一种铝基金刚石复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN118895435A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202411112729.8

    申请日:2024-08-14

    摘要: 本发明涉及金属基复合材料技术领域,且公开了一种铝基金刚石复合材料及其制备方法,具体包括:通过对铝金刚石复合材料的配方进行优化和改进,来调节铝基金刚石的热膨胀系数,并采用不同的金刚石颗粒级配,确保产品的致密程度;采用磁控溅射法对金刚石粉表面进行W/Re/Ir金属镀膜,提高金刚石粉的导电性和导热性,增强与铝基材料的粘附力;此外结合独特的快速热压烧结技术设计了铝金刚石复合材料的制备工艺,在烧结过程中引入直流电场辅助烧结,使材料的强度、刚度及耐腐蚀寿命得到明显改善;本发明制备的铝金刚石复合材料性能优良、寿命持久,可满足当代封装材料对于高散热、高强度的要求。

    一种低热膨胀系数覆铝陶瓷衬板的制备方法

    公开(公告)号:CN118835200A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410842395.3

    申请日:2024-06-27

    摘要: 本发明涉及半导体技术领域,具体是一种低热膨胀系数覆铝陶瓷衬板的制备方法。本发明的特点在于,通过真空微蒸发镀工艺对金刚石微粉进行金属化,得到金属化金刚石微粉。将金属化金刚石微粉和纯铝粉混合,通过冷喷工艺处理,在双面覆铝陶瓷衬板上形成铝金刚石复合层。将处理后的双面覆铝陶瓷衬板先进行预处理,再进行表面镀镍,形成一种表面镀层‑铝金刚石复合层‑双面覆铝陶瓷衬板‑铝金刚石复合层‑表面镀层的结构。本发明制备得到的成品与芯片的热膨胀系数具有良好的匹配性,同时具有良好的热导率;因此该成品具有良好的可靠性和热循环性能。

    一种曲面玻璃双层镀膜的工艺方法、设备及产品

    公开(公告)号:CN118835198A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410882937.X

    申请日:2024-07-03

    发明人: 覃桂伟 姜春军

    摘要: 本发明涉及真空镀膜领域,具体涉及一种曲面玻璃双层镀膜的工艺方法、设备及产品,工艺方法包括预处理、镀铌膜、过渡步骤、镀铬膜和后处理。双层镀膜设备包括上下两层,上层由依次连接的前粗抽室、前精抽一室、前精抽二室、前缓冲精抽室、铌靶镀膜室、过渡室、铬靶镀膜室、后缓冲室、后精抽室、后粗抽室组成;下层由上料台、下料台和传送滚轮组成。曲面玻璃产品使用双层镀膜的工艺方法制备而成。本发明只需两种材质的膜层就可以实现所需的工艺,膜层搭配数量少,工艺流程简单化,有利于降低制造成本;能够一次性完成双层镀膜的制备,提高生产效率,减少对曲面玻璃的重复操作,避免造成品质的损失。

    光学窗口的制作方法和光学装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118795736A

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202310417429.X

    申请日:2023-04-11

    摘要: 本申请公开一种光学窗口的制作方法和光学装置,包括:获取待镀覆金属的基板;在基板的一表面上涂覆光刻胶层,通过掩膜板对光刻胶层进行光刻,形成涂覆光刻胶层的非镀金属区域,其中掩膜板的图形与镀金属区域对应设置;对基板的一表面镀覆金属,形成金属层;去除光刻胶层以及位于非镀金属区域内的金属层,形成镀覆金属层的镀金属区域;非镀金属区域包括位于相邻的两个镀金属区域之间的预留切割道,基于预留切割道将基板切割为多个光学窗口。基于上述方式,通过光刻在基板上形成涂覆光刻胶层的非镀金属区域,镀覆金属后将光刻胶层和其表面的金属层去除,最后将基板切割为多个光学窗口,可以提高镀覆金属的效率,提高镀覆精度的一致性。

    一种m=2的非周期Ni/Ti中子超镜多层膜的制备方法

    公开(公告)号:CN118773542A

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202410759602.9

    申请日:2024-06-13

    摘要: 本发明公开了一种m=2的非周期Ni/Ti中子超镜多层膜的制备方法,使用离子束刻蚀对SiO2基片进行100s的刻蚀前处理,得预处理基片;在预处理基片上,于纯Ar气氛中溅射Ti层;在N2和Ar气氛中溅射Ni层;重复制备以上Ti层和NiNx层各120次,得到m=2的非周期Ni/Ti中子超镜多层膜。本发明提供的非周期Ni/Ti中子超镜多层膜制备方法可得到m=2的膜质量较好的中子超镜多层膜,该多层膜晶粒尺寸较小,成膜质量较优,表面粗糙度小。本发明提供的制备方法得到的非周期Ni/Ti中子超镜,比纯Ar制备的Ni/Ti中子超镜在大q区反射率更高。

    一种基于磁控溅射技术的陶瓷基板制造方法

    公开(公告)号:CN117778978B

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202410019972.9

    申请日:2024-01-06

    发明人: 陈佳明

    摘要: 本发明涉及应用于陶瓷基板镀膜技术领域的一种基于磁控溅射技术的陶瓷基板制造方法,通过双层靶材的设置,自带隐藏式的备用靶材,当溅射过程中需要更换时,无需开启镀膜机,通过速换机构可在镀膜机关闭的情况自动对外显靶片和内隐靶片进行快速换位,达到无需中断溅射过程,或者仅需中断很少的时间即可实现对靶材的更换,达到提高效率的效果,相较于现有技术,无需重新营造氩气气氛,既能有效降低对氩气的浪费,同时大幅度降低对陶瓷基板镀金属膜效率的影响;另外配合靶材监控组件的设置,可对双层靶材进行监控,便于及时进行外显靶片和内隐靶片的换位,进而有效维持陶瓷基板镀膜的高效进行。

    一种基于镓铝砷外延合金及其制备方法

    公开(公告)号:CN118745572A

    公开(公告)日:2024-10-08

    申请号:CN202410883945.6

    申请日:2024-07-03

    摘要: 本发明涉及一种基于镓铝砷外延合金及其制备方法,包括:镓铝砷外延层;第一氧化层,第一氧化层包括多个经一次光刻形成的第一窗口和第一凸块,第一窗口与所述第一凸块间隔分布;第一金属层;第二氧化层,第二氧化层包括多个经二次光刻形成的第二窗口和第二凸块,第二窗口与所述第二凸块间隔分布,第一窗口与第二窗口的垂直方向上错位排列;第二金属层。基于镓铝砷外延合金通过高致密性的氧化层去改善镓铝砷外延与金属层接触的合金方法,具有优良的金属与镓铝砷材料键合性能,改善金属层与外延层之间的欧姆接触,降低电极脱落的风险。