公开(公告)号：WO2006097135A1

公开(公告)日：2006-09-21

申请号：PCT/EP2005/007651

申请日：2005-07-14

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  GÖHNERMEIER, Aksel

Inventor： GÖHNERMEIER, Aksel

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70566 ,  G03F7/701 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70433

Abstract: In the case of a projection exposure method for exposing a radiation-sensitive substrate, arranged in the region of an image surface of a pro-jection objective, with at least one image of a pattern of a mask arranged in the region of an object surface of the projection objective, a mask is arranged in the region of the object surface of the projection objective, the mask having a first pattern area with a first subpattern, and at least one second pattern area, arranged laterally offset from the first pattern area, with a second subpattern. The mask is scanned by relative move-ment between the mask and the illumination field of the illumination sys-tem in such a way that initially the first subpattern and thereafter the second subpattern is irradiated with the illumination radiation of the illu-mination field. The first subpattern is irradiated during a first illumination time interval with a first angular distribution, adapted to the first subpat-tern, of the illumination radiation. Thereafter, the second subpattern is irradiated during the second illumination time interval with a second an-gular distribution, adapted to the second subpattern, of the illumination radiation, said second angular distribution differing from the first angular distribution.

Abstract translation: 在投影曝光方法中，用于曝光放射敏感基板，其布置在预处理物镜的图像表面的区域中，其中至少一个图像的掩模图案布置在物体表面的区域中 投影物镜的物体表面的区域设置掩模，掩模具有第一图案区域和第一子图案，以及至少一个第二图案区域，其布置在与第一图案区域横向偏移的位置， 与第二个子模式。 掩模通过掩模和照明系统的照明场之间的相对移动被扫描，使得最初第一子图案和其后的第二子图案被照射场的照射辐射照射。 在第一照明时间间隔内照射第一子图案，其具有适合于第一子图像的照明辐射的第一角度分布。 此后，第二子图案在第二照明时间间隔期间被照射，具有适合于第二子图案的照明辐射的第二分布分布，所述第二角度分布与第一角度分布不同。

公开(公告)号：WO2006079486A2

公开(公告)日：2006-08-03

申请号：PCT/EP2006000535

申请日：2006-01-21

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  BROTSACK MARKUS

Inventor： BROTSACK MARKUS

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70075 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70141

Abstract: An illumination system is provided with a light produced by a light source (1) , with an optical axis and with optical elements (3, 7), in particular for a projection exposure machine in semiconductor lithography, having at least one optical element (3, 7) for producing a pupil distribution of the light beam, and having a homogenizing element (10, 24) for .homogenizing the intensity of the light. For an asymmetric pupil distribution at least the optical elements (3, 7) that produce non-rotationally symmetrical light distributions, and/or the homogenizing element (10, 24) ) are supported rotatably about the optical axis that forms a z-axis of an x-/y-coordinate system, it being possible to set at least one rotational angle a in such a way that the pupil distribution is located on an axis or symmetrically in relation to an axis of an x' -/y' -coordinate system newly formed by the rotational angle a by means of rotating the x-/y- coordinate system by the angle a.

Abstract translation: 照明系统具有由光源（1）产生的光，具有光轴和光学元件（3,7），特别是用于半导体光刻中的投影曝光机，其具有至少一个光学元件（3 ，7）用于产生光束的瞳孔分布，并且具有均匀化元件（10,24），用于均匀化光的强度。 对于不对称的光瞳分布，至少产生非旋转对称的光分布的光学元件（3,7）和/或均化元件（10,24）被围绕光轴可旋转地支撑，该光轴形成z轴 在x / y坐标系中，可以设置至少一个旋转角α，使得瞳孔分布位于轴上或者相对于x' - / y'坐标的轴对称 系统通过旋转x / y坐标系以角度α旋转角度α新形成的系统。

公开(公告)号：WO2004066010A1

公开(公告)日：2004-08-05

申请号：PCT/EP2004/000331

申请日：2004-01-17

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WEISS, Markus ,  SEIFERT, Andreas ,  HEISLER, Andreas ,  DORNHEIM, Stefan

