公开(公告)号：CN118946978A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202280094169.0

申请日：2022-04-28

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 杨少伟 ,  田渊穰 ,  矢木直人 ,  袁建军 ,  孙晓 ,  赵伟 ,  郭健

IPC: H01M4/134 ,  H01M4/38 ,  H01M4/36

Abstract: 涉及含有钼的镁橄榄石颗粒。还涉及镁橄榄石颗粒的生产方法。该方法包括在钼化合物的存在下烧成镁化合物和硅或硅化合物。

公开(公告)号：CN103392221A

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN201280008915.6

申请日：2012-02-14

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 关根均 ,  高田泰广 ,  谷本尚志 ,  矢木直人

IPC: H01L21/027 ,  B29C59/02 ,  C08F290/06

CPC classification number: G03F7/0757 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F290/068 ,  C09D151/006 ,  G03F7/0002 ,  C08F222/1006

Abstract: 本发明提供一种用于按压纳米压印用模具来转印微细凹凸图案的“纳米压印”的、含有复合树脂的纳米压印用固化性组合物，所述复合树脂具有硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基及聚合性双键的聚硅氧烷链段、和该聚硅氧烷以外的聚合物链段。另外，提供使用该纳米压印组合物的纳米压印成形体、抗蚀膜、树脂模具和图案形成方法。

公开(公告)号：CN117678598A

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202311167783.8

申请日：2023-09-12

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 渡边孝典 ,  藤田幸介 ,  高榕辉 ,  中村厚 ,  河中俊介 ,  矢木直人 ,  袁建军

IPC: A01N25/08 ,  A01N59/16 ,  A01P1/00 ,  C09D133/08 ,  C09D5/14

Abstract: 提供抗菌抗病毒剂、涂布组合物、树脂组合物、涂布层和成形体。本发明的课题是提供能够表现出优异的抗菌抗病毒性且维持被处理体或成形体的美观性的抗菌抗病毒剂、涂布组合物、树脂组合物、涂布层和成形体。本发明的解决手段在于提供一种抗菌抗病毒剂，所述抗菌抗病毒剂具有二氧化硅颗粒和担载于前述二氧化硅颗粒的三氧化钼。通过荧光X射线(XRF)分析而获得的担载于前述二氧化硅颗粒的前述三氧化钼的含量按照氧化物换算计为1.5质量％以上。通过X射线光电子能谱法(XPS)而获得的担载于前述二氧化硅颗粒表面的前述三氧化钼的含量按照氧化物换算计为2.0质量％以上。

公开(公告)号：CN117042613A

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN202280023637.5

申请日：2022-03-22

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 高榕辉 ,  渡边孝典 ,  藤田幸介 ,  河中俊介 ,  中村厚 ,  矢木直人 ,  袁建军

IPC: A01N59/16

Abstract: 本发明涉及具有抗菌活性和/或抗病毒活性的抗菌抗病毒剂，其包含三氧化钼颗粒，上述三氧化钼颗粒的、通过BET法测定的比表面积为10m2/g以上。

公开(公告)号：CN107075017B

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201580056812.0

申请日：2015-10-06

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  矢木直人 ,  谷本尚志 ,  矢田真

IPC: C08F30/08 ,  C07F7/18 ,  C08F290/00 ,  C08F299/08 ,  H01L21/027 ,  C08G77/20

Abstract: 本发明的课题在于提供固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂的固化性组合物，提供含有该固化性组合物的抗蚀膜及层叠体、以及使用该抗蚀膜的图案形成方法。本发明通过提供如下的固化性组合物，从而解决了上述课题，所述固化性组合物含有多官能聚合性单体(A)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所述多官能聚合性单体(A)具备两个以上具有聚合性基团的基团，并且具备至少一个所述式(1)所示的具有聚合性基团的基团Q。

公开(公告)号：CN102933678A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201180028632.3

申请日：2011-05-24

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 兼松孝之 ,  矢木直人 ,  谷本尚志 ,  宍仓朋子

IPC: C09K3/10 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L31/042 ,  H01L33/52

CPC classification number: C09K3/1018 ,  C08G77/442 ,  C08L83/10 ,  H01L31/0481 ,  H01L2224/45144 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/49107 ,  H01L2924/181 ,  Y02E10/50 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/00012

