公开(公告)号：WO2004009299A2

公开(公告)日：2004-01-29

申请号：PCT/EP0307244

申请日：2003-07-07

Applicant: AIXTRON AG ,  JUERGENSEN HOLGER ,  KAEPPELER JOHANNES ,  FRANKEN WALTER

Inventor： JUERGENSEN HOLGER ,  KAEPPELER JOHANNES ,  FRANKEN WALTER

IPC: C23C16/44 ,  B65G1/00 ,  C23C14/56 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  H01L21/673 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  B25J15/00

CPC classification number: H01L21/68764 ,  C23C14/56 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68771

Abstract: The invention relates to a device for loading at least one substrate (1) into a process chamber of a coating unit and unloading the at least one substrate (1) therefrom by means of a gripper (2) of a handling machine. The inventive device comprises a loading plate (3) which can be gripped by the gripper (2) and embodies a storage place for each at least one substrate (1), said storage place being formed by an edge (4) of an opening (5) that is assigned to each substrate (1). The inventive device also comprises a substrate holder (7) that is provided with a pedestal-type substrate support which is adapted to the loading plate (3) and on which the substrate plate can be placed such that some sectors of the surface of the substrate support are located at a certain gap distance from the substrate or the substrate lies in a planar manner on a sector of the surface.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于通过自动处理机器的抓取器（2）用至少一个衬底（1）来装载和卸载涂布装置的处理室的装置。 根据本发明，该设备包括夹持器中的一个（2）可攻击装载板（3），从一个边缘形成的各至少一个基板（1），其上支承点的形式（4）与各基板（1）开口相关联的（5）。 此外，衬底保持器（7）与所述装载板（3），其适于基座状衬底载体被设置在该基底板被如此放置在衬底载体的表面部分具有从衬底的间隙距离，或使基板平放在一个表面部分。

公开(公告)号：WO03005418A2

公开(公告)日：2003-01-16

申请号：PCT/EP0205508

申请日：2002-05-18

Applicant: AIXTRON AG ,  SCHWAMBERA MARKUS ,  KITTEL FLORENZ ,  FRANKEN WALTER

Inventor： SCHWAMBERA MARKUS ,  KITTEL FLORENZ ,  FRANKEN WALTER

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/687 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/682 ,  H01L21/68707

Abstract: The invention relates to an assembly for manipulating and/or storing a mask or a substrate. Said assembly contains a substrate or mask holder (1, 2), which comprises a frame. The aim of the invention is to improve the coating or structuring of substrates in an assembly containing several coating or structuring units and in particular to precisely maintain the alignment during manipulation. This is achieved by several rods (3), which engage with the underside of the frame (1, 2). At least two of said rods carry a disc (4, 5), which has a blade-shaped peripheral edge (4"). Each disc (4, 5) engages in a respective notch (6) that is allocated to the frame (1, 2), said notch (6, 7) having a notch base (8) that forms a vertex (9).

Abstract translation: 本发明涉及一种用于处理和/或存储掩模或衬底与具有框架的衬底或掩模保持器（1,2）的装置。 为了提高基材的涂层/图案化的多个涂层/构图单元内包括组件和所述取向处理恰恰期间特别是维持，本发明提出gemehrere所述框架（1,2），以提供一个叉状接合下面的杆（3），的 在具有盘（4,5）熊，其中盘的至少两个，叶片状的周缘（4“）（4,5）分配在一个帧（1,2），每个凹口（6）接合，该凹口（6,7- ）具有形成顶点（9）的凹口底部（8）。

公开(公告)号：WO2007131900A1

公开(公告)日：2007-11-22

申请号：PCT/EP2007/054383

申请日：2007-05-07

Applicant: AIXTRON AG ,  FRANKEN, Walter ,  KÄPPELER, Johannes

Inventor： FRANKEN, Walter ,  KÄPPELER, Johannes

IPC: C30B25/14 ,  C23C16/458

CPC classification number: C23C16/4488 ,  C30B25/14

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Quellenanordnung einer VPE-Beschichtungseinrichtung mit einem einen flüssigen oder festen Ausgangsstoff (1) beinhaltenden, nach oben eine Öffnung aufweisenden Behälter (2), mit einer Zuleitung (3) für ein reaktives Gas (4), das mit dem Ausgangsstoff (1) zur Bildung eines den Ausgangsstoff aufweisenden Prozessgases (5) reagiert. Um die Quellenreaktion zeitlich zu stabilisieren, wird vorgeschlagen, einen unmittelbar auf dem Ausgangsstoff (1) aufliegenden Deckel (6), welcher zwischen sich und der Oberfläche (7) des Ausgangsstoffes (1) ein vom reaktiven Gas (4) durchströmbares Volumen (8) ausbildet, in welches die Zuleitung (3) mündet.

