公开(公告)号：WO2017105838A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/US2016/064132

申请日：2016-11-30

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： KUDELA, Jozef ,  LAU, Allen K. ,  TINER, Robin L. ,  FURUTA, Gaku ,  WHITE, John M. ,  STERLING, William Norman ,  LEE, Dongsuh ,  ANWAR, Suhail ,  KURITA, Shinichi

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/509

CPC分类号： H01J37/32449 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32532 ,  H01J2237/3321

摘要： In one embodiment, a diffuser for a deposition chamber includes a plate having edge regions and a center region, and plurality of gas passages comprising an upstream bore and an orifice hole fluidly coupled to the upstream bore that are formed between an upstream side and a downstream side of the plate, and a plurality of grooves surrounding the gas passages, wherein a depth of the grooves varies from the edge regions to the center region of the plate.

摘要翻译： 在一个实施例中，用于沉积室的扩散器包括具有边缘区域和中心区域的板，并且多个气体通道包括上游孔和与上游孔流体耦合的孔孔， 形成在所述板的上游侧和下游侧之间，以及围绕所述气体通道的多个凹槽，其中所述凹槽的深度从所述板的所述边缘区域到所述中心区域变化。

公开(公告)号：WO2017200733A1

公开(公告)日：2017-11-23

申请号：PCT/US2017/030212

申请日：2017-04-28

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： CHOI, Young-Jin ,  PARK, Beom Soo ,  LEE, Dongsuh ,  STERLING, William Norman ,  TINER, Robin L. ,  KURITA, Shinichi ,  ANWAR, Suhail ,  CHOI, Soo Young ,  CUI, Yi

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/505

CPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/402 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/28556 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68757 ,  H01L21/68785

摘要： Embodiments described herein generally relate to a substrate support assembly. The substrate support assembly includes a support plate and a ceramic layer. The support plate has a top surface. The top surface includes a substrate receiving area configured to support a large area substrate and an outer area located outward of the substrate receiving area.

摘要翻译： 这里描述的实施例总体上涉及基板支撑组件。 基板支撑组件包括支撑板和陶瓷层。 支撑板具有顶面。 顶表面包括配置为支撑大面积基板的基板接收区域和位于基板接收区域外部的外部区域。