公开(公告)号：WO00032549A1

公开(公告)日：2000-06-08

申请号：PCT/EP1999/009060

申请日：1999-11-24

IPC: B01J31/02 ,  B01J31/40 ,  B01J38/60 ,  C01B17/45 ,  C07B61/00 ,  C07C51/58 ,  C07C53/40 ,  C07C53/46 ,  C07C211/05 ,  C07C211/07 ,  C07C53/18 ,  C07C211/03

CPC classification number: C01B17/4576 ,  C01B17/4561 ,  C07C51/58

Abstract: Acid fluorides, for example carboxylic acid fluorides and sulfuryl fluoride are produced by reacting the corresponding acid chlorides with hydrogen fluoride adducts of ammonium fluoride or amine hydrofluorides (which act as a catalyst or as a fluorination agent). Consumed HF adducts may be regenerated with HF.

Abstract translation: 酸氟化物，如羧酸氟化物和硫酰氟可通过用氟化铵或氢氟酸胺的氟化氢加合物的相应的酰基氯（这些行为作为催化剂或作为氟化剂）反应进行反应来制备。 消耗HF加合物可以与HF再生。

公开(公告)号：WO2010043162A1

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：PCT/CN2009/074383

申请日：2009-10-10

Applicant: 微宏动力系统(湖州)有限公司 ,  周小平 ,  李文生 ,  刘振 ,  徐杰夫

Inventor： 周小平 ,  李文生 ,  刘振 ,  徐杰夫

IPC: C07C17/35 ,  C07C51/087 ,  C07C51/00 ,  C07C19/075 ,  C07C53/08 ,  C07C53/40

CPC classification number: C07C51/58 ,  C07C17/154 ,  C07C51/04 ,  C07C67/08 ,  C07C19/075 ,  C07C53/08 ,  C07C53/40 ,  C07C69/14

公开(公告)号：WO03018552A3

公开(公告)日：2003-05-30

申请号：PCT/US0227953

申请日：2002-08-30

Applicant: PHARMACIA CORP ,  PHILLION DENNIS P

Inventor： PHILLION DENNIS P

IPC: C07C17/16 ,  C07C17/18 ,  C07C19/01 ,  C07C23/08 ,  C07C51/56 ,  C07C53/40 ,  C07C53/42 ,  C07C63/10 ,  C07C65/03 ,  C07C65/05 ,  C07C201/14 ,  C07C205/57 ,  C07C209/00 ,  C07C209/74 ,  C07C211/24 ,  C07C211/29 ,  C07C269/06 ,  C07C271/22 ,  C07C303/02 ,  C07C303/38 ,  C07C309/86 ,  C07C311/16 ,  C07D207/34 ,  C07D207/416 ,  C07D233/90 ,  C07D307/68 ,  C07D309/10 ,  C07D403/14 ,  C07F7/12 ,  C07F7/18 ,  C07F9/12 ,  C07F9/14 ,  C07F9/40 ,  C07F9/42 ,  C07F9/44 ,  C08F8/30

CPC classification number: C07D403/14 ,  C07B2200/11 ,  C07C17/16 ,  C07C205/57 ,  C07C209/74 ,  C07C269/06 ,  C07C303/02 ,  C07D207/34 ,  C07D233/90 ,  C07D307/68 ,  C07F9/12 ,  C07F9/1406 ,  C07F9/4015 ,  C07F9/4075 ,  C07F9/42 ,  C07F9/4465 ,  C08F8/30 ,  C07C211/24 ,  C07C271/22 ,  C07C309/86

Abstract: The present invention is directed to protected amino acid halide monomers and oligomers, and to their use in the efficient sythesis of polyamides. The present invention is further directed to the use of -haloenamine reagents, which may optionally be immobilized, for the preparation of the amino acid halides.

