公开(公告)号：WO2008133270A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：PCT/JP2008/057839

申请日：2008-04-23

Applicant: JSR株式会社 ,  志水 誠 ,  成岡 岳彦 ,  大泉 芳史 ,  川上 峰規 ,  松村 信司 ,  大塚 昇

Inventor： 志水 誠 ,  成岡 岳彦 ,  大泉 芳史 ,  川上 峰規 ,  松村 信司 ,  大塚 昇

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045

Abstract: 　一般式（１）（２０モル％以上）、（２）及び（３）の繰り返し単位を有する樹脂（Ａ）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する感放射線性樹脂組成物。レジストとしての基本物性に優れ、且つ、孤立ラインの性能および欠陥性能に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。

Abstract translation: 包含具有通式（1），（2）和（3）的重复单元的辐射敏感性酸产生剂（B）和树脂（A））的辐射敏感性树脂组合物，其中通式 1）为20摩尔％以上。 该放射线敏感性树脂组合物可用作抗蚀剂的基本性能优异的化学放大型抗蚀剂，隔离线性能和缺陷性能优异。 （1）（2）（3）

公开(公告)号：WO2008149701A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：PCT/JP2008/059625

申请日：2008-05-26

Applicant: JSR株式会社 ,  榊原 宏和 ,  志水 誠 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹 ,  大泉 芳史

Inventor： 榊原 宏和 ,  志水 誠 ,  成岡 岳彦 ,  永井 智樹 ,  大泉 芳史

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1808 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392

Abstract: 感度に優れると共に、ＭＥＥＦを良好に維持することができる。下記式（１－１）で示される繰り返し単位および下記式（１－２）で示される繰り返し単位からなる樹脂（Ａ１）と、感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有するマスクエラーファクターを小さくできる感放射線性樹脂組成物。 　Ｒ 1 、Ｒ 2 、Ｒ 3 はそれぞれ炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を表し、Ｒ 4 は、水素原子、炭素数２～４の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐状のフッ素化アルキル基、または、炭素数１～４の直鎖状若しくは分岐状のアルコキシ基を表し、ｑは０～３の整数を表す。

Abstract translation: 公开了具有优异的灵敏度并且可以使MEEF值保持在令人满意的水平的辐射敏感性树脂组合物。 具体公开的是一种辐射敏感性树脂组合物，其包含：具有由式（1-1）表示的重复单元的树脂（A1）和由式（1-2）表示的重复单元; 和辐射敏感的酸发生剂（B），并且能够减少掩模误差因子。 （1-1）（1-2）其中R1，R2和R3独立地表示具有1至4个碳原子的直链或支链烷基; R4表示氢原子，碳原子数2〜4的直链或支链烷基，碳原子数1〜4的直链或支链氟代烷基，碳原子数1〜4的直链或支链烷氧基。 q表示0〜3的整数。

公开(公告)号：WO2009057484A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：PCT/JP2008/069062

申请日：2008-10-21

Applicant: JSR株式会社 ,  榊原 宏和 ,  志水 誠 ,  成岡 岳彦 ,  大泉 芳史 ,  原田 健太郎 ,  江畑 琢磨

Inventor： 榊原 宏和 ,  志水 誠 ,  成岡 岳彦 ,  大泉 芳史 ,  原田 健太郎 ,  江畑 琢磨

IPC: C08L33/14 ,  C08F220/22 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08L2312/06 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38

Abstract: 　本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と液浸露光用液体との後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物及びそれに用いられる重合体を提供することである。本組成物は、重合体、酸不安定基を含有する樹脂、酸発生剤及び溶剤を含有するものであって、前記重合体は、下記式（１）及び（２）で表される繰り返し単位を含有する。 〔Ｒ １ 及びＲ ２ は、各々、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示し、Ｒ ３ は少なくとも一つ以上の水素原子がフッ素原子で置換された、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数４～２０の脂環式炭化水素基若しくはその誘導体を示し、Ｚは光照射により酸を発生する基を含有する基を示す。〕

Abstract translation: 旨在提供一种能够产生令人满意的图案形状的辐射敏感性树脂组合物，在浸没曝光期间接触的浸没曝光液中溶解的成分的量减少，抗蚀剂膜与浸渍曝光之间的后退接触角大 液体，可以减少发展缺陷; 和用于组合物的聚合物。 该组合物含有聚合物，具有酸不稳定基团的树脂，产酸剂和溶剂。 聚合物含有由下式（1）和（2）表示的重复单元。 R1和R2各自表示氢原子，甲基或三氟甲基; R3表示具有1〜6个碳原子的烷基，其中至少一个氢原子被氟原子取代，或具有4〜20个碳原子的脂环族烃基或其衍生物; Z表示含有通过光照射生成酸的基团。

