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公开(公告)号:WO2008087924A1
公开(公告)日:2008-07-24
申请号:PCT/JP2008/050319
申请日:2008-01-15
发明人: 笘井 重和
CPC分类号: H05B33/26 , H01L51/5092 , H01L51/5234
摘要: 一対の電極と、前記一対の電極により挟持された発光層を有し、少なくとも1つの電極が、透明導電層と低酸化金属層からなり、前記低酸化金属層が、前記透明導電層と前記発光層との間にあり、前記低酸化金属層の膜厚が0.5nm以上50nm以下であり、前記透明導電層の膜厚が10nm以上1000nm以下であり、前記低酸化金属層が、In、Sn及びZnの少なくとも1以上を合計して70at%以上含む有機エレクトロルミネッセンス素子。
摘要翻译: 公开了一种有机电致发光器件,其包括一对电极和插在电极之间的发光层。 至少一个电极由透明导电层和低氧化金属层构成,低氧化金属层设置在透明导电层和发光层之间。 低氧化金属层的厚度不小于0.5nm但不大于50nm,而透明导电层的厚度不小于10nm但不大于1000nm。 低氧化金属层含有至少一种选自In,Sn和Zn的元素,其总量不低于70原子%。
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公开(公告)号:WO2009075281A1
公开(公告)日:2009-06-18
申请号:PCT/JP2008/072387
申请日:2008-12-10
IPC分类号: H01L29/786
CPC分类号: H01L29/24 , H01L29/66969 , H01L29/78603 , H01L29/78606 , H01L29/78633 , H01L29/7869
摘要: 基板上に、少なくとも半導体層と、半導体層の保護層と、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート絶縁膜と、ゲート電極とを有し、 ソース電極とドレイン電極が、半導体層を介して接続してあり、 ゲート電極と半導体層の間にゲート絶縁膜があり、 半導体層の少なくとも一面側に保護層を有し、 半導体層が、In(インジウム)元素、Zn(亜鉛)元素及びGa(ガリウム)元素を下記(1)~(3)の原子比率で含む複合酸化物からなる電界効果型トランジスタ。 In/(In+Zn)=0.2~0.8 (1) In/(In+Ga)=0.59~0.99 (2) Zn/(Ga+Zn)=0.29~0.99 (3)
摘要翻译: 公开了一种场效应晶体管,其在基板上包括至少半导体层,半导体层的保护层,源电极,漏电极,栅极绝缘膜和栅电极。 源电极和漏电极通过半导体层彼此连接。 栅极绝缘膜布置在栅电极和半导体层之间。 半导体层的至少一侧设置有保护层。 半导体层由包含In(铟),Zn(锌)和Ga(镓)的复合氧化物构成,原子比满足下式(1) - (3)。 In /(In + Zn)= 0.2-0.8(1)In /(In + Ga)= 0.59-0.99(2)Zn /(Ga + Zn)= 0.29-0.99(3)
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公开(公告)号:WO2009072365A1
公开(公告)日:2009-06-11
申请号:PCT/JP2008/069715
申请日:2008-10-30
IPC分类号: H01L33/00
CPC分类号: H01L33/42 , H01L33/32 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/48257 , H01L2224/49107 , H01L2924/181 , H01L2924/00012 , H01L2924/00014
摘要: インジウム、亜鉛及びスズからなる群から選ばれる1以上の金属の酸化物と、ハフニウム、タンタル、タングステン、ビスマス及びランタノイド系元素からなる群から選ばれる1以上の元素を含む酸化物を含み、バンドギャップが3.0eV以上であり、波長460nmにおける屈折率が2.1以上であり、仕事関数が5.5eV以上である窒化ガリウム系化合物半導体発光素子用非晶質透明導電膜。
摘要翻译: 公开了一种用于氮化镓化合物半导体发光器件的非晶透明导电膜,其包含选自铟,锌和锡的一种或多种金属的氧化物,以及含有一种或多种选自以下的元素的氧化物: 的铪,钽,钨,铋和镧系元素。 该氮化镓系化合物半导体发光元件用非晶透明导电膜的带隙为3.0eV以上,460nm以下的折射率为2.1以上,功函数为5.5eV以上 。
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公开(公告)号:WO2005103320A1
公开(公告)日:2005-11-03
申请号:PCT/JP2005/002903
申请日:2005-02-23
IPC分类号: C23C14/34
CPC分类号: H01B1/08 , C23C14/08 , C23C14/3414 , H01L31/022466
摘要: スパッタリング時に、ノジュールを発生しないターゲットを提供する。また、エッチング性に優れ、且つ、特に400~450nm域の透明性に優れた非晶質透明導電膜を提供する。 酸化インジウムと、酸化亜鉛と、酸化マグネシウムと、を含むスパッタリングターゲットであり、このスパッタリングターゲットは、スパッタリング時に、ノジュールを発生しない。また、酸化インジウムと、酸化亜鉛と、酸化マグネシウムと、を含む非晶質透明導電膜であり、この非晶質透明導電膜は、エッチング性に優れ、且つ400~450nm域の光線透過率が高い。