Inventor： WEISS, Markus ,  SEIFERT, Andreas ,  HEISLER, Andreas ,  DORNHEIM, Stefan

IPC: G02B7/182

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G02B7/1822 ,  G02B7/1824 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70825

Abstract: Bei einem Verfahren zur Herstellung eines Facettenspiegels 24 mit mehreren Spiegelfacetten 12 und 12', insbesondere für eine Beleuchtungseinrichtung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie und hier insbesondere für die Verwendung mit einer Beleuchtung im Bereich des extremen Ultravioletts wird in einem ersten Verfahrensschritt die Spiegelfacette 12,12' gefertigt. Danach wird in einem zweiten Verfahrensschritt die Winkelabweichung der optischen Achse der Spiegelfläche jeder der Spiegelfacetten gegenüber der Normalen 20 der Spiegelfacette 12,12' ermittelt. Anschliessend wird in einem dritten Verfahrensschritt in Kenntnis der im zweiten Verfahrensschritt ermittelten Messwerte für die jeweilige Spiegelfacette 12,12' eine Aufnahmebohrung 22 in eine Trägerplatte 16 eingebracht. Die Aufnahmebohrung 22 ist hinsichtlich der zu erzielenden Winkelstellung bereits um den im zweiten Verfahrensschritt gemessenen Messwert korrigiert. Dann werden die Spiegelfacetten 12,12' in die für die jeweilige Spiegelfacette 12,12' vorgesehene Aufnahmebohrung 22 eingesetzt, wonach eine erneute Messung der Ausrichtung der Spiegeloberfläche 15 jeder Spiegelfacette 12,12' erfolgt. Abschliessend erfolgt eine Nachbearbeitung der Spiegeloberfläche 15 der Spiegelfacette 12,12' zum Erzielen der endgültigen geforderten Winkelgenauigkeit.

Abstract translation: 在用于制造一个面反射镜24具有多个反射镜的小面12和12”，尤其是用于照明装置中用于微光刻的投射曝光设备，并且特别是对于具有光在极端紫外线在第一工艺步骤中使用的方法，该镜面是12,12- “制造。 此后，在第二方法步骤中，每个反射镜的反射镜表面的光轴的角度偏差刻面相对于镜面12,12的法线20“确定。 随后，接收孔被放置在支撑板16 22第三方法步骤对于在用于相应的镜面12,12”第二工艺步骤的测量值所确定的。 容纳孔22已经通过在第二工艺步骤中的测量值相对于要实现的角位置所测量的校正。 然后，镜面被用来12,12“其中，每个镜面12,12”提供了一种接收孔22，此后每个镜面12,12的反射镜表面15的取向的一个新的测量“发生。 最后完成的镜面12,12“以达到最终所需的角度精度的镜面15的返工。

公开(公告)号：WO2004031854A2

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/EP0310605

申请日：2003-09-24

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  ASML NETHERLANDS BV ,  SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

Inventor： SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

IPC: G03F7/20 ,  G03F

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558

Abstract: The invention relates to an illumination system for wavelengths

Abstract translation: 本发明涉及一种用于波长的照明系统<= 193纳米，其中所述照明系统包括一个光源，其提供可用的预定照明在一个平面和a）用第一光栅元件，其特征在于，所述第一光栅元件被布置在支撑元件上和第一光学部件 所述第一光学部件被布置在或在其上提供照明的平面附近。 本发明的特征在于：i）中设置在第一光学元件的至少一个传感器，用于在承载元件上的检测入射光的支撑元件上。 ⅱ）的照明系统的反射镜由传感器信号，使得Beleuctung的位置和强度被保持恒定的评价提供。

公开(公告)号：WO2003067304A1

公开(公告)日：2003-08-14

申请号：PCT/EP2002/014748

申请日：2002-12-23

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  HOLDERER, Hubert ,  WEISS, Markus ,  SINGER, Wolfgang ,  SEIFERT, Andreas ,  HEISLER, Andreas ,  MELZER, Frank ,  MANN, Heinz ,  FALTUS, Jürgen

