公开(公告)号：WO2016066413A1

公开(公告)日：2016-05-06

申请号：PCT/EP2015/073553

申请日：2015-10-12

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： TEO, Kenneth B. K. ,  JOUVRAY, Alexandre ,  MATHARU, Jai ,  THOMAS, Simon

IPC: C23C16/01 ,  C23C16/56 ,  C01B31/04 ,  G01N21/84 ,  C23C16/26

CPC classification number: C23C16/01 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/16 ,  C01B32/168 ,  C01B32/18 ,  C01B32/186 ,  C01B32/194 ,  C23C16/26 ,  C23C16/46 ,  C23C16/48 ,  C23C16/50 ,  C23C16/56 ,  G01N2021/8433 ,  Y10S977/734 ,  Y10S977/742 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/843

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Trennen einer an einer Keimstruktur (2) abgeschiedenen Kohlenstoffstruktur (1) beispielsweise Graphene, Carbon-Nanotubes oder Halbleiter-Nanowires von der Keimstruktur (2). Um die Herstellung von Kohlenstoffstrukturen zu vereinfachen und insbesondere ein Verfahren anzugeben, mit dem das Trennen der Kohlenstoffstruktur von der Keimstruktur innerhalb der Prozesskammer, in der die Abscheidung erfolgt, wird nachstehend vorgeschlagen, Bereitstellen einer an einer Keimstruktur (2) abgeschiedenen Kohlenstoffstruktur in einer Prozesskammer eines CVD-Reaktors; Aufheizen des die Keimstruktur (2) und die Kohlenstoffstruktur (1) aufweisenden Substrates auf eine Prozesstemperatur; Einspeisen zumindest eines Ätzgases mit der Summenformel AOmXn, AOmXnYp oder AmXn, wobei A aus einer Gruppe von Elementen ausgewählt ist, die S, C, N enthält, wobei O Sauerstoff ist, wobei X, Y verschiedene Halogene sind, und m, n, p natürliche Zahlen größer Null sind; Umwandeln der Keimstruktur (2) durch eine chemische Reaktion mit dem Ätzgas in ein gasförmiges Reaktionsprodukt; Entfernen des gasförmigen Reaktionsproduktes aus der Prozesskammer mittels eines Trägergasflusses.

Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于在结构中分离的晶种（2）沉积的碳的结构（1），例如，石墨烯，碳纳米管或从成核结构（2）的半导体纳米线。 为了简化生产碳的结构，并且特别是提供一种通过其在发生沉积的处理腔室中的种子结构的碳结构的分离，它是下面建议的方法中，提供在种子结构（2）沉积的碳结构中的一个处理腔室 CVD反应器; 加热该成核结构（2）和碳结构（1）包括在所述衬底到处理温度; 将至少一种蚀刻气体具有经验式AOmXn，AOmXnYp或M×N个，其中从包含S，C，N的一组元素中选择的，和O是氧，X，Y是不同的卤素，且m，n，P 是自然数大于零; 通过在气态反应产物中的蚀刻气体的化学反应转化成核结构（2）; 通过载气流量的装置除去从处理室气态反应产物。

公开(公告)号：WO2019211280A3

公开(公告)日：2019-11-07

申请号：PCT/EP2019/061065

申请日：2019-04-30

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： JOUVRAY, Alexandre

IPC: C23C16/26 ,  C23C16/54 ,  C23C16/46 ,  C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  B01J3/03 ,  F16J15/16 ,  F16K3/316

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von Graphen, Carbon-Nano-Röhrchen oder anderen, insbesondere Kohlenstoff enthaltenen Beschichtungen auf einem durch eine Eintrittsöffnung (12) in ein Reaktorgehäuse (1) eintretenden und durch eine Austrittsöffnung (12') aus dem Reaktorgehäuse (1) austretenden, streifenförmigen Substrat (2), das in einer Transportrichtung von der Eintrittsöffnung (12) durch eine im Reaktorgehäuse (1) angeordnete, von einer Temperiereinrichtung (8) temperierte Prozesszone (5) hin zu einer Austrittsöffnung (12') transportiert wird.Erfindungsgemäß sind zwischen der Prozesszone (5) und der Eintrittsöffnung (12) und/oder der Austrittsöffnung (12') wärmetransporthemmende Mittel (14, 15, 16, 17) angeordnet, mit denen ein Wärmetransport von der Prozesszone (5) hin zur Eintrittsöffnung (12) oder der Austrittsöffnung (12') vermindert wird.Ferner sind Führungselemente (11) vorgesehen, um das Substrat (2) in unmittelbar an die Öffnungen (12, 12') angrenzenden Bereichen zu führen.