摘要翻译: 公开了在溅射期间不形成结节的靶。 还公开了一种非晶透明导电膜,其具有优异的蚀刻性能和优异的透明度,特别是在400-450nm区域。 具体公开了包含在溅射期间不形成结节的氧化铟,氧化锌和氧化镁的溅射靶。 还公开了含有氧化铟,氧化锌和氧化镁的非晶透明导电膜,其蚀刻性能优异,并且在400-450nm区域具有高透光率。
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公开(公告)号:WO2006121015A1
公开(公告)日:2006-11-16
申请号:PCT/JP2006/309266
申请日:2006-05-08
CPC分类号: H01L51/5278 , H01L51/5262
摘要: 透明電極(12)と、透明電極(12)に対向して配置される対向電極(14)と、透明電極(12)と対向電極(14)の間に、2層の有機発光層(20),(22)が中間導電層(30)を介して積層している構造を1つ以上有し、中間導電層(30)の屈折率n a と、有機発光層の少なくとも1層の屈折率n b との差が0.25以内であり、中間導電層(30)が、1種以上の希土類元素を含有する酸化物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子(1)。
摘要翻译: 有机电致发光元件(1)设置有透明电极(12),与透明电极(12)相对配置的对置电极(14),以及一个或多个结构,其中两个有机发光层(20,22) 通过中间导电层(30)堆叠在透明电极(12)和对电极(14)之间。 中间导电层(30)的折射率(n a )与至少一个有机发光层的折射率(n> b sub>)之差 在0.25以内,中间导电层(30)包含含有一种以上稀土元素的氧化物。
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6.薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタ基板及びこれらの製造方法及びこれらを用いた液晶表示装置及び関連する装置及び方法、並びに、スパッタリングターゲット及びこれを用いて成膜した透明導電膜及び透明電極及び関連する装置及び方法 审中-公开
标题翻译: 薄膜晶体管和薄膜晶体管基板及其使用这些和相关装置的方法和液晶显示单元的制造方法和方法,以及使用该透明电极形成的溅射靶和透明导电膜及相关装置和方法公开(公告)号:WO2005086180A1
公开(公告)日:2005-09-15
申请号:PCT/JP2005/003489
申请日:2005-03-02
IPC分类号: H01B5/14
CPC分类号: H01L29/78696 , C04B35/01 , C04B2235/3224 , C04B2235/3227 , C04B2235/3229 , C04B2235/3251 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3279 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3287 , C04B2235/3289 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/77 , C23C14/08 , C23C14/3414 , G02F1/13439 , G02F1/136227 , G02F1/1368 , H01L23/53219 , H01L23/53247 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L29/458 , H01L29/4908 , H01L29/66765 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要: エッチングによる残渣などの発生が、ほとんどない透明導電膜を備える薄膜トランジスタ型基板、及びその製造方法、及びその薄膜トランジスタ型基板を用いた液晶表示装置を提供する。 透明基板と、前記透明基板上に設けられたソース電極と、前記透明基板上に設けられたドレイン電極と、前記透明基板上に設けられた透明画素電極と、を具備してなる薄膜トランジスタ型基板において、前記透明画素電極が、酸化インジウムを主成分として含み、さらに、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ニッケル、及び酸化ニオブから選ばれた一種又は二種以上の酸化物と、を含む透明導電膜であり、前記透明画素電極は、前記ソース電極又は前記ドレイン電極と電気的に接続している薄膜トランジスタ型基板、及びその製造方法、及びその薄膜トランジスタ型基板を用いた液晶表示装置である。
摘要翻译: 具有通过蚀刻几乎没有残留物等的透明导电膜的薄膜晶体管基板和制造方法,以及使用该薄膜晶体管基板的液晶显示装置。 薄膜晶体管基板包括透明基板,设置在透明基板上的源电极,设置在透明基板上的漏电极和设置在透明基板上的透明像素电极,其中透明像素电极是透明导电膜 含有氧化铟作为主要成分和选自氧化钨,氧化钼,氧化镍和氧化铌的一种或两种以上的氧化物,透明像素电极与源电极或漏电极电连接; 和一种生产方法; 以及使用该薄膜晶体管基板的液晶显示单元。
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7.
