公开(公告)号：WO2019000484A1

公开(公告)日：2019-01-03

申请号：PCT/CN2017/092255

申请日：2017-07-07

Applicant: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

Inventor： 姜亮

IPC: C23C14/26 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/26 ,  C23C14/543

Abstract: 一种蒸发源加热系统，包括真空的加热容器(10)、绕所述加热容器(10)外周面设置的第一加热源(20)以及设于所述加热容器(10)内的均热层(30)，所述均热层(30)与所述加热容器(10)内壁相对设置，以均匀传导所述加热容器(10)内壁发出的热量。通过在蒸发源加热系统的加热容器(10)内设置有均热层(30)，一方面避免了局部温度过高引起的材料裂解的风险，另一方面也提高了加热均匀性。另外，通过对加热容器内的均热层(30)进行加热，大幅缩短了实现均匀加热所需的时间，也更方便实时控制系统的加热状态。

公开(公告)号：WO2012143840A1

公开(公告)日：2012-10-26

申请号：PCT/IB2012/051871

申请日：2012-04-16

Applicant: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. ,  PHILIPS INTELLECTUAL PROPERTY & STANDARDS GMBH ,  KRIJNE, Johannes ,  ESER, Jürgen

Inventor： KRIJNE, Johannes ,  ESER, Jürgen

IPC: C23C14/54

CPC classification number: H01L22/12 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/543 ,  C23C14/545 ,  C23C14/546 ,  C23C14/547 ,  C23C14/56 ,  C23C14/562 ,  C23C16/45565 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/0641 ,  H01L22/26 ,  H01L51/001 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: In vapour deposition applications, especially OLED mass production, where it is necessary to measure and/or control the deposition rate of evaporation sources within specific tolerances, a measurement system is adapted to use robust and accurate optical thickness measurement methods at high and low rate sources, so that the thickness of a layer deposited on a substrate can be measured and controlled. A first evaporation source (11) deposits a layer of material on a substrate (20). A mobile element (41) is provided, On which a film is deposited from a second evaporation source (12b) in a deposition location (D1). Subsequently the mobile element is conveyed to a measurement location (D2) where the thickness of the film is measured by a thickness detector (45).The measurement apparatus is arranged to control the deposition of the first evaporation source in dependence on the thickness of the film deposited on the mobile element.

Abstract translation: 在气相沉积应用中，特别是OLED大规模生产中，需要在特定公差范围内测量和/或控制蒸发源的沉积速率，测量系统适用于在高和低速率源下使用鲁棒且准确的光学厚度测量方法 ，从而可以测量和控制沉积在基底上的层的厚度。 第一蒸发源（11）将一层材料沉积在基底（20）上。 提供了一种移动元件（41），其中在沉积位置（D1）中从第二蒸发源（12b）沉积膜。 随后，将移动元件输送到测量位置（D2），其中膜的厚度由厚度检测器（45）测量。测量装置被布置成根据第二蒸发源的厚度来控制第一蒸发源的沉积 胶片沉积在移动元件上。

公开(公告)号：WO01040539A2

公开(公告)日：2001-06-07

申请号：PCT/US2000/032764

申请日：2000-12-01

IPC: C23C14/54 ,  G02B1/10

CPC classification number: C23C14/54 ,  C23C14/543 ,  C23C14/545 ,  G02B1/10

Abstract: A method and system for producing a thin film with highly uniform (or highly accurate custom graded) thickness on a flat or graded substrate (such as concave or convex optics), by sweeping the substrate across a vapor deposition source with controlled (and generally, time-varying) velocity. In preferred embodiments, the method includes the steps of measuring the source flux distribution (using a test piece that is held stationary while exposed to the source), calculating a set of predicted film thickness profiles, each film thickness profile assuming the measured flux distribution and a different one of a set of sweep velocity modulation recipes, and determining from the predicted film thickness profiles a sweep velocity modulation recipe which is adequate to achieve a predetermined thickness profile. Aspects of the invention include a practical method of accurately measuring source flux distribution, and a computer-implemented method employing a graphical user interface to facilitate convenient selection of an optimal or nearly optimal sweep velocity modulation recipe to achieve a desired thickness profile on a substrate. Preferably, the computer implements an algorithm in which many sweep velocity function parameters (for example, the speed at which each substrate spins about its center as it sweeps across the source) can be varied or set to zero.

