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    IMAGING SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHICAL PROJECTION LIGHT SYSTEM
    1.
    发明申请
    IMAGING SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHICAL PROJECTION LIGHT SYSTEM 审中-公开
    微米级投影曝光设备的图解系统

    公开(公告)号：WO2005081068A3

    公开(公告)日：2005-11-10

    申请号：PCT/EP2005000277

    申请日：2005-01-13

    Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  GRUNER TORALF ,  EPPLE ALEXANDER ,  KNEER BERNHARD ,  WABRA NORBERT ,  BEDER SUSANNE ,  DORSEL ANDREAS

    Inventor： GRUNER TORALF ,  EPPLE ALEXANDER ,  KNEER BERNHARD ,  WABRA NORBERT ,  BEDER SUSANNE ,  DORSEL ANDREAS

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70225 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

    Abstract: The invention relates to an imaging system of a microlithographical projection light system, comprising a projection lens (200, 300, 500, 600) which is used to reproduce a mask which can be positioned on a lens plane on a light-sensitive layer which can be positioned on an image plane; and a fluid inlet (205) which is used to fill an intermediate chamber between the image plane and a final optical element (201, 309, 506) of the projection lens, with immersion liquid (202, 310, 507, 601), on the image plane. The final optical element of the projection lens on the image plane is arranged, in the direction of gravity, after the image plane and the projection lens is embodied in such a manner that the immersion fluid, in the immersion state, comprises a convex curve, in the direction oriented away from the image plane, at least in one area. According to the invention, the final optical element (201, 309, 506) of the projection lens on the image plane is arranged below the image plane in such a manner that the immersion fluid (202, 310, 507, 601) is at least partially arranged in an essentially dish-shaped area on the final optical element on the image plane. Said system can also comprises a rotator which is used to rotate a substrate comprising the light-sensitive layer (401) between a transport position, wherein the light-sensitive layer is arranged on a substrate surface disposed in the counter direction to the direction of gravity, and a position of exposure, wherein the light-sensitive layer (401) is arranged on a substrate surface disposed in the direction of gravity.

    Abstract translation: 具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中投影透镜的图像平面侧最后一个光学元件沿像平面在重力方向上布置; 并且其中所述投影透镜被设计成使得在浸没模式中，所述浸没液体在远离所述像平面的方向上至少部分地凸出地弯曲。 还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地 最后一个光学元件被安排。 用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401） 可以设置平躺的基板表面。

    ABBILDUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
    3.
    发明申请
    ABBILDUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
    PICTURE SYSTEM FOR A微光刻投射曝光设备

    公开(公告)号：WO2005081068A2

    公开(公告)日：2005-09-01

    申请号：PCT/EP2005/000277

    申请日：2005-01-13

    Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  GRUNER, Toralf ,  EPPLE, Alexander ,  KNEER, Bernhard ,  WABRA, Norbert ,  BEDER, Susanne ,  DORSEL, Andreas

    Inventor： GRUNER, Toralf ,  EPPLE, Alexander ,  KNEER, Bernhard ,  WABRA, Norbert ,  BEDER, Susanne ,  DORSEL, Andreas

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70225 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70966

    Abstract: Abbildungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Projektionsobjektiv (200, 300, 500, 600) zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht; und einer Flüssigkeitszufuhr (205) zum Füllen eines Zwischenraums zwischen der Bildebene und einem bildebenenseitig letzten optischen Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs mit Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601); wobei das bildebenenseitig letzte optische Element des Projektionsobjektivs in Schwerkraftrichtung nachfolgend zur Bildebene angeordnet ist; und wobei das Projektionsobjektiv derart ausgelegt ist, dass im Immersionsbetrieb die Immersionsflüssigkeit in zur Bildebene abgewandter Richtung wenigstens bereichsweise konvex gekrümmt ist. Es wird auch vorgesehen, dass das bildebenenseitig letzte optische Element (201, 309, 506) des Projektionsobjektivs unter der Bildebene derart angeordnet ist, dass die Immersionsflüssigkeit (202, 310, 507, 601) zumindest teilweise in einem im wesentlichen wannenförmigen Bereich auf dem bildebenenseitig letzten optischen Element angeordnet wird. Auch kann ein Rotator zum Drehen eines die lichtempfindliche Schicht (401) aufweisenden Substrats zwischen einer Transportorientierung, in der die lichtempfindliche Schicht auf einer entgegengesetzt zur Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, und einer Belichtungsorientierung, in welcher die lichtempfindliche Schicht (401) auf einer in Schwerkraftrichtung liegenden Substratoberfläche angeordnet ist, vorgesehen sein.

    Abstract translation: 具有用于在光敏感层的图像平面上的定位在物平面掩模成像可定位的投影透镜（200，300，500，600）的微光刻投射曝光设备的成像系统; 和用于填充所述投射物镜的像平面和图像平面侧最后的光学元件（201，309，506）之间的间隙与浸没液体（202，310，507，601）的液体供给（205）; 其中所述投射物镜的像面侧最后光学元件被布置在图像平面下方的重力方向; 并且其中，所述投射物镜被设计成使得在浸液操作中，浸没液体在背离图像面方向至少部分地凸形弯曲远离。 还可以预期的是，投影透镜的像面侧最后的光学元件（201，309，506）设置在图像平面下方，使得浸没液体（202，310，507，601）至少部分地基于所述像面侧的大致槽形区域部分地 最后的光学元件被布置。 用于旋转具有输送方向之间的衬底的感光层（401）旋转器罐，被布置在位于一个相对的衬底表面的重力方向上的感光层，和一个曝光取向，其中在重力的方向上的感光层（401） 布置，可以提供下面的基底表面。

    REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT
    9.
    发明申请
    REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD OF MANUFACTURING A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT 审中-公开
    反射光学元件的反射光学元件和制造反射光学元件的方法

    公开(公告)号：WO2014086905A1

    公开(公告)日：2014-06-12

    申请号：PCT/EP2013/075620

    申请日：2013-12-05

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  WABRA, Norbert ,  BITTNER, Boris ,  VON HODENBERG, Martin ,  ENKISCH, Hartmut ,  MÜLLENDER, Stephan ,  CONRADI, Olaf

    Inventor： WABRA, Norbert ,  BITTNER, Boris ,  VON HODENBERG, Martin ,  ENKISCH, Hartmut ,  MÜLLENDER, Stephan ,  CONRADI, Olaf

    IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08 ,  G21K1/06 ,  G03F1/22

    CPC classification number: G03F7/702 ,  B82Y10/00 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B17/0663 ,  G02B27/1033 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062

    Abstract: The invention relates to a reflective optical element of an optical system for EUV lithography as well as to a method of manufacturing a reflective optical element of an optical system for EUV lithography, said reflective optical element (20) comprising a multilayer system (23, 83) for reflecting an incident electromagnetic wave having an operating wavelength in the EUV range, the reflected wave having a phase φ, and a capping layer (25, 85) made from a capping layer material, wherein the method comprises the following steps: determining, for said capping layer material, a dependency according to which the phase of the reflected wave varies with the thickness of the capping layer, determining a linearity-region in said dependency in which the phase of the reflected wave varies substantially linearly with the thickness of the capping layer (25, 85), and creating a thickness profile in said capping layer (25, 85) such that both the maximum thickness and the minimum thickness in said thickness profile are in said linearity-region.

    Abstract translation: 本发明涉及用于EUV光刻的光学系统的反射光学元件以及制造用于EUV光刻的光学系统的反射光学元件的方法，所述反射光学元件（20）包括多层系统（23,83 ），用于反射具有在EUV范围内的工作波长的入射电磁波，所述反射波具有相位和由覆盖层材料制成的覆盖层（25,85），其中所述方法包括以下步骤：确定 对于所述覆盖层材料，依赖于反射波的相位随着覆盖层的厚度而变化的依赖性，确定所述依赖性中的线性区域，其中反射波的相位基本上以 封盖层（25,85），并且在所述封盖层（25,85）中产生厚度分布，使得所述封盖层（25,85）中的最大厚度和最小厚度 厚度分布在所述线性区域中。

    PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    10.
    发明申请
    PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    微波投影曝光装置的投影目标

    公开(公告)号：WO2013044936A1

    公开(公告)日：2013-04-04

    申请号：PCT/EP2011/004859

    申请日：2011-09-29

    Applicant: CARL ZEISS SMT GMBH ,  ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHOB, Arne ,  RUDOLPH, Günter ,  GRATZKE, Alexander ,  MOFFAT, Bryce, Anton

    Inventor： ZELLNER, Johannes ,  BITTNER, Boris ,  WABRA, Norbert ,  HODENBERG, Martin von ,  SCHNEIDER, Sonja ,  SCHNEIDER, Ricarda ,  SCHOB, Arne ,  RUDOLPH, Günter ,  GRATZKE, Alexander ,  MOFFAT, Bryce, Anton

    IPC: G03F7/20 ,  H01S5/00

    CPC classification number: G03F7/70308 ,  G03F7/70891 ,  H01S5/005 ,  H01S5/0064 ,  H01S5/4025

    Abstract: A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a wavefront correction device (42) comprising a refractive optical element (44; 44a, 44b) that has two opposite optical surfaces (46, 48), through which projection light passes, and a circumferential rim surface (50) extending between the two optical surfaces (46, 48). A first and a second optical system (OS1, OS2) are configured to direct first and second heating light (HL1, HL2) to different portions of the rim surface (50) such that at least a portion of the first and second heating light enters the refractive optical element (44; 44a, 44b). A temperature distribution caused by a partial absorption of the heating light (HL1, HL2) results in a refractive index distribution inside the refractive optical element (44; 44a, 44b) that corrects a wavefront error. At least the first optical system (OS1) comprises a focusing optical element (55) that focuses the first heating light in a focal area (56) such that the first heating light emerging from the focal area (56) impinges on the rim surface (50).

    Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括波阵面校正装置（42），其包括折射光学元件（44; 44a，44b），该折射光学元件具有两个相对的光学表面（46,48），投射光通过该光学表面 轮缘表面（50）在两个光学表面（46,48）之间延伸。 第一和第二光学系统（OS1，OS2）被配置为将第一和第二加热光（HL1，HL2）引导到边缘表面（50）的不同部分，使得第一和第二加热光的至少一部分进入 折射光学元件（44; 44a，44b）。 由加热光（HL1，HL2）的部分吸收引起的温度分布导致折射光学元件（44; 44a，44b）内的折射率分布，其校正波前误差。 至少第一光学系统（OS1）包括聚焦光学元件（55），其将第一加热光聚焦在聚焦区域（56）中，使得从聚焦区域（56）出射的第一加热光照射在边缘表面上 50）。

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