Inventor： HOLDERER, Hubert ,  WEISS, Markus ,  SINGER, Wolfgang ,  SEIFERT, Andreas ,  HEISLER, Andreas ,  MELZER, Frank ,  MANN, Heinz ,  FALTUS, Jürgen

IPC: G02B7/182

CPC classification number: G03F7/70075 ,  G02B5/09 ,  G02B7/1821 ,  G02B7/1824 ,  G02B7/198 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/702

Abstract: Ein Facettenspiegel (10) mit mehreren Spiegelfacetten ( ) wird in Beleuchtungseinrichtungen (3) für Projektionsbelichtungsanlagen (1) in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, eingesetzt. Jede der Spiegelfacetten (11) weist einen Kugelkörper (17) auf. Eine Spiegeloberfläche (12) ist in einer Ausnehmung (18) des Kugelkörpers (17) angeordnet. Die der Spiegeloberfläche (12) abgewandte Seite des Kugelkörpers (17) ist in einer Lagereinrichtung (15) gelagert. Bei einer Vorrichtung zur Justage eines derartigen Facettenspiegels (10) ist an jeder der Spiegelfacetten (11) auf der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite des Kugelkörpers (17) ein Hebelelement (23) angeordnet. An dem Hebelelement (23) greifen in einem dem Kugelkörper (17) abgewandten Bereich Stellmittel (27) an, durch welche eine Bewegung des Kugelkörpers (17) um seinem Mittelpunkt erzielbar ist.

Abstract translation: 具有多个镜面的（）A分面镜（10）中的照明装置（3），用于投射曝光设备（1），在微光刻所使用的，特别是在EUV光刻中使用。 每个镜面（11）的具有球形主体（17）。 反射镜表面（12）被布置在所述球状体（17）的凹部（18）。 从球形本体（17）背向反射镜表面（12）侧安装在轴承装置（15）。 在这样的分面镜（10）上的每个所述反射镜表面的相反侧的镜面（11）的调整装置（12），所述球状体（17）的侧上配置有杠杆部件（23）。 在杠杆部件（23）接合在球形本体（17）背向区域设定装置（27），通过该球状体（17）的运动，可以实现到其中心的一个。

公开(公告)号：WO2003023832A1

公开(公告)日：2003-03-20

申请号：PCT/JP2002/009102

申请日：2002-09-06

Applicant: 株式会社ニコン ,  石川 旬 ,  西永 壽

Inventor： 石川 旬 ,  西永 壽

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70141 ,  G03F7/70191

Abstract: An exposure method and an exposure system capable of maintaining a high uniformity of an exposure amount distribution despite short-term variations in transmittance in an optical system. An exposure light from a fly eye lens 9 is used to illuminate an illumination area 35 on a reticle via a first lens system 12, a second lens system 13, a density filter plate 51 rotatable by driving, and a fixed blind 14A to transfer a pattern image on a reticle onto a wafer via a projection optical system by a scanning exposure method. A one-dimensional transmittance distribution linearly symmetric with respect to a line passing an optical axis is formed on the density filter plate 51, and an rotation angle of the density filter 51 is so controlled as to make uniform the illumination distribution of the illumination area 35 in a non-scanning direction X direction when a center-symmetric, short-term illumination unevenness occurs to lower the illuminance in the vicinity of the optical axis in the illumination area 35 due to short-term variations in transmittance in the projection optical system.