Abstract: 发明提供封装材料、使用所述封装材料的太阳能电池组件及发光二极管，所述封装材料含有复合树脂（A）和多异氰酸酯（B），所述复合树脂（A）是具有通式（1）和/或通式（2）所示的结构单元以及硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基的聚硅氧烷链段（a1）、与具有醇性羟基的乙烯系聚合物链段（a2）通过通式（3）所示的键结合而成的树脂，所述聚硅氧烷链段（a1）的含有率相对于固化性树脂组合物的全部固体成分量为10~50重量%，并且多异氰酸酯（B）的含有率相对于固化性树脂组合物的全部固体成分量为5~50重量%。

公开(公告)号：CN119233949A

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202380040620.5

申请日：2023-05-25

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 田渊穰 ,  关根良辅 ,  矢木直人 ,  大道浩儿 ,  袁建军

IPC: C01G39/00 ,  B01J23/887 ,  B01J35/61 ,  B01J35/40 ,  B01J37/08 ,  C08K3/011 ,  C08K3/24 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有在制成树脂成形品时适合使用的粒子径、及镀敷结合性的氧化铜铬尖晶石、其树脂组合物、树脂成形品、及所述氧化铜铬尖晶石的制造方法。具体而言，提供一种氧化铜铬尖晶石，其特征在于，包含钼，D50为2.0μm以下。

公开(公告)号：CN118176161A

公开(公告)日：2024-06-11

申请号：CN202280071274.2

申请日：2022-11-08

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 村田秀之 ,  矢木直人 ,  饭田正纪 ,  今村彰志 ,  袁建军

IPC: C01B13/14 ,  C30B19/02 ,  C01F7/027 ,  C01F7/162

Abstract: 制造装置(1A)具备：第1气体导入部(20)，其设于焙烧炉(10)的一端部(10a)侧，向焙烧炉(10)内导入气体；气体排出部(30)，其设于焙烧炉(10)的另一端部(10b)侧，将焙烧炉(10)内的气体向外部排出；以及输送装置(40)，其将金属化合物和助熔剂从气体排出部(30)侧向第1气体导入部(20)侧输送。焙烧炉(10)具有升温区域(12A)、冷却区域(14A)、以及反应区域(13A)，该反应区域(13A)设置在升温区域(12A)与冷却区域(14A)之间且使金属化合物和助熔剂发生反应。在制造装置(1A)中，通过由从第1气体导入部(20)导入的气体产生的气流(AF1)，在冷却区域(14A)中对在反应区域(13A)气化的助熔剂进行粉体化，将包含粉体化的助熔剂的气体向气体排出部(30)送出。

公开(公告)号：CN114051508A

公开(公告)日：2022-02-15

申请号：CN202080048160.7

申请日：2020-06-08

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 岩楯展行 ,  矢木直人

IPC: C08G67/00

Abstract: 为具有下述通式(1‑1)、(2‑1)和(3‑1)所表示的重复单元的聚芳醚酮树脂。(式(1‑1)中，m1为1～3的任意整数。)(式(2‑1)中，m2为1～3的任意整数。)(式(3‑1)中，n为0～2的任意整数。)

公开(公告)号：CN107075017A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580056812.0

申请日：2015-10-06

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 伊部武史 ,  矢木直人 ,  谷本尚志 ,  矢田真

IPC: C08F30/08 ,  C07F7/18 ,  C08F290/00 ,  C08F299/08 ,  H01L21/027 ,  C08G77/20

Abstract: 本发明的课题在于提供固化后的清洗容易、耐干法蚀刻性高、能够制成精密图案的转印精度优异的抗蚀剂的固化性组合物，提供含有该固化性组合物的抗蚀膜及层叠体、以及使用该抗蚀膜的图案形成方法。本发明通过提供如下的固化性组合物，从而解决了上述课题，所述固化性组合物含有多官能聚合性单体(A)，且不挥发组分量中的硅原子的量为10wt％以上，所述多官能聚合性单体(A)具备两个以上具有聚合性基团的基团，并且具备至少一个所述式(1)所示的具有聚合性基团的基团Q。