Abstract translation: 本发明涉及被保护的氨基酸卤化物单体和低聚物，并涉及它们在聚酰胺的有效合成中的用途。 本发明进一步涉及可任选地固定化的N-卤代苯胺试剂用于制备氨基酸卤化物的用途。

公开(公告)号：WO2005051880A3

公开(公告)日：2005-07-21

申请号：PCT/US2004038869

申请日：2004-11-19

Applicant: HONEYWELL INT INC ,  BELL ROBERT L ,  NALEWAJEK DAVID ,  BRADLEY DAVID E ,  DEMMIN TIMOTHY R

Inventor： BELL ROBERT L ,  NALEWAJEK DAVID ,  BRADLEY DAVID E ,  DEMMIN TIMOTHY R

IPC: C07C51/21 ,  C07C51/58 ,  C07C53/40

CPC classification number: C07C51/58 ,  C07C53/48

Abstract: The invention pertains to a process for preparing chlorodifluoroacetyl fluoride (CDAF) by oxidation of chlorotrifluoroethylene (CTFE) in a solvent using a continuously stirred tank reactor. It provides a process for the production of chlorodifluoroacetyl fluoride by comprises reacting a solvent solution of chlorotrifluoroethylene with oxygen in a reactor to form a product which comprises chlorodifluoroacetyl fluoride. The reacting may be conducted in a continuous or batch mode.

Abstract translation: 本发明涉及通过使用连续搅拌釜式反应器在溶剂中氧化三氟氯乙烯（CTFE）来制备氯二氟乙酰氟（CDAF）的方法。 它提供了一种生产氯二氟乙酰氟的方法，包括在反应器中使氯三氟乙烯的溶剂溶液与氧反应形成包含氯二氟乙酰氟的产物。 反应可以以连续或间歇的方式进行。

公开(公告)号：WO2011068039A1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：PCT/JP2010/070656

申请日：2010-11-19

Applicant: セントラル硝子株式会社 ,  高田 直門 ,  毛利 勇

Inventor： 高田　直門 ,  毛利　勇

IPC: C07C19/08 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3065 ,  C07C53/40

CPC classification number: C09K13/00 ,  C07C53/48 ,  C23F1/12 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116

Abstract: 開示されているのは、ＣＨＦ 2 ＣＯＦを含んでなるエッチングガスである。このエッチングガスは、Ｏ 2 、Ｏ 3 、ＣＯ、ＣＯ 2 、Ｆ 2 、ＮＦ 3 、Ｃｌ 2 、Ｂｒ 2 、Ｉ 2 、ＸＦ n （式中、ＸはＣｌ、ＩまたはＢｒを表し、ｎは１≦ｎ≦７の整数を表す。）、ＣＨ 4 、ＣＨ 3 Ｆ、ＣＨ 2 Ｆ 2 、ＣＨＦ 3 、Ｎ 2 、Ｈｅ、Ａｒ、Ｎｅ、Ｋｒなど、または、ＣＨ 4 、Ｃ 2 Ｈ 2 ，Ｃ 2 Ｈ 4 ，Ｃ 2 Ｈ 6 、Ｃ 3 Ｈ 4 、Ｃ 3 Ｈ 6 、Ｃ 3 Ｈ 8 、ＨＩ、ＨＢｒ、ＨＣｌ、ＣＯ、ＮＯ、ＮＨ 3 、Ｈ 2 など、または、ＣＨ 4 、ＣＨ 3 Ｆ、ＣＨ 2 Ｆ 2 、ＣＨＦ 3 の中から選ばれた少なくとも１種のガスを添加物として含んでもよい。このエッチングガスは、対レジスト選択比や加工形状のエッチング性能に優れるだけでなく、入手が容易で、環境に負荷をかけるＣＦ 4 を実質的に副生しない。

Abstract translation: 公开了含有CHF 2 COF的蚀刻气体。 蚀刻气体可以含有选自O 2，O 3，CO，CO 2，F 2，NF 3，Cl 2，Br 2，I 2，X F n中的至少一种气体作为添加剂（其中X为Cl，I或Br; n为 CH 4，C 2 H 2，C 2 H 4，C 2 H 6，C 3 H 4，C 3 H 6，C 3 H 8，C 4 H 4，C 4 H 6，C 3 H 8， HI，HBr，HCl，CO，NO，NH 3，H 2等，或从CH 4，CH 3 F，CH 2 F 2和CHF 3中。 作为副产物，蚀刻气体容易获得蚀刻选择性（基板与抗蚀剂的蚀刻速率比）和蚀刻轮廓等优异的蚀刻性能，并且基本上不产生CF4（这是环境负荷的原因）。