公开(公告)号：WO2021258473A1

公开(公告)日：2021-12-30

申请号：PCT/CN2020/103398

申请日：2020-07-22

Applicant: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司

Inventor： 马昆松

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/042 ,  C23C14/568

Abstract: 本发明提供一种蒸镀系统及蒸镀方法，通过在真空腔室中，将蒸镀源垂直设置，将多个基板设置在深蒸镀源的两侧，进而可以对两侧的基板进行蒸镀，可以提高生产节拍，降低生产成本，提高产品质量。

公开(公告)号：WO2021228390A1

公开(公告)日：2021-11-18

申请号：PCT/EP2020/063379

申请日：2020-05-13

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  EHMANN, Christian Wolfgang

Inventor： EHMANN, Christian Wolfgang

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/56 ,  C23C16/54 ,  C23C16/04 ,  C23C14/04 ,  B65G49/07 ,  C03B35/00 ,  H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  H01J37/32 ,  C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  H05B33/10 ,  B65G2249/02 ,  B65G49/061 ,  B65G49/064 ,  C23C14/042 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4587 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/67712

Abstract: A carrier transport system for transporting a carrier within a vacuum chamber is described. The carrier transport system includes a track assembly extending in a transport direction, the track assembly comprising: a first passive magnetic unit provided at a first vertical coordinate and extending in the transport direction, a second passive magnetic unit provided at a second vertical coordinate and extending in the transport direction, wherein the first passive magnetic unit and the second passive magnetic unit are configured to counteract the weight of the carrier; and a roller transportation track provided at a third vertical coordinate and comprising a plurality of rollers configured to support partial weight of the carrier, wherein a first vertical distance between the first vertical coordinate and the second vertical coordinate is larger than a second distance between the second vertical coordinate and the third vertical coordinate.

公开(公告)号：WO2021147705A1

公开(公告)日：2021-07-29

申请号：PCT/CN2021/071255

申请日：2021-01-12

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

Inventor： 郑勇 ,  杜帅 ,  丁文彪 ,  代俊秀 ,  高春燕

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/042

Abstract: 一种掩模板及其制备方法、掩模板组件。掩模板包括两个开孔区（2）和两个焊接区（4），两个开孔区（2）分别位于掩模图案区的沿第一方向（DR1）的不同侧，其中，一个焊接区（4）位于一个开孔区（2）的沿第一方向（DR1）远离掩模图案区的一侧，另一个焊接区（4）位于另一个开孔区（2）的沿第一方向（DR1）远离掩模图案区的一侧；掩模单元（1）内设置有多个蒸镀孔（1a），开孔区（2）内设置有多个缓冲孔（5），缓冲孔（5）在平行于掩模板所处平面的任意方向上的最大尺寸与蒸镀孔（1a）在该方向上的最大尺寸之比大于100，多个缓冲孔（5）沿第二方向（DR2）等间距分布，第二方向（DR2）位于掩模板所处平面且垂直于第一方向（DR1）。

公开(公告)号：WO2021122805A1

公开(公告)日：2021-06-24

申请号：PCT/EP2020/086504

申请日：2020-12-16

Applicant: OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON

Inventor： SIEBERT, Max ,  EGGEMANN, Jens ,  BECKER, Christian ,  MUELLER, Dieter

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/50 ,  C23C16/04 ,  C23C16/458 ,  B25B11/00 ,  B25J11/00 ,  B05B13/02 ,  B05C13/00 ,  B05B13/0207 ,  B05B13/0228 ,  B05B13/0242 ,  B05B13/0285 ,  C23C14/042 ,  C23C16/042 ,  C23C16/4587

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Haltesystem (1) zum Halten von Substraten (12) zur Verwendung in einer Oberflächenbearbeitungsanlage mit einem Abdeckbereich (20), umfassend eine Mehrzahl an Fixierelementen (2), einen innerhalb des Abdeckbereichs (20) angeordneten Körper (24) zur Aufnahme der Fixierelemente (2) und ein Positionierungselement (26) zur Einstellung des Abdeck- und eines Bearbeitungsbereiches (20, 22), wobei eine Mehrzahl von Substraten (12) durch die Fixierelemente (2) fixierbar und innerhalb des Bearbeitungsbereiches (22) bearbeitbar sind.

公开(公告)号：WO2022267228A1

公开(公告)日：2022-12-29

申请号：PCT/CN2021/117103

申请日：2021-09-08

Applicant: 浙江大学

Inventor： 谢丽娟 ,  王英力 ,  应义斌 ,  刘湘江 ,  李麟

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23C14/20 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C14/58 ,  G01N21/3586 ,  G01N21/65 ,  B32B15/04 ,  B32B15/16 ,  B32B3/10 ,  C23C14/0005 ,  C23C14/042 ,  C23C14/205

Abstract: 本发明公开了一种多波段可调多尺度超材料、制备方法和光谱检测方法。由从下到上依次层叠布置的拉伸层、非拉伸支撑层、金属层、纳米颗粒层构成，拉伸层为聚二甲基硅氧烷层，非拉伸支撑层为聚酰亚胺层，金属层为金层，纳米颗粒层为修饰有疏水基团的纳米颗粒层；硅片上先真空蒸镀氟硅烷，旋涂聚二甲基硅氧烷加热固化；等离子清洗后旋涂聚酰亚胺固化，溅射金，将修饰疏水基团的纳米颗粒在水面上自组装再转移到金属层上，按照图案刻蚀分离取下。本发明超材料可在多个波段实现可调谐的功能，能利用多波段的优势用于感知生物化学分子；该超材料还具有多尺度的特点，操作简便快速，适合多种检测需求。