Abstract translation: 尽管光学系统的透射率的短期变化，能够保持曝光量分布的高均匀性的曝光方法和曝光系统。 来自蝇眼透镜9的曝光用于经由第一透镜系统12，第二透镜系统13，通过驱动旋转的密度滤光板51照射标线板上的照明区域35，以及固定的盲板14A 通过扫描曝光方法通过投影光学系统将掩模版上的图案图像转印到晶片上。 在密度过滤板51上形成相对于通过光轴的线成对线性的一维透射率分布，并且对密度滤光器51的旋转角进行控制，使照明区域35的照明分布均匀 当在投影光学系统中由于透射率的短期变化而发生中心对称的短期照明不均匀以降低照明区域35中的光轴附近的照度时，沿非扫描方向X方向。

公开(公告)号：WO0190819A3

公开(公告)日：2002-03-21

申请号：PCT/US0115655

申请日：2001-05-16

Applicant: SILICON VALLEY GROUP

Inventor： GOVIL PRADEEP KUMAR ,  TSACOYEANES JAMES

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/207 ,  G03F9/00 ,  G03F9/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70625 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/707 ,  G03F9/7026

Abstract: Particular types of distortion within a lithographic system may be characterized by linewidth control parameters. Linewidth control parameters of any given line or feature within a printed pattern vary as a result of optical capabilities of the lithography apparatus used, particular characteristics of the reticle, focus setting, light dose fluctuations, etc. The instant invention uses focus offset coefficients to change the focus at points within a slot to compensate for the linewidth control parameter variations introduced by the factors contributing to such variations. Additionally, different focuses can be set dynamically along the scan for a particular slot point. A set, or sets, of focus offset coefficients is generated for a particular lithography apparatus, depending on the number of line width control parameters for which correction is desired.

Abstract translation: 光刻系统中的特定类型的失真可以通过线宽控制参数来表征。 作为所使用的光刻设备的光学能力，掩模版的特定特征，聚焦设置，光剂量波动等的结果，印刷图案中的任何给定线或特征的线宽控制参数变化。本发明使用聚焦偏移系数来改变 在时隙内的点处的焦点以补偿由这些变化造成的因素引起的线宽控制参数变化。 另外，可以沿着特定时隙点的扫描动态设置不同的焦点。 根据需要进行校正的线宽度控制参数的数量，针对特定光刻设备产生聚焦偏移系数的集合或集合。

公开(公告)号：WO2019016235A1

公开(公告)日：2019-01-24

申请号：PCT/EP2018/069441

申请日：2018-07-17

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： HARTJES, Joachim ,  GRUNER, Toralf ,  FITZSCHE, Steffen

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/62

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G02B27/62 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70975

Abstract: Optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Modul (202), das dazu ausgebildet ist, einen ersten Teil eines Strahlengangs (214) zu umschließen, einem mit dem ersten Modul (202) verbindbaren zweiten Modul (204), das dazu ausgebildet ist, einen zweiten Teil des Strahlengangs (214) zu umschließen, und einer an dem ersten Modul (202) vorgesehenen Sensoreinrichtung (228), die dazu eingerichtet ist, eine Lage des zweiten Moduls (204) relativ zu dem ersten Modul (202) unabhängig und/oder außerhalb von dem Strahlengang (214) zu erfassen, um das erste Modul (202) und das zweite Modul (204) basierend auf von der Sensoreinrichtung (228) erfassten Messwerten zueinander auszurichten, wobei das erste Modul (202) und/oder das zweite Modul (204) einen Spiegel (212, 222) aufweist.

公开(公告)号：WO2018075248A1

公开(公告)日：2018-04-26

申请号：PCT/US2017/055182

申请日：2017-10-04

Applicant: CYMER, LLC

Inventor： CONLEY, Willard Earl ,  MASON, Eric Anders ,  THORNES, Joshua Jon

IPC: H01S3/136 ,  H01S3/11 ,  H01S3/00 ,  H01S3/08 ,  H01S3/106 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/66 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01S3/136 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/7085 ,  H01L21/3065 ,  H01L22/20 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/10046 ,  H01S3/106 ,  H01S3/11 ,  H01S3/137 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: A spectral feature of a pulsed light beam produced by an optical source is controlled by a method. The method includes producing a pulsed light beam at a pulse repetition rate; directing the pulsed light beam toward a substrate received in a lithography exposure apparatus to expose the substrate to the pulsed light beam; modifying a pulse repetition rate of the pulsed light beam as it is exposing the substrate. The method includes determining an amount of adjustment to a spectral feature of the pulsed light beam, the adjustment amount compensating for a variation in the spectral feature of the pulsed light beam that correlates to the modification of the pulse repetition rate of the pulsed light beam. The method includes changing the spectral feature of the poised light beam by the determined adjustment amount as the substrate is exposed to thereby compensate for the variation in the spectral feature.