公开(公告)号：WO2019211280A2

公开(公告)日：2019-11-07

申请号：PCT/EP2019/061065

申请日：2019-04-30

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： JOUVRAY, Alexandre

IPC: C23C16/26 ,  C23C16/54 ,  C23C16/46 ,  C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  B01J3/03 ,  F16J15/16 ,  F16K3/316

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von Graphen, Carbon-Nano-Röhrchen oder anderen, insbesondere Kohlenstoff enthaltenen Beschichtungen auf einem durch eine Eintrittsöffnung (12) in ein Reaktorgehäuse (1) eintretenden und durch eine Austrittsöffnung (12') aus dem Reaktorgehäuse (1) austretenden, streifenförmigen Substrat (2), das in einer Transportrichtung von der Eintrittsöffnung (12) durch eine im Reaktorgehäuse (1) angeordnete, von einer Temperiereinrichtung (8) temperierte Prozesszone (5) hin zu einer Austrittsöffnung (12') transportiert wird.Erfindungsgemäß sind zwischen der Prozesszone (5) und der Eintrittsöffnung (12) und/oder der Austrittsöffnung (12') wärmetransporthemmende Mittel (14, 15, 16, 17) angeordnet, mit denen ein Wärmetransport von der Prozesszone (5) hin zur Eintrittsöffnung (12) oder der Austrittsöffnung (12') vermindert wird.Ferner sind Führungselemente (11) vorgesehen, um das Substrat (2) in unmittelbar an die Öffnungen (12, 12') angrenzenden Bereichen zu führen.

公开(公告)号：WO2021084003A1

公开(公告)日：2021-05-06

申请号：PCT/EP2020/080391

申请日：2020-10-29

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： JOUVRAY, Alexandre ,  WINGFIELD, Bryan Michael ,  WELLS, Ashley Thomas ,  GONCALVES, Goncalo Pedro

IPC: C23C16/26 ,  C23C16/02 ,  C01B32/164 ,  C01B32/186 ,  C23C16/44 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden kohlenstoffhaltiger Strukturen auf einem durch einen Gehäuseinnenraum eines Gehäuses (1) hin geförderten Substrat (2), wobei der Gehäuseinnenraum eine zwischen einer ersten Randzone (3) und einer zweiten Randzone (4) angeordnete Zentralzone (5) aufweist, wobei das Substrat (2) durch eine der ersten Randzone (3) zugeordneten ersten Öffnung (6) in das Gehäuse (1) eintritt, in einer Förderrichtung (F) durch die Zentralzone (5) hindurchtritt und durch eine der zweiten Randzone (4) zugeordneten zweiten Öffnung (7) aus dem Gehäuse (1) heraustritt, mit einem Gaseinlass (8) zum Einspeisen eines kohlenstoffhaltigen Prozessgases in das Gehäuse (1), mit einer Heizeinrichtung (9) zur thermischen Aktivierung des Prozessgases, mit einem an eine Pumpe (10) anschließbaren Gasauslass (16) zum Herausführen des in den Gehäuseinnenraum (1) eingespeisten Gases. Erfindungsgemäß sind Mittel vorgesehen zum kontrollierten Eintritt eines reaktiven Gases in die Randzone (3, 4). Ferner ist eine Gasaustrittsöffnung (20) vorgesehen, durch die ein mit Sauerstoff reagierendes Gas in die Vorrichtung eingespeist werden kann. Das mit Sauerstoff reagierende Gas soll mit einer Heizeinrichtung (9) vorgeheizt werden, wobei die Heizeinrichtung (9) bereichsweise im Zentralbereich (5) angeordnet ist.

公开(公告)号：WO2015144514A1

公开(公告)日：2015-10-01

申请号：PCT/EP2015/055641

申请日：2015-03-18

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： JOUVRAY, Alexandre ,  RIPPINGTON, David Eric ,  TEO, Kenneth B. K. ,  RUPESINGHE, Nalin L.