Abstract translation: 通过将衬底穿过气相沉积源（通常在其上，通常用于生产具有高度均匀（或高度准确的定制分级）厚度的薄膜的方法和系统，该平板或渐变衬底（例如凹形或凸形光学器件） 时变）速度。 在优选实施例中，该方法包括以下步骤：测量源通量分布（使用在暴露于源时保持静止的测试件），计算一组预测的膜厚度分布，每个薄膜厚度分布假设测量的磁通分布;以及 一组扫描速度调制配方中的不同的一个，并且从预测的膜厚度分布确定足以实现预定厚度分布的扫描速度调制配方。 本发明的方面包括精确测量源通量分布的实用方法，以及采用图形用户界面的计算机实现的方法，以促进方便地选择最佳或近似最佳的扫描速度调制配方以在衬底上实现期望的厚度分布。 优选地，计算机实现了一种算法，其中许多扫描速度函数参数（例如，每个基板绕其中心旋转，当其扫过源时的速度）可以被改变或设置为零。

公开(公告)号：WO2015073156A1

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：PCT/US2014/060832

申请日：2014-10-16

Applicant: NUVOSUN, INC.

Inventor： WALL, Arthur, C. ,  KAO, Sam ,  KIM, John, Kwangyong ,  HACHTMANN, Bruce, D. ,  JIANG, Qiongzhong ,  PORTER, Karnig Ross, Baron

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/06

CPC classification number: C23C14/546 ,  C23C14/0623 ,  C23C14/243 ,  C23C14/543

Abstract: Methods and systems are disclosed for monitoring vapor in a vacuum reactor apparatus. An system has (a) a vacuum chamber, (b) a vapor source housed in the vacuum chamber, wherein the vapor source is configured to generate a vapor, (c) a reaction vessel housed in the vacuum chamber and coupled to the vapor source, where the reaction vessel has an outlet to the vacuum chamber, and where the reaction vessel is configured to receive the vapor from the vapor source and to emit a portion of the received vapor into the vacuum chamber through the outlet, and (d) one or more sensors housed in the vacuum chamber, where the one or more sensors are configured to detect the vapor emitted through the outlet.

Abstract translation: 公开了用于监测真空反应器装置中的蒸气的方法和系统。 一种系统具有（a）真空室，（b）容纳在真空室中的蒸气源，其中蒸汽源被配置成产生蒸气，（c）容纳在真空室中的反应容器，并与蒸气源 ，其中反应容器具有到真空室的出口，并且其中反应容器构造成从蒸汽源接收蒸气并且通过出口将一部分接收的蒸气排放到真空室中，并且（d）一个 或更多的传感器，其中所述一个或多个传感器被配置为检测通过所述出口排出的蒸汽。

公开(公告)号：WO2011081368A2

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：PCT/KR2010009316

申请日：2010-12-24

Applicant: SNU PRECISION CO LTD ,  SEO SEUNG CHEOL ,  GONG DOO WON ,  LEE JONG HA ,  LEE KYUNG BUM ,  JUNG SUNG JAE ,  CHO WHANG SIN

Inventor： SEO SEUNG CHEOL ,  GONG DOO WON ,  LEE JONG HA ,  LEE KYUNG BUM ,  JUNG SUNG JAE ,  CHO WHANG SIN

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C16/4485 ,  B01D1/0017 ,  B01D1/0082 ,  C23C14/24 ,  C23C14/543 ,  C23C16/52

Abstract: Disclosed are a vaporization apparatus and a control method for the same. The vaporization apparatus includes a vaporization crucible adapted to receive a raw material; a vaporization heating unit adapted to vaporize the raw material by heating the vaporization crucible; a temperature measuring unit adapted to measure temperature of the vaporization crucible; a power measuring unit adapted to measure an applied power of the vaporization heating unit; and a control unit adapted to control a vaporization quantity of the raw material based on any one of a temperature variation value of the temperature measuring unit and a power variation value of the power measuring unit. The vaporization apparatus uses a non-contact/electronic method which measures a vaporization quantity through a temperature variation value and a power variation value during vaporization of a raw material. Therefore, since, differently from a contact method, a vaporization quantity measuring unit does not directly contact a raw material gas, various raw materials can be supplied and large quantity raw material supply or long time raw material supply can be achieved without deterioration of the function. In addition, preciseness of the raw material supply may be enhanced since the electronic method is capable of precise measurement of the vaporization quantity.