公开(公告)号:WO2005086179A1
公开(公告)日:2005-09-15
申请号:PCT/JP2005/002602
申请日:2005-02-18
IPC分类号: H01B5/14
CPC分类号: G02F1/13439 , G02F1/133555
摘要: エッチングによる残渣などの発生がほとんどなく、且つ、金属反射層(金属層)のエッチャントに対して耐性のある透明導電層を備える半透過・半反射電極基板、及びその製造方法、及び、その半透過・半反射電極基板を用いた液晶表示装置を提供する。 透明基板と、前記透明基板上に設けられ、酸化インジウムを主成分として含み、さらに、酸化タングステン、酸化モリブデン、及び酸化ニオブから選ばれた一種または二種以上の酸化物を含む透明導電層と、前記透明基板上に設けられるとともに、外光を反射し、且つ前記透明導電層と電気的に接続された金属反射層と、を具備してなる半透過・半反射電極基板、及びその製造方法、及びその半透過・半反射電極基板を用いた液晶表示装置である。この半透過・半反射電極基板は、残渣の発生がほとんどなく、加工性に優れ、歩留りも向上する。
摘要翻译: 公开了一种半透射/半反射电极基板,其包括几乎不会蚀刻残留物并具有抵抗金属反射层(金属层)的蚀刻剂的透明导电层。 还公开了使用这种半透射/半反射电极基板制造这种半透射/半反射电极基板和液晶显示器的方法。 具体公开了一种半透射/半反射电极基板,其包括透明基板,形成在透明基板上的透明导电层,主要包含氧化铟,并且还含有一种以上选自氧化钨,氧化钼和铌的氧化物 氧化物和金属反射层,其形成在透明基板上以反射外部光并电连接到透明导电层; 制造这种基板的方法; 以及使用这种基板的液晶显示器。 该半透射/半反射电极基板几乎不具有残留物,并且具有优异的加工性和提高的产率。
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8.
公开(公告)号:WO2009093625A1
公开(公告)日:2009-07-30
申请号:PCT/JP2009/050916
申请日:2009-01-22
IPC分类号: H01L29/786 , H01L21/336
CPC分类号: H01L29/7869
摘要: 酸化物膜を半導体層として有し、前記酸化物膜がチャンネル部位、ソース部位及びドレイン部位を有し、前記チャンネル部位、ソース部位及びドレイン部位の酸素元素及び不活性ガスを除く組成が実質同一である電界効果型トランジスタ。
摘要翻译: 提供了一种场效应晶体管,其中氧化物膜被布置为半导体层,氧化物膜具有沟道部分,源极部分和漏极部分,以及沟道部分,源极部分和漏极部分的组成,不包括 氧元素和惰性气体基本相同。
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公开(公告)号:WO2009091013A1
公开(公告)日:2009-07-23
申请号:PCT/JP2009/050504
申请日:2009-01-16
IPC分类号: H01L29/786 , H01L21/336
CPC分类号: H01L29/7869
摘要: ソース電極107a、ドレイン電極107b、ゲート電極103、絶縁膜105及び結晶質酸化物を含む半導体層109を備え、ソース電極107aとドレイン電極107bが絶縁膜105を介してゲート電極103と自己整合して配置されている電界効果型トランジスタ。
摘要翻译: 公开了一种具有包含源电极(107a),漏电极(107b),栅电极(103),绝缘膜(105)和结晶氧化物的半导体层(109)的场效应晶体管。 源极电极(107a)和漏电极(107b)与绝缘膜(105)之间的栅电极(103)自对准。
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公开(公告)号:WO2009034953A1
公开(公告)日:2009-03-19
申请号:PCT/JP2008/066198
申请日:2008-09-09
IPC分类号: H01L29/786
CPC分类号: H01L29/7869 , H01L29/78693 , H01L29/78696
摘要: 結晶質層及び非晶質層を積層してなる酸化物半導体膜を含む薄膜トランジスタ。
摘要翻译: 公开了一种薄膜晶体管,其包括氧化物半导体膜,其中结晶层和非晶层分层排列。
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