Abstract translation: 由光源产生的脉冲光束的光谱特征由方法控制。 该方法包括以脉冲重复率产生脉冲光束; 朝向在光刻曝光设备中接收的衬底引导脉冲光束以将衬底暴露于脉冲光束; 修改脉冲光束在曝光衬底时的脉冲重复率。 该方法包括确定对脉冲光束的光谱特征的调整量，该调整量补偿与脉冲光束的脉冲重复率的修改相关的脉冲光束的光谱特征的变化。 该方法包括在曝光衬底时将稳定光束的光谱特征改变确定的调整量，从而补偿光谱特征的变化。

公开(公告)号：WO2016128253A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：PCT/EP2016/052168

申请日：2016-02-02

Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH

Inventor： WINKLER, Alexander ,  LENZ, Daniel ,  FISCHER, Thomas

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70166 ,  G02B19/0023 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G21K1/067

Abstract: Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie hat einen Feldfacettenspiegel und einen Pupillenfacettenspiegel. Über jeweils einen Ausleuchtungskanal ist ein jeweiliges Nutz-Beleuchtungslicht-Teilbündel (16i) zwischen einer Lichtquelle und einem Objektfeld über genau eine Feldfacette und genau eine Pupillenfacette (29) geführt. Zumindest einige Pupillenfacetten (29), die als Korrektur-Pupillenfacetten einsetzbar sind, sind so im Strahlengang des sie beaufschlagenden Beleuchtungslicht-Teilbündels (16 i ) angeordnet, dass ein Bild der Lichtquelle an einem Bildort entsteht, der längs des Ausleuchtungskanals (16 i ) beabstandet zur Pupillenfacette (29) liegt. Eine Korrektur-Steuerungseinrichtung (32) zur gesteuerten Verlagerung zumindest einiger als Korrektur-Feldfacetten einsetzbarer Feldfacetten, die mit der Verlagerungs-Aktoren (31) in Signalverbindung stehen, ist so ausgeführt, dass ein Korrektur-Verlagerungsweg für die Korrektur-Feldfacetten so groß ist, dass ein jeweiliger Korrektur-Ausleuchtungskanal (16 i ) randseitig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) so beschnitten ist, dass das Beleuchtungslicht-Teilbündel (16 i ) nicht vollständig von der Korrektur-Pupillenfacette (29) in das Objektfeld überführt wird. Mit der Beleuchtungsoptik ist ein Verfahren zum Vorgeben einer minimalen Beleuchtungsintensität von Beleuchtungslicht (16) über eine Querfeldkoordinate (x) eines Objektfeldes der Beleuchtungsoptik (4) durchführbar.

Abstract translation: 用于EUV投影光刻的照明光学部件具有场分面镜和光瞳分面镜。 经由通过场分完全是一个光源和物场之间的相应的照明通道的相应的有用的照明光子束（16I）和正好一个光瞳（29）中被引导。 至少一些光瞳面，其可以被用作校正光瞳面（29）是如此之在它们的路径时的照明光的子光束（16I），其作用使得形成在图像位置处的光源的图象，其沿所述照明通道（16I）从瞳孔间隔开 （29）所在的位置。 对于至少一些可用的受控位移，与在信号连接所述位移致动器（31）相关联的校正场面场分的校正控制装置（32）被配置为使得用于场面的校正的校正位移路径是如此之大 照明光子束（16I）是没有完全从校正光瞳（29）被转移到物场，关于校正瞳孔的边缘侧的相应的校正照明通道（16I）以这样的方式（29）切断。 与照明光学系统，用于经由Querfeldkoordinate设定照明光（16）的最小照明强度的方法（x）的照明光学部件的物场（4）是可行的。