公开(公告)号：WO2008056796A1

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：PCT/JP2007/071850

申请日：2007-11-09

Applicant: JSR株式会社 ,  永井 智樹 ,  江畑 琢磨 ,  志水 誠

Inventor： 永井 智樹 ,  江畑 琢磨 ,  志水 誠

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 　感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂を含有し、かつ、高い解像性能及び良好なレジストパターンを得ることができるレジスト被膜を形成可能であり、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂及び溶剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （前記一般式（１）中、Ｒ １ は水素原子等を表し、Ｍ ＋ は所定のカチオンを表し、ｎは１～５の整数を表す）

Abstract translation: 本发明提供了作为辐射敏感性酸发生剂具有优异功能的辐射敏感性树脂组合物，其含有对环境和人体没有显着不利影响的树脂，并且可以形成能够实现高水平的抗蚀剂膜 分辨率性能和良好的抗蚀剂图案。 辐射敏感性树脂组合物包含含有由通式（1）表示的重复单元和溶剂：（1）的树脂，其中R 1表示氢原子等; M + +表示预定的阳离子; n为1〜5的整数。

公开(公告)号：WO2008056795A1

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：PCT/JP2007/071849

申请日：2007-11-09

Applicant: JSR株式会社 ,  セントラル硝子株式会社 ,  永井 智樹 ,  江畑 琢磨 ,  志水 誠 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  成塚 智 ,  藤原 昌生

Inventor： 永井 智樹 ,  江畑 琢磨 ,  志水 誠 ,  ジョドリ・ジョナサン・ジョアキム ,  成塚 智 ,  藤原 昌生

IPC: C08F20/38 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

Abstract: 　感放射線性酸発生剤として優れた機能を有し、環境や人体に対する悪影響が低い樹脂であり、下記一般式（１０）で表される繰り返し単位を有する樹脂。 （前記一般式（１０）中、Ｒ １ は水素原子等を表し、Ｍ ＋ は所定のカチオンを表し、ｎは１～５の整数を表す）

Abstract translation: 当用作辐射敏感性酸产生剂时具有优异功能并且不太可能不利地影响环境或人体的树脂。 它是具有由以下通式（10）表示的重复单元的树脂：其中R 1表示氢等; M +表示给定的阳离子; n 是1-5的整数）。

公开(公告)号：WO2006121096A1

公开(公告)日：2006-11-16

申请号：PCT/JP2006/309446

申请日：2006-05-11

Applicant: JSR株式会社 ,  永井 智樹 ,  米田 英司 ,  江畑 琢磨 ,  川上 峰規 ,  杉浦 誠 ,  下川 努 ,  志水 誠

Inventor： 永井 智樹 ,  米田 英司 ,  江畑 琢磨 ,  川上 峰規 ,  杉浦 誠 ,  下川 努 ,  志水 誠

IPC: C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/02 ,  C08F220/12 ,  C08L33/04 ,  C08L41/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C09D133/14 ,  C07C309/10 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C07D209/76 ,  C08F20/38 ,  C08F28/00 ,  C08F28/02 ,  C08F214/18 ,  C08F220/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  C08F228/02 ,  C09D141/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 　放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に高解像度でＤＯＦが広くＬＥＲに優れる感放射線性樹脂組成物、その組成物に利用できる重合体およびこの重合体合成に用いられる新規化合物を提供する。新規化合物は、下記式（２）で表される。 　式（２）において、Ｒ 4 はメチル基、トリフルオロメチル基、または水素原子を表し、Ｒfの少なくとも１つはフッ素原子または炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を表し、Ａは２価の有機基または単結合を表し、Ｇはフッ素原子を含有する２価の有機基または単結合を表し、Ｍ ｍ＋ は金属イオンもしくはオニウム陽イオンを表し、ｍは１～３の自然数を、ｐは１～８の自然数をそれぞれ示す。

Abstract translation: 公开了一种对辐射高度透明而对抗蚀剂的基本物理性质如灵敏度，分辨率和图案形状优异的辐射敏感性树脂组合物。 该辐射敏感性树脂组合物的分辨率特别高，DOF大，LER优异。 还公开了适用于这种组合物的聚合物和用于合成这种聚合物的新型化合物。 该新化合物由下式（2）表示。 （2）式（2）中，R 4表示甲基，三氟甲基或氢原子; Rf的至少一个表示氟原子，或具有1-10个碳原子的直链或支链全氟烷基; A表示二价有机基团或单键; G表示含有氟原子或单键的二价有机基团; M + H +表示金属离子或鎓阳离子; m表示1-3的自然数; 而p代表1-8的自然数。