各种用途。

公开(公告)号：WO2006065320A1

公开(公告)日：2006-06-22

申请号：PCT/US2005/035235

申请日：2005-09-29

Applicant: DOW CORNING CORPORATION ,  FU, Peng-Fei ,  MOYER, Eric, Scott ,  YEAKLE, Craig, Rollin

Inventor： FU, Peng-Fei ,  MOYER, Eric, Scott ,  YEAKLE, Craig, Rollin

IPC: G03F7/09 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C08G77/12 ,  G03F7/075

CPC classification number: C09D183/04 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/091

Abstract: A method of forming an antireflective coating on an electronic device comprising (A) applying to an electronic device an ARC composition comprising (i) a silsesquioxane resin having the formula (PhSiO (3-x)/2 (OH x ) m HSiO (3-x)/2 (OH) x ) n , where Ph is a phenyl group, x has a value of 0, 1 or 2; m has a value of 0.05 to 0.95, n has a value of 0.05 to 0.95 and m + n ≈ 1; and (ii) a solvent; and (B) removing the solvent and curing the silsesquioxane resin to form an antireflective coating on the electronic device.

Abstract translation: 一种在电子设备上形成抗反射涂层的方法，包括（A）向电子器件施加ARC组合物，其包含（i）具有式（PhSiO 3（3-x）/ 2 OH _{X ）米 HSIO （3-x）/ 2 （OH） X ）名词< / SUB，其中Ph是苯基，x具有0,1或2的值; m的值为0.05〜0.95，n的值为0.05〜0.95，m + n〜1; 和（ii）溶剂; 和（B）除去溶剂并固化倍半硅氧烷树脂以在电子器件上形成抗反射涂层。}

公开(公告)号：WO2006065310A3

公开(公告)日：2006-06-22

申请号：PCT/US2005/034236

申请日：2005-09-23

Applicant: DOW CORNING CORPORATION ,  ZHONG, Bianxiao

Inventor： ZHONG, Bianxiao

IPC: C08G77/20 ,  C08G77/12 ,  G03F7/075

Abstract: A siloxane resin having the formula: (HSiO 3/2 ) a (RSiO 3/2 ) b (SiO 4/2 ) c where R is Z, Z(CH 2 ) n or ZO(CH 2 ) n where Z is a phenyl or substituted phenyl group; n has a value of 1 to 6, a has value of 0.01 to 0.7, b has a value of 0.05 to 0.7, c has a value of 0.1 to 0.9 and a + b + c ≈ 1. The siloxane resins are useful in anti-reflective coating compositions.