Abstract translation: 本发明涉及一种交联聚乙烯涂敷装置的与液体或固体的原料（1）含一源装置，向上具有开口的容器（2），具有用于将反应气体（4），其（与原料进料管线（3） 1）反应，以形成具有该工艺气体（5起始原料）。 为了稳定反应时间的源，它提出了一种直接在起始材料搁置（1）盖体（6），其本身和所述表面（7）之间从所述反应气体的原料（1）（4）通过体积流动（8） 形式，其中（3）打开的供给线。

公开(公告)号：WO2005083153A1

公开(公告)日：2005-09-09

申请号：PCT/EP2005/050242

申请日：2005-01-20

Applicant: AIXTRON AG ,  FRANKEN, Walter ,  KÄPPELER, Johannes

Inventor： FRANKEN, Walter ,  KÄPPELER, Johannes

IPC: C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4585 ,  C23C16/45508 ,  C30B25/08

Abstract: Die Erfindung betrifft einen CVD-Reaktor mit einer in einem Reaktorgehäuse (1) angeordneter Prozesskammer (2), die, Prozesskammerwandungen umfas­send, einen Prozesskammerboden (7) und eine vom Prozesskammerboden (7) mit einem Abstand (h) angeordnete Prozesskammerdecke (6) aufweist, wobei das Reaktorgehäuse (1) zumindest eine sich bei einer Änderung des Drucks innerhalb des Reaktorgehäuses (1) geringfügig elastisch verformbare Reaktor­wandung (3, 4) besitzt, welche Reaktorwandung (3, 4) insbesondere mittig eine Öffnung (17,18) aufweist, durch die ein Funktionselement (9, 10) ragt, welches mit einem ersten Abschnitt (9', 10') fest mit einer Prozesskammerwandung (6, 7) verbunden ist und einen zweiten Abschnitt (9", 10") aufweist, der ausserhalb des Reaktorgehäuses (1) angeordnet ist. Zur Erhöhung der Reproduzierbarkeit der Ergebnisse ist vorgesehen, dass das Funktionselement (9, 10) elastisch aus­weichbar mit der Reaktorwandung (3, 4) verbunden ist.

Abstract translation: 本发明涉及一种CVD反应器具有在反应器壳体（1）布置在所述处理室（2），Prozesskammerwandungen包括处理室底部（7）和从处理室底座（7）以一定距离（H）设置处理室的天花板（6） 其中，特别集中在反应器壳体（1），具有至少一个与反应器壳体内的压力的变化（1）是轻微弹性变形的反应器壁（3，4），其中反应器壁（3,4）具有开口（17,18）， 通过被连接到固定于Prozesskammerwandung的第一部分（9”，10' ）的功能元件（9，10）突出（6,7）和第二部分（9”，10" ），这是外 在反应器壳体（1）设置。 增加结果的再现性提供的功能元件（9，10）被弹性地与反应器壁偏转（3，4）连接。

公开(公告)号：WO2004009299B1

公开(公告)日：2004-05-27

申请号：PCT/EP0307244

申请日：2003-07-07

Applicant: AIXTRON AG ,  JUERGENSEN HOLGER ,  KAEPPELER JOHANNES ,  FRANKEN WALTER

Inventor： JUERGENSEN HOLGER ,  KAEPPELER JOHANNES ,  FRANKEN WALTER

IPC: C23C16/44 ,  B65G1/00 ,  C23C14/56 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  H01L21/673 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/68764 ,  C23C14/56 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/54 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68771

Abstract: The invention relates to a device for loading at least one substrate (1) into a process chamber of a coating unit and unloading the at least one substrate (1) therefrom by means of a gripper (2) of a handling machine. The inventive device comprises a loading plate (3) which can be gripped by the gripper (2) and embodies a storage place for each at least one substrate (1), said storage place being formed by an edge (4) of an opening (5) that is assigned to each substrate (1). The inventive device also comprises a substrate holder (7) that is provided with a pedestal-type substrate support which is adapted to the loading plate (3) and on which the substrate plate can be placed such that some sectors of the surface of the substrate support are located at a certain gap distance from the substrate or the substrate lies in a planar manner on a sector of the surface.