公开(公告)号：WO2022011068A1

公开(公告)日：2022-01-13

申请号：PCT/US2021/040770

申请日：2021-07-08

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： FENG, Jiangwei ,  HART, Shandon Dee ,  KOCH III, Karl William ,  NELSON, Cameron Robert ,  SENARATNE, Wageesha ,  WOOD, William Allen

IPC: C03C17/23 ,  C03C15/00 ,  C03C17/3435 ,  C03C21/002 ,  C03C2204/08 ,  C03C2218/34 ,  C03C3/076 ,  C03C3/083 ,  C23C14/021 ,  C23C14/042 ,  C23C16/0227 ,  C23C16/042 ,  G02B1/11 ,  G02B1/118 ,  G02B1/14 ,  G02B2207/101 ,  G02B27/4205 ,  G02B27/4272 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0268

Abstract: A display article is described herein that includes: a substrate comprising a thickness and a primary surface; and the primary surface having defined thereon a diffractive surface region. The diffractive surface region comprises a plurality of structural features that comprises a plurality of different heights in a multimodal distribution. Further, the substrate exhibits a sparkle of less than 4%, as measured by pixel power deviation (PPD140) at an incident angle of 0˚ from normal, a distinctness of image (DOI) of less than 80% at an incident angle of 20˚ from normal, and a transmittance haze of less than 20% from an incident angle of 0˚ from normal.

公开(公告)号：WO2021254094A1

公开(公告)日：2021-12-23

申请号：PCT/CN2021/095158

申请日：2021-05-21

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 沈阔 ,  赵佳 ,  白珊珊 ,  王品凡

IPC: H01L27/32 ,  H01L51/00 ,  G09F9/33 ,  C23C14/04 ,  C23C14/042 ,  H01L27/3218 ,  H01L27/326 ,  H01L51/0097 ,  E10

Abstract: 一种显示基板、显示装置及掩膜版，显示基板具有可拉伸区域（Q1）；所述可拉伸区域（Q1）包括开口区（Q13）、桥区（Q12）和岛区（Q11）；其中，所述显示基板包括：基底；多个发光单元（D），每个所述发光单元（D）包括至少一种颜色的发光器件（1d）；每个所述岛区（Q11）上设置至少一个发光单元（D）；在所述可拉伸区域（Q1）未被拉伸时，所述多个发光单元（D）的发光中心非均匀排布，在所述可拉伸区域（Q1）被拉伸后，所述发光单元（D）的发光中心均匀排布。

公开(公告)号：WO2021218411A1

公开(公告)日：2021-11-04

申请号：PCT/CN2021/079861

申请日：2021-03-10

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

Inventor： 黎倩 ,  曾佳

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/042

Abstract: 本公开提供一种掩膜板及采用该掩膜板进行蒸镀的方法。该掩膜板包括：掩膜板本体，包括多个间隔分布的通孔，包括主孔和与主孔连通的延伸孔，主孔用于使蒸镀材料透过制成像素图形，延伸孔用于使蒸镀材料透过制成像素图形的连接图形；沿预设方向排列的相邻两个通孔，与待蒸镀基板需要制成的沿预设方向排列的相间隔的两个像素图形一一对应；掩膜板本体上，沿预设方向排列的相邻两个通孔之间的最小间隔距离，大于或等于像素图形在预设方向上的尺寸，小于或等于通孔在所述预设方向上的最大尺寸。采用该一个掩膜板可以制作待蒸镀基板上的像素图形和像素图形的连接图形，能够解决现有技术掩膜板进行图形化的材料蒸镀，存在工艺复杂和蒸镀机时浪费的问题。

公开(公告)号：WO2022028675A1

公开(公告)日：2022-02-10

申请号：PCT/EP2020/071880

申请日：2020-08-04

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  LONG, Michael

Inventor： LONG, Michael

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/56 ,  C23C16/455 ,  C23C14/042 ,  C23C14/541 ,  C23C14/562 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45578

Abstract: Embodiments described herein relate to a vapor source (100) for depositing an evaporated material on a substrate (10) in a vacuum chamber. The vapor source (100) includes a vapor distribution pipe (110) with a plurality of nozzles for directing the evaporated material toward the substrate, wherein at least one nozzle (120) of the plurality of nozzles includes a nozzle channel (121) extending along a nozzle axis (A) from a nozzle inlet (122) to an orifice (123), and a nozzle insert (130) with a heat shield portion (131) arranged centrally inside the nozzle channel (121) for reducing heat radiation from the nozzle channel through the orifice (123). Further described are a nozzle for directing the evaporated material toward the substrate, a vacuum deposition system (200), and a method for depositing an evaporated material on a substrate.

公开(公告)号：WO2022002385A1

公开(公告)日：2022-01-06

申请号：PCT/EP2020/068500

申请日：2020-07-01

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  KLEIN, Wolfgang ,  LINDENBERG, Ralph ,  SCHÜHLER, Klaus

Inventor： KLEIN, Wolfgang ,  LINDENBERG, Ralph ,  SCHÜHLER, Klaus

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/50 ,  C23C14/04 ,  C23C14/54 ,  C23C14/34 ,  H01L21/68 ,  H01L51/00 ,  H05B33/10 ,  H01L21/677 ,  C23C14/042 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/542 ,  C23C14/564 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/68721 ,  H01L21/68764

Abstract: An apparatus for material deposition is described. The apparatus includes a vacuum chamber having a processing area, a support body for holding a substrate within the vacuum chamber and a mask system configured to mask the substrate supported on the support body. The apparatus further includes a movable shield assembly within the vacuum chamber and a static shield assembly within the vacuum chamber at a fixed position relative to the vacuum chamber. A first actuator is coupled to the support body, the mask system, and the movable shield assembly in a processing orientation of the support body. The first actuator is configured to move the support body, the mask system, and the movable shield assembly between a first position and a second position.