公开(公告)号：WO2018178423A3

公开(公告)日：2018-10-04

申请号：PCT/ES2018/000039

申请日：2018-04-02

Applicant: CENTRO TECNOLOGICO DE NANOMATERIALES AVANZADOS, S.L.

Inventor： MORA BARRIOS, Karla Daniela

IPC: C08G59/02 ,  C08G59/18 ,  C08F283/10 ,  C08K3/34 ,  C08K3/04 ,  B29C64/159 ,  B33Y70/00

Abstract: Composición de resina curable por radiación y procedimiento para su obtención apta para su uso en impresión 3D. Siendo el procedimiento para obtener los objetos tridimensionales mediante radiación por media de la impresión en 3D, tipo láser, DLP o LCD, a través de sucesivas capas fotopolimerizadas. La composición de resina curable por radiación comprende una o más resinas epoxi-acrilica y polimetimetacrilato, grafeno, nanotubos de halloysita y uno o más fotoiniciadores.

公开(公告)号：WO2022253487A1

公开(公告)日：2022-12-08

申请号：PCT/EP2022/059109

申请日：2022-04-06

Applicant: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT

Inventor： KRÜGER, Ursus ,  REHME, Olaf

IPC: C23C4/12 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00 ,  B22F10/00 ,  B29C64/159 ,  B29C70/28 ,  C23C4/08 ,  C23C24/04 ,  B22F10/20 ,  C22C47/04 ,  C22C49/02 ,  C22C49/14 ,  C23C24/08 ,  C23C24/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum zumindest abschnittsweisen Verstärken einer Struktur (1) durch eine faserverstärkte Matrix (24). Um die mechanischen und thermischen Eigenschaften von Strukturen lokal zu verbessern, insbesondere die thermo-mechanische Belastbarkeit zu erhöhen, werden die Schritte vorgeschlagen: - Bereitstellen der Struktur (1) mit einem zu verstärkenden Abschnitt (20), - Aufbringen von Fasern (22) auf den zu verstärkenden Abschnitt (20) und - Aufbringen der Matrix (24) mittels Kaltgasspritzen, sodass die Fasern in die Matrix (24) eingebettet werden und die Matrix an die Struktur, insbesondere stoffschlüssig, angebunden wird.

公开(公告)号：WO2020245230A1

公开(公告)日：2020-12-10

申请号：PCT/EP2020/065396

申请日：2020-06-03

Applicant: DANMARKS TEKNISKE UNIVERSITET ,  SLOVAK ACADEMY OF SCIENCES ,  FRIEDRICH-ALEXANDER UNIVERSITÄT ERLANGEN-NÜRNBERG

Inventor： PLAKHOTNYUK, Maksym ,  HANSEN, Ole ,  ANJA, Boisen ,  RINDZEVICIUS, Tomas ,  KUNDRATA, Ivan ,  FRÖHLICH, Karol ,  BACHMANN, Julien

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/455 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B29C64/159 ,  B29C64/209

Abstract: The invention relates to an atomic layer process printer for material deposition, etching and/or cleaning on an atomic scale in a selective area. The invention further relates to a method for material deposition, etching and/or cleaning on an atomic scale in a selective area using the atomic layer process printer.

公开(公告)号：WO2023006989A1

公开(公告)日：2023-02-02

申请号：PCT/EP2022/071430

申请日：2022-07-29

Applicant: UNIVERSITÄT DER BUNDESWEHR MÜNCHEN

Inventor： MÜLLER, Kilian ,  MELA, Petra ,  EBLENKAMP, Markus ,  NIESSEN, Nicolas ,  KÜHN-KAUFFELDT, Marina ,  KÜHN, Marvin

IPC: B29C64/118 ,  B29C64/236 ,  B29C64/159 ,  B29C64/364 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B22F12/00

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Objekts (102) mittels additiver Fertigung im Vakuum sowie eine Vorrichtung (100) zur Herstellung eines beschichteten Objekts. Das Verfahren umfasst das Ausbilden einer ersten Polymerschicht auf einem Werkstück und/oder auf einem Druckbett (106A). Eine erste Beschichtungsschicht wird auf zumindest einem Teil der ersten Polymerschicht mittels vakuumbasierter Gasphasenabscheidung ausgebildet. Eine zweite Polymerschicht wird auf zumindest einem Teil der ersten Polymerschicht und/oder der ersten Beschichtungsschicht ausgebildet, wobei die zweite Polymerschicht vor, während oder nach dem Ausbilden der ersten Beschichtungsschicht ausgebildet wird. Die erste Polymerschicht, die erste Beschichtungsschicht und die zweite Polymerschicht werden im Vakuum bei einem Gasdruck von weniger als 1 mbar ausgebildet.