公开(公告)号：WO2004009299A3

公开(公告)日：2004-01-29

申请号：PCT/EP2003/007244

申请日：2003-07-07

Applicant: AIXTRON AG ,  JÜRGENSEN, Holger ,  KÄPPELER, Johannes ,  FRANKEN, Walter

Inventor： JÜRGENSEN, Holger ,  KÄPPELER, Johannes ,  FRANKEN, Walter

IPC: C23C16/458

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Be- und Entladen einer Prozesskammer einer Beschichtungseinrichtung mit zumindest einem Substrat (1) mittels eines Greifers (2) eines Handhabungsautomaten. Erfindungsgemäss weist die Vorrichtung eine von dem Greifer (2) angreifbare Ladeplatte (3) auf, welche für jedes mindestens eine Substrat (1) eine von einem Rand (4) einer jedem Substrat (1) zugeordneten Öffnung (5) gebildeten Lagerstelle ausbildet. Ferner ist ein Substrathalter (7) mit einem an die Ladeplatte (3) angepassten sockelartigen Substratträger vorgesehen, auf welchen die Substratplatte derart aufsetzbar ist, dass Oberflächenabschnitte des Substratträgers einen Spaltabstand zum Substrat haben oder dass das Substrat auf einem Oberflächenabschnitt flächig aufliegt.

公开(公告)号：WO2011138315A1

公开(公告)日：2011-11-10

申请号：PCT/EP2011/057037

申请日：2011-05-03

Applicant: AIXTRON SE ,  JAKOB, Markus ,  FRANKEN, Walter ,  JANSSEN, Wilhelmus

Inventor： JAKOB, Markus ,  FRANKEN, Walter ,  JANSSEN, Wilhelmus

IPC: C23C16/458 ,  C30B25/12 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687

CPC classification number: C23C16/458 ,  C30B35/005 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bevorraten ein oder mehrerer mittels eines Beladeorganes (17) in einen CVD-Reaktor (1) bringbare bzw. aus diesem entnehmbare, ein oder mehrere Substrate (5) tragende Substrathalter (4) in Form einer Bevorratungskammer (3). Die Bevorratungskammer (3) weist zumindest eine gekühlte Magazinplatte (6) auf, auf der mehrere aufgeheizte Substrathalter (4) horizontal nebeneinanderliegend derart ablegbar sind, dass im Wesentlichen konvektionsfrei Wärme von den Substrathaltern (4) zur Magazinplatte (6) fließt, wobei zwischen der Unterseite des Substrathalters (4) und der Oberseite der Magazinplatte (6) ein Spaltabstandsraum verbleibt, dessen Höhe um einen Faktor 5 bis 10 kleiner ist als der Abstandsfreiraum oberhalb des Substrathalters (4) zu einer Unterseite einer Decke der Bevorratungskammer (3) oder zur Unterseite einer weiteren, oberhalb der Magazinplatte (6) angeordneten Magazinplatte (6').

Abstract translation: 本发明涉及一种设备，用于在一个CVD反应器（1），其存储Beladeorganes（17）的一个或多个装置，该装置可以被带到或从其移除，一个或多个基板（5）的轴承衬底保持器（4）的储存室的形式（3） ， 贮存室（3）具有至少一个冷却杂志板（6），在其上几个加热的衬底保持器（4）在水平方向上彼此相邻以这样的方式可以被存储，其基本上不脱离基板保持架对流热（4）流至杂志板（6），其特征在于，之间的 衬底支架（4）和弹夹板的上侧的下侧（6）仍然存在的间隙距离的空间，其高度比所述衬底保持器（4）上方的贮存室的顶板的下侧的距离自由空间较少受的5倍到10（3），或底部 进一步的，布置（6）杂志板（6“）的盒仓板的上方。

公开(公告)号：WO2007122147A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：PCT/EP2007/053745

申请日：2007-04-17

Applicant: AIXTRON AG ,  KÄPPELER, Johannes ,  FRANKEN, Walter

Inventor： KÄPPELER, Johannes ,  FRANKEN, Walter

IPC: C23C16/46 ,  C23C16/458 ,  C23C16/52

CPC classification number: C23C16/4584 ,  C23C16/46 ,  C23C16/466 ,  C23C16/52 ,  C30B25/10 ,  C30B25/16

