公开(公告)号：WO2009123009A1

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：PCT/JP2009/056106

申请日：2009-03-26

Applicant: 国立大学法人京都大学 ,  横河電機株式会社 ,  富士フイルム株式会社 ,  殿村 修 ,  永原 聡士 ,  加納 学 ,  長谷部 伸治

Inventor： 殿村 修 ,  永原 聡士 ,  加納 学 ,  長谷部 伸治

IPC: F17D1/00 ,  B01J4/00 ,  B01J19/00 ,  B81B1/00 ,  F17D5/02 ,  G01N37/00 ,  G05D7/00

CPC classification number: B01J19/0093 ,  B01F13/0059 ,  B01F15/0264 ,  B01J2219/00889 ,  B01J2219/00891 ,  B01J2219/00959 ,  B01L3/502746 ,  B01L2200/143 ,  B01L2200/146 ,  B01L2300/0864 ,  G05D7/0186 ,  G05D7/0694 ,  Y10T137/8175 ,  Y10T137/8593

Abstract: 　本発明は、入力流路に供給された流体を３以上の出力流路に均等分配して出力する流体分配装置であって、複数の枝流路を組み合わせて形成され、少なくとも３つの流体の分流部と少なくとも１つの流体の合流部とを備え、流体収支式と圧力バランス式からなる圧力損失コンパートメント連結モデルに対応するように形成されることを特徴とする流体分配装置を提供する。また、この流体分配装置を用いたマイクロプラント、この流体分配装置の設計方法及びこの流体分配装置の流路閉塞検知方法を提供する。

Abstract translation: 提供一种用于将供给到输入流路中的流体均匀地分配到三个以上输出流路并输出流体的流体分配装置。 流体分配装置的特征在于，该装置通过组合多个分支流动通道而构成，并配备有至少三个流体分支部分和至少一个流体会聚部分，并且该装置形成为对应于压力损失 流体平衡型和压力平衡型的隔室连接型号。 此外，提供了使用流体分配装置的微型设备，流体分配装置的设计方法以及检测流体分配装置的流路堵塞的方法。

公开(公告)号：WO2007043215A1

公开(公告)日：2007-04-19

申请号：PCT/JP2006/312216

申请日：2006-06-19

Applicant: 日鉱金属株式会社 ,  加納 学 ,  新藤 裕一朗

Inventor： 加納 学 ,  新藤 裕一朗

IPC: C23C14/34 ,  C22C5/04 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C22C5/04 ,  H01L28/65

Abstract: 【課題】　有害物質を極力低減させるとともに、極力結晶粒を微細化して成膜時の膜厚分布を均一にし、さらにＳｉ基板との密着性を劣化させない、半導体メモリーのキャパシタ用電極材形成に好適なスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該Ｒｕ合金ターゲットをスパッタリングして得られた高純度Ｒｕ合金スパッタ膜を提供する。 【解決手段】　Ｒｕ以外の白金族元素の含有量が１５～２００ｗｔｐｐｍであり、残部Ｒｕ及び不可避的不純物からなることを特徴とする高純度Ｒｕ合金ターゲット。純度９９．９％以上のＲｕ粉とＲｕ以外の白金族元素の粉を混合した後にプレス成型して成形体を得、これを電子ビーム溶解してインゴットとし、このインゴットを鍛造加工してターゲットとすることを特徴とするＲｕ以外の白金族元素の含有量が１５～２００ｗｔｐｐｍであり、残部Ｒｕ及び不可避的不純物からなる高純度Ｒｕ合金ターゲットの製造方法。

Abstract translation: [问题]为了提供不仅最小化有害物质而且最小化晶粒的溅射靶，从而使成膜时的膜厚​​分布均匀化，并且不会劣化对Si基板的粘附性，适用于 形成半导体存储器的电容器电极材料。 此外，提供通过溅射Ru合金靶而获得的制造方法和高纯度Ru合金溅射膜。 [解决问题的手段]提供了一种高纯度Ru合金靶，其特征在于由15〜200重量ppm的非Ru铂族元素，余量为Ru和不可避免的杂质构成。 另外，提供了由15〜200重量ppm的非Ru铂族元素和余量为Ru以及不可避免的杂质构成的高纯度Ru合金靶的制造方法，其特征在于，首先将99.9％以上的纯度的Ru粉末和非 - 将铂族元素粉末在一起，将混合物压制成模制品，通过电子束将模制品熔化成锭，并将锭锻造成靶。

公开(公告)号：WO2009144974A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：PCT/JP2009/052578

申请日：2009-02-16

Applicant: 第一三共株式会社 ,  中川 弘司 ,  木所 資典 ,  加納 学

Inventor： 中川 弘司 ,  木所 資典 ,  加納 学

IPC: G01N21/35 ,  A61K9/20 ,  A61K47/12

CPC classification number: A61K9/0019 ,  A61K9/145 ,  A61K9/2013 ,  G01N21/359

Abstract: 　医薬品の製剤化プロセスのうち、滑沢剤混合工程における最適混合終点を検出する方法を提供する。 　製剤における滑沢剤成分の混合量、混合均一性及び展延状態をリアルタイムもしくはオフラインでモニターする方法であって、前記滑沢剤成分に特徴的な吸収波長を含む波長領域における吸光度の合計値を測定し、その値を指標として製剤における滑沢剤成分の混合量、混合均一性及び展延状態を評価することを含む前記方法。