Abstract translation: 公开了一种蒸发装置及其控制方法。 蒸发装置包括适于容纳原料的蒸发坩埚; 蒸发加热单元，其适于通过加热所述蒸发坩埚来蒸发所述原料; 适于测量蒸发坩埚的温度的温度测量单元; 功率测量单元，适于测量蒸发加热单元的施加功率; 以及控制单元，其适于基于所述温度测量单元的温度变化值和所述功率测量单元的功率变化值中的任一个来控制所述原材料的蒸发量。 蒸发装置使用在原料蒸发期间通过温度变化值和功率变化值来测量蒸发量的非接触/电子方法。 因此，与接触方法不同的是，蒸发量测量单元不直接接触原料气体，可以供给各种原料，并且可以实现大量的原料供给或长时间的原料供应而不会降低功能 。 此外，由于电子方法能够精确地测量蒸发量，所以可以提高原料供应的精度。

公开(公告)号：WO2010010224A1

公开(公告)日：2010-01-28

申请号：PCT/ES2009/070311

申请日：2009-07-24

Applicant: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTÍFICAS (CSIC) ,  UNIVERSIDAD AUTÓNOMA DE BARCELONA (UAB) ,  ÉCOLE POLYTECHNIQUE FÉDÉRALE DE LAUSANNE (EPFL) ,  PÉREZ MURANO, Francesc ,  ARCAMONE, Julien ,  SANSA, Marc ,  BRUEGGER, Juergen ,  VAN D N BOOGART, Marc ,  BARNIOL BEUMALA, Nuria ,  ABADAL BERINI, Gabriel ,  URANGA DEL MONTE, Arantxa ,  VERD MARTORELL, Jaume

Inventor： PÉREZ MURANO, Francesc ,  ARCAMONE, Julien ,  SANSA, Marc ,  BRUEGGER, Juergen ,  VAN D N BOOGART, Marc ,  BARNIOL BEUMALA, Nuria ,  ABADAL BERINI, Gabriel ,  URANGA DEL MONTE, Arantxa ,  VERD MARTORELL, Jaume

IPC: H01L21/68 ,  C23C14/04 ,  G03F9/00

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/042 ,  C23C14/543 ,  C23C16/042 ,  C23C16/52

Abstract: El objeto principal de la presente invención es un sistema para alinear dos o más patrones en un sustrato utilizando litografía por esténcil en vacío, de modo que se consigue una precisión de alineación óptima. Más particularmente, se trata de un sistema de alineación de patrones basado en disponer un sensor de masa capaz de detectar el material emitido en una posición conocida detrás del esténcil, de modo que se conoce la posición de este último en función de la señal emitida por el sensor.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于使用真空模板光刻在基板上对准两个或多个图案的系统，以获得最佳对准精度。 更具体地，本发明涉及一种图案对准系统，其中可以检测发射的材料的质量传感器被放置在模板之后的已知位置，使得可以确定模板的位置作为信号的函数 由传感器发射。

公开(公告)号：WO0140539A3

公开(公告)日：2002-02-14

申请号：PCT/US0032764

申请日：2000-12-01

Applicant: UNIV CALIFORNIA

Inventor： FOLTA JAMES A ,  MONTCALM CLAUDE ,  WALTON CHRISTOPHER

IPC: C23C14/54 ,  G02B1/10

CPC classification number: C23C14/545 ,  C23C14/54 ,  C23C14/543 ,  G02B1/10

Abstract: A method and system for producing a thin film with highly uniform (or highly accurate custom graded) thickness on a flat or graded substrate (such as concave or convex optics), by sweeping the substrate across a vapor deposition source with controlled (and generally, time-varying) velocity. In preferred embodiments, the method includes the steps of measuring the source flux distribution (using a test piece that is held stationary while exposed to the source), calculating a set of predicted film thickness profiles, each film thickness profile assuming the measured flux distribution and a different one of a set of sweep velocity modulation recipes, and determining from the predicted film thickness profiles a sweep velocity modulation recipe which is adequate to achieve a predetermined thickness profile. Aspects of the invention include a practical method of accurately measuring source flux distribution, and a computer-implemented method employing a graphical user interface to facilitate convenient selection of an optimal or nearly optimal sweep velocity modulation recipe to achieve a desired thickness profile on a substrate. Preferably, the computer implements an algorithm in which many sweep velocity function parameters (for example, the speed at which each substrate spins about its center as it sweeps across the source) can be varied or set to zero.