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Steuerung der Oberflächentemperatur eines in einer Prozesskammer (12) eines CVD-Reaktors von einem Substrathalterträger (1) auf einem von einem Gasstrom gebildeten dynamischen Gaspolster (8) getragenen Substrathalter (2) aufliegenden Substrats (9), wobei die Wärmezufuhr zum Substrat (9) zumindest teilweise durch Wärmeleitung über das Gaspolster erfolgt. Um der lateralen Abweichungen der Oberflächentemperatur eines Substrates von einem Mittelwert zum vermindern, wird vorgeschlagen ,dass der das Gaspolster (8) ausbildende Gasstrom von zwei oder mehr Gasen (17, 18) mit unterschiedlich hoher spezifischer Wärmeleitfähigkeit gebildet wird und die Zusammensetzung abhängig von einer gemessenen Substrattemperatur variiert wird.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于（1）的气流的动态气垫形成的载体（8）上由衬底保持器承载由衬底保持器载体控制在CVD反应器的处理室（12）的表面温度（2）覆盖衬底（9），其中，所述 被执行以在衬底（9）至少部分地由通过气垫热传导提供热量。 为了从一个基体的表面温度的横向偏差的平均降低，所以建议气垫（8）形成两个或更多的气体（17，18）的气体流与不同高的比热导率而形成，并且该组合物取决于所测量的 衬底温度是变化的。

公开(公告)号：WO2007057443A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：PCT/EP2006/068621

申请日：2006-11-17

Applicant: AIXTRON AG ,  FRANKEN, Walter ,  KÄPPELER, Johannes

Inventor： FRANKEN, Walter ,  KÄPPELER, Johannes

IPC: C23C16/458

CPC classification number: C23C16/4584

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von mindestens einer Schicht auf einem Substrat mit einem oder mehreren Suszeptoren (7) zur Substrataufnahme, mit einem drehantreibbaren Substrathalter (6), der den Boden einer Prozesskammer (2) bildet, mit einer unterhalb des Suszeptorhalters (6) angeordneten RF-Heizung (22) und einem Gaseinlassorgan (4) zum Einleiten von Prozessgasen in die Prozesskammer. Um die gattungsgemäße Vorrichtung herstellungstechnisch und gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden, wird vorgeschlagen, dass der Suszeptorhalter (6) gleitend auf einer im Wesentlichen IR- und / oder RF-durchlässigen Auflageplatte (14) liegt.

Abstract translation:

本发明涉及一种装置，用于与一个或多个接受器（7），用于在基板收容在衬底上沉积至少一个层，通过该形成处理室的底板中的可旋转驱动的衬底支架（6）（2） （6）下方的RF加热器（22）和用于将处理气体引入处理室的气体入口构件（4）。 为了在制造技术和使用方面进一步发展通用设备，提出感受器支架（6）在大致IR和/或RF透明支撑板（14）上滑动，

公开(公告)号：WO2004106580A1

公开(公告)日：2004-12-09

申请号：PCT/EP2004/050389

申请日：2004-03-29

Applicant: AIXTRON AG ,  FRANKEN, Walter ,  STRAUCH, Gerhard, Karl

Inventor： FRANKEN, Walter ,  STRAUCH, Gerhard, Karl

IPC: C23C14/04

CPC classification number: H01L21/682 ,  C23C14/042 ,  G03F1/20

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur lösbaren Halterung einer Maske (1) in Form eines rechteckigen Rahmens, wobei an den Schenkeln (2, 3) des Rahmens am Rand (1’) der Maske (1) angreifende Spannmittel vorgesehen sind. Erfindungsgemäss ist vorgesehen, dass die Spannmittel eine Vielzahl von Einzelfederelementen (4) aufweisen, die an nahe einander benachbarten Stellen am Maskenrand (1’) angreifen, wobei die einem Rahmenschenkel (2, 3) zugeordneten Einzelfederelemente (4) von einem gemeinsamen Spannhilfsglied (5) von einer Bestückungsstellung, in welcher der Rahmen mit der Maske (1) bestückbar ist, in eine Spannstellung bringbar sind, und als kammartig miteinander verbundene Blattfedern (4) ausgebildet sind.

Abstract translation: 本发明涉及一种设备，用于可释放地保持在一个矩形框架形式的掩模（1），其特征在于，在腿（2，3）设置在掩模作用夹紧装置的边缘（1“）的帧（1）。 根据本发明，它提供的是，夹紧装置包括多个单独的弹簧件（4）上的掩模（1“）的边缘接合邻近点附近的，其中，所述一个框架构件（2，3）与单独的弹簧元件（4）通过一个共同的夹紧辅助构件相关联（5 ）由在其中（与掩模1）可以安装在框架，可被带入一个夹紧位置，以及（如梳状互连板簧4）的安装位置处形成。