公开(公告)号：WO2018059833A1

公开(公告)日：2018-04-05

申请号：PCT/EP2017/071039

申请日：2017-08-21

Applicant: AEROSINT SA

Inventor： BEDORET, Alexis ,  HICK, Matthias ,  ECKES, Kevin

IPC: B29C67/00 ,  B22F3/105 ,  B28B1/00 ,  B29C64/141 ,  B29C64/159 ,  B29C64/205 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00

Abstract: La présente demande concerne un dispositif (1) et une méthode pour manipuler des particules (3). Le dispositif (1) comprend un tamis (10) servant de support pour une structure (30) de particules (3) qui peut être sélectivement déposée sur un premier substrat (60). Le dispositif (1 ) peut être inclus dans un système d'impression tridimensio.

Abstract translation: 本申请涉及用于操纵颗粒（3）的装置（1）和方法。 该装置（1）包括用于支撑可以顺序地布置在第一基板（60）上的颗粒（3）的结构（30）的屏幕（10）。 设备（1）可以包含在三维打印系统中。

公开(公告)号：WO2023079030A2

公开(公告)日：2023-05-11

申请号：PCT/EP2022/080734

申请日：2022-11-03

Applicant: ATLANT 3D NANOSYSTEMS

Inventor： KUNDRATA, Ivan ,  WIESNER, Philipp ,  PLAKHOTNYUK, Maksym ,  BACHMANN, Julien ,  CARNOY, Matthias ,  FUNDING LA COUR, Mette

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/455 ,  B29C64/159 ,  B33Y10/00 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32

Abstract: The disclosure relates an atomic layer deposition and/or etching method comprising drawing, using a first precursor fluid, on a substrate a first line extending longitudinally and having, in lateral direction, a first linewidth, and drawing, using a second precursor fluid, on the substrate a second line extending longitudinally and having, in lateral direction, a second linewidth. The first and second lines partly overlap one another laterally by less than the first linewidth and the second linewidth, and/or the first and second lines are laterally spaced apart from one another by less than the first linewidth and the second linewidth, such that a first protrusion is formed of which a largest width in lateral direction is smaller than the first linewidth and the second linewidth, and/or a first recess is formed of which a largest width, in lateral direction, is smaller than the first linewidth and the second linewidth.

公开(公告)号：WO2022029377A1

公开(公告)日：2022-02-10

申请号：PCT/FR2021/051281

申请日：2021-07-09

Applicant: SAFRAN CERAMICS

Inventor： DELEHOUZE, Arnaud ,  BOUILLON, Eric ,  GOUJARD, Stéphane, Roger, André ,  MONTAUDON, Marc

IPC: B33Y10/00 ,  B29C64/159 ,  B29C64/268 ,  C04B35/01 ,  C04B35/524 ,  C04B35/56 ,  C04B35/571 ,  C04B35/58 ,  C04B35/628 ,  C04B35/80 ,  C23C16/32 ,  C23C16/46 ,  C23C16/48 ,  F01D5/00 ,  C04B38/00 ,  B22F5/009 ,  B22F5/04 ,  B33Y80/00 ,  C04B2111/00905 ,  C04B2235/5244 ,  C04B2235/5252 ,  C04B2235/5264 ,  C04B2235/6026 ,  C04B2235/614 ,  C04B35/62863 ,  C04B35/62868 ,  C04B35/62873 ,  C04B35/62884 ,  C04B35/78 ,  C04B38/0029 ,  C23C16/325 ,  C23C16/4418 ,  C23C16/483 ,  F01D5/147 ,  F01D5/28 ,  F01D5/282 ,  F01D5/284 ,  F05D2230/22 ,  F05D2230/234 ,  F05D2230/31 ,  F05D2230/314 ,  F05D2250/28 ,  F05D2250/313 ,  F05D2250/314 ,  F05D2300/2112 ,  F05D2300/224 ,  F05D2300/2261 ,  F05D2300/2282 ,  F05D2300/6033

Abstract: La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une structure par technique de fabrication additive mettant en œuvre un dépôt chimique en phase vapeur assisté par rayonnement énergétique focalisé, comprenant la formation d'un renfort qui comprend une pluralité d'éléments de renfort interconnectés en céramique ou en carbone qui définissent entre eux un volume interstitiel ayant une forme tortueuse le long dudit axe de dépôt.

公开(公告)号：WO2018209029A1

公开(公告)日：2018-11-15

申请号：PCT/US2018/031976

申请日：2018-05-10

Applicant: MARKFORGED, INC.

Inventor： MARK, Gregory, Thomas

IPC: B29C64/159 ,  B29C64/205 ,  B29C64/20 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y40/00

Abstract: Successive layers of a wall of a part are deposited to form a first access channel extending from an exterior of the part to an interior of the part, as well as to form a distribution channel connecting an interior volume of the honeycomb infill to the first access channel. A binder matrix retaining sinterable powder is debound by flowing a debinding fluid through the first access channel and the distribution channel within the interior volume of the honeycomb infill.