IPC: C23C14/50 ,  C23C16/458 ,  H01L21/673 ,  C01B31/02 ,  C01B31/04

CPC classification number: C23C14/50 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C01B32/16 ,  C23C16/4582 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6734 ,  Y10S977/742 ,  Y10S977/843

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Substratträger und einen mit dem Substratträger zusammenwirkenden CVD-Reaktor zur Anordnung in einem CVD- oder PVD-Reaktor (20), insbesondere zum Abscheiden von Kohlenstoff -Nano-Röhrchen, oder Graphene mit einer ersten Breitseitenfläche (2) zur Aufnahme eines zu beschichtenden Substrates (6) und einer von der ersten Breitseitenfläche (2) wegweisenden zweiten Breitseitenfläche (3). Um eine Vorrichtung oder Teile einer Vorrichtung zum Abscheiden von Kohlenstoff -Nano-Röhrchen zu verbessern, wird vorgeschlagen, dass die erste Breitseitenfläche (2) und die zweite Breitseitenfläche (3) jeweils eine Substrat-Aufnahmezone (4, 5) aufweisen, in denen Fixierelemente (14, 14', 15) vorgesehen sind, mit denen jeweils ein Substrat (6) oder Abschnitte eines Substrates (6) an der Breitseitenfläche (2, 3) befestigbar ist. Außerdem betrifft die Erfindung einen CVD-Reaktor mit einem Substratträger (1).

Abstract translation: 本发明涉及一种衬底支撑件和与所述基板支撑件的CVD反应器，用于接收一配合的用于布置在CVD或PVD反应器（20），特别是用于碳-Nano管或石墨烯的具有第一宽边表面（2）的分离 待涂覆基底（6）和与第一主表面中的一个（2）背离第二主表面（3）。 为了改进的装置或用于分离碳-Nano管的装置的一部分，它建议在第一主面（2）和所述第二主表面（3）各自具有衬底接收区（4,5），其中固定元件 （14，14”，15）被提供，其每一个宽边表面上的基板（6）的基板（6），或部分（2，3）可以被紧固。 此外，本发明涉及一种具有基片载体（1）一个CVD反应器。

公开(公告)号：WO2015144558A1

公开(公告)日：2015-10-01

申请号：PCT/EP2015/055801

申请日：2015-03-19

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： JOUVRAY, Alexandre ,  RIPPINGTON, David Eric ,  TEO, Kenneth B. K. ,  RUPESINGHE, Nalin L.

IPC: C23C16/26 ,  C23C16/458 ,  C23C16/455 ,  C01B31/02 ,  C01B31/04

CPC classification number: C23C16/26 ,  C01B32/16 ,  C01B32/186 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4587 ,  C23C16/46

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von kohlenstoffhalti- gen Strukturen beispielsweise Schichten in Form von Nanoröhrchen oder Gra- phene auf einem Substrat (6), welches von einem in einem Prozesskammerge- häuse (19) angeordneten Substratträger (1) getragen wird, wobei durch Gasaustrittsöffnungen (39) eines im Prozesskammergehäuse (19) angeordneten Gaseinlassorgans (24, 25) ein Prozessgas in Richtung auf das mindestens eine Substrat (6) einspeisbar ist. Zur gebrauchsvorteilhaften Weiterbildung wird vorgeschlagen, dass das Prozesskammergehäuse (19) zwei sich gegenüberlie- gende Wände (48, 48') aufweist, die Halteaussparungen (34, 35, 36, 37, 38) auf- weisen und dass in dem Prozesskammergehäuse (19) mindestens ein platten- förmiges Bauteil (24, 25, 26, 30, 31) angeordnet ist, das mit zwei voneinander wegweisenden Randabschnitten jeweils in einer Halteaussparung (34 bis 38) einer der beiden Wände (48, 48') steckt.

Abstract translation: 本发明涉及一种设备，用于在衬底（6），其被布置在Prozesskammerge-壳体（19）的基板承载器上分离碳基因的结构，例如，层中的碳纳米管或石墨吩的形式（1）被支撑，其特征在于，通过 在处理室外壳（19）的气体出口（39），布置进气元件（24，25），朝向（6）被供给，所述至少一个衬底的工艺气体。 使用有利的改进，该处理腔外壳（19）具有（48，48“）被提出了两个gegenüberlie-收缩壁，其中保持凹槽（34，35，36，37，38）点处，并且在处理室外壳（19） 至少一个板形部件（24，25，26，30，31）被布置成其位于具有两个相对面向的边缘中的保持凹部的每个部分（34至38）的两个壁（48，48“）中的一个。