Abstract translation: 通过将衬底穿过气相沉积源（通常在其上，通常用于生产具有高度均匀（或高度准确的定制分级）厚度的薄膜的方法和系统，该平板或渐变衬底（例如凹形或凸形光学器件） 时变）速度。 在优选实施例中，该方法包括以下步骤：测量源通量分布（使用在暴露于源时保持静止的测试件），计算一组预测的膜厚度分布，每个薄膜厚度分布假设测量的磁通分布;以及 一组扫描速度调制配方中的不同的一个，并且从预测的膜厚度分布确定足以实现预定厚度分布的扫描速度调制配方。 本发明的方面包括精确测量源通量分布的实用方法，以及采用图形用户界面的计算机实现的方法，以促进方便地选择最佳或近似最佳的扫描速度调制配方以在衬底上实现期望的厚度分布。 优选地，计算机实现了一种算法，其中许多扫描速度函数参数（例如，每个基板绕其中心旋转，当其扫过源时的速度）可以被改变或设置为零。

公开(公告)号：WO2019068609A1

公开(公告)日：2019-04-11

申请号：PCT/EP2018/076583

申请日：2018-10-01

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： AL AHMAD, Nael

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/22 ,  B01D1/00

CPC classification number: C23C14/246 ,  B01D1/0082 ,  C23C14/228 ,  C23C14/543

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Erzeugen eines mit einem Trägergas (G) transportierten Dampfstroms (V) eines Stoffes, wobei der Stoff mit einer Fördereinrichtung (2), deren Förderleistung einstellbar ist, als Massenfluss eines Pulvers oder einer Flüssigkeit zu einem Aerosolerzeuger (7) gefördert wird, mit dem das Pulver oder die Flüssigkeit als Aerosolpartikel dem Trägergas (G) beigemischt wird und das so erzeugte Aerosol (A) einem Verdampfer (10) zugeführt wird, wo die Aerosolpartikel durch Wärmezufuhr verdampft werden, wobei mit zumindest die einem Sensorelement (22, 24, 26, 27) ein Messwert der mit dem Trägergas (G) transportierten Massenflusses des Stoffes verknüpft ist, ermittelt wird. Das Sensorelement (22, 24, 26, 27) ist derart ausgebildet und angeordnet ist, dass damit der Aerosolpartikeleintrag in den Verdampfer (10) ermittelt wird. Der Sensor ist bevorzugt zwischen Aerosolerzeuger (7) und einem Verdampfungskörper (11) des Verdampfers (10) angeordnet. Er kann auch ein Temperatursensor (22) sein, mit dem die Temperatur des Verdampfungskörpers (11) gemessen wird.

公开(公告)号：WO2015100984A1

公开(公告)日：2015-07-09

申请号：PCT/CN2014/080962

申请日：2014-06-27

Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司

Inventor： 张鑫狄 ,  李泳锐

IPC: C23C14/26 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/243 ,  C23C14/26 ,  C23C14/543

Abstract: 本发明公开了一种镀膜机坩埚设备。所述镀膜机坩埚设备(100)包括桶状结构(112)、多个加热器(120)、坩埚(110)、多个温度传感器(160)及多个驱动机构(200)，所述多个加热器(120)纵向分布在所述桶状结构(112)内并用于对所述坩埚(110)内的材料进行加热，所述多个温度传感器(160)纵向分布在所述坩埚(110)内以测量所述坩埚(110)内的温度，所述多个驱动机构(200) 用于使所述多个加热器(120)中的至少一个加热器(120)纵向移动以控制所述坩埚(110)内的温度分布，所述镀膜机坩埚设备可以通过改变加热器的纵向分布密度，控制坩埚的上下温度分布，进而控制蒸镀速率而使其稳定。

公开(公告)号：WO2013014410A1

公开(公告)日：2013-01-31

申请号：PCT/GB2012/000612

申请日：2012-07-23

Applicant: BOSTECH LTD ,  XU, Yongbing ,  WILL, Iain

Inventor： XU, Yongbing ,  WILL, Iain

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01J37/305

CPC classification number: C23C14/30 ,  C23C14/246 ,  C23C14/543 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3053 ,  H01J2237/30455

Abstract: An electron-beam evaporation apparatus having a source material feeder, for feeding a source material; an electron-beam evaporation source, for evaporating a said source material; means for generating an emission current between the electron-beam evaporation source and the said source material, an actuator for moving the source material feeder in a linear direction, and a controller operable to control the deposition of the source material relative to characteristics of the electron beam and measurements of the emission current.

Abstract translation: 一种电子束蒸发装置，具有用于供给源材料的源材料供给器; 用于蒸发所述源材料的电子束蒸发源; 用于在电子束蒸发源和所述源材料之间产生发射电流的装置，用于沿着线性方向移动源材料馈送器的致动器，以及用于控制源材料相对于电子特性的沉积的控制器 光束和发射电流的测量。