发明授权
- 专利标题: 存储器单元阵列
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申请号: CN201810948208.4申请日: 2014-07-22
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公开(公告)号: CN109273444B公开(公告)日: 2023-06-27
- 发明人: 卡迈勒·M·考尔道 , 钱德拉·穆利 , 古尔特杰·S·桑胡
- 申请人: 美光科技公司
- 申请人地址: 美国爱达荷州
- 专利权人: 美光科技公司
- 当前专利权人: 美光科技公司
- 当前专利权人地址: 美国爱达荷州
- 代理机构: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 王龙
- 主分类号: H10B53/20
- IPC分类号: H10B53/20 ; H10B43/35 ; H10B43/20 ; H10B43/27 ; H10B51/00 ; H10B51/20 ; H10B51/30 ; H01L29/06 ; H01L29/10 ; H01L29/24 ; H01L29/423 ; H01L29/49 ; H01L29/51 ; H01L29/78 ; H01L29/786 ; H01L21/02 ; H01L21/28 ; H01L21/336 ; G11C11/22
摘要:
本发明揭示一种存储器单元阵列,其中个别所述存储器单元包括包括隔离芯的垂直铁电场效晶体管构造。过渡金属二硫属化物材料围绕所述隔离芯且具有1个单层到7个单层的侧向壁厚度。铁电栅极电介质材料围绕所述过渡金属二硫属化物材料。导电栅极材料围绕所述铁电栅极电介质材料。所述过渡金属二硫属化物材料从所述导电栅极材料立面向内及立面向外延伸。导电接触件直接抵靠所述过渡金属二硫属化物材料的侧向外侧壁,所述过渡金属二硫属化物材料为:a)从所述导电栅极材料立面向内,或b)从所述导电栅极材料立面向外。本发明还揭示额外实施例。
公开/授权文献
- CN109273444A 存储器单元阵列 公开/授权日:2019-01-25