Abstract translation: 提供了在制备药物产品的方法中在润滑剂混合步骤中检测最佳混合终点的方法。 该方法用于相对于混合的成分的量和制剂中成分的混合均匀度和扩散状态实时或离线地监测药物制剂中的润滑剂成分。 该方法包括测定包括润滑剂成分的吸收波长特性的波长范围内的吸光度的总值，并使用该值作为指标，以评价混合成分的量和混合均匀度以及成分在 药用制剂。

公开(公告)号：WO2009084318A1

公开(公告)日：2009-07-09

申请号：PCT/JP2008/069854

申请日：2008-10-31

Applicant: 日鉱金属株式会社 ,  高畑 雅博 ,  新藤 裕一朗 ,  加納 学

Inventor： 高畑 雅博 ,  新藤 裕一朗 ,  加納 学

IPC: C22B59/00 ,  C22B9/22 ,  C22C28/00 ,  C23C14/34 ,  H01L21/283 ,  H01L21/285 ,  H01L29/423 ,  H01L29/49 ,  H01L29/78

CPC classification number: C22C28/00 ,  C22B9/228 ,  C22B59/00 ,  C23C14/3414 ,  H01L21/28079 ,  H01L21/2855 ,  H01L29/495

Abstract:  希土類元素及びガス成分を除いた純度が４Ｎ以上であり、ランタン中のアルミニウム、鉄及び銅が、それぞれ１００ｗｔｐｐｍ以下であることを特徴とする高純度ランタン、並びに希土類元素及びガス成分を除いた純度が４Ｎ以上であり、ランタン中のアルミニウム、鉄及び銅がそれぞれ１００ｗｔｐｐｍ以下、かつ酸素含有量が１５００ｗｔｐｐｍ以下、アルカリ金属及びアルカリ土類金属の各元素がそれぞれ１ｗｔｐｐｍ以下、上記以外の遷移金属及び高融点金属の各元素がそれぞれ１０ｗｔｐｐｍ以下、放射性元素がそれぞれ１０ｗｔｐｐｂ以下であることを特徴とする高純度ランタン。高純度ランタン、高純度材料ランタンからなるスパッタリングターゲット及び高純度材料ランタンを主成分とするメタルゲート用薄膜を効率的かつ安定して提供できる技術を提供することを課題とする。　

Abstract translation: 公开了高纯度的镧，其纯度为4N以上，通过排除任何稀土元素或其任何气体组分，并且其含有量为100重量ppm以下的铝，铁和铜来测定。 还公开了高纯度的镧，其纯度为4N或更高，通过排除任何含有铝，铁和铜的稀土元素或其任何气体组分，其含量为100重量ppm以下，含有氧 其含量为1重量ppm以下的碱金属元素和碱土金属元素的含量为1500重量ppm以下，其含有除所述之外的过渡金属元素和高熔点金属元素 高于10重量ppm以下，含有10重量ppm以下的放射性元素。 进一步公开了一种高效稳定地提供高纯度镧的溅射靶，包括高纯镧材料的溅射靶和主要由高纯镧材料构成的金属栅极薄膜。

公开(公告)号：WO2007139088A1

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：PCT/JP2007/060862

申请日：2007-05-29

Applicant: 国立大学法人京都大学 ,  加納 学 ,  藤原 幸一

Inventor： 加納 学 ,  藤原 幸一

IPC: G05B13/04 ,  G05B13/02

CPC classification number: G05B13/048 ,  G05B13/042 ,  G05B17/02

Abstract: 　時間情報を適切に用いたモデル構築を行うことができ、また予測性能を改善することが可能な変数決定方法、変数決定装置、プログラム及び記録媒体を提供する。変数決定装置は、バッチプロセス運転後の操作変数ｕ i  を受け付ける（ステップＳ２１）。そして、この読み出した操作変数ｕ i に対するウェーブレット係数を算出する（ステップＳ２４）。選択手段は、算出したウェーブレット係数の中から、所定の条件を満たすウェーブレット係数を選択する（ステップＳ２５）。そして、このようにして選択したウェーブレット係数を入力すべき操作変数に関する値として出力手段により出力する。

Abstract translation: 可以提供一种可变决定方法，可变判定装置，程序和记录介质，其可以使用时间信息适当地构建模型并提高预测性能。 变量判定装置在批量处理操作之后接收操作变量u（i）（步骤S21），并且计算已被读出的操作变量u i i i的小波系数（ 步骤S24）。 选择装置从所计算的小波系数中选择满足预定条件的小波系数（步骤S25）。 这样选择的小波系数由输出装置输出作为要输入的操作系数的值。