公开(公告)号：CN101122752A

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200710092202.3

申请日：2007-03-30

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 佐藤博明 ,  池田泰人 ,  森昌人

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题在于提供一种避免藉由对正而产生的基板的变形与破损的对正装置以及使用该对正装置的曝光装置。本发明的解决手段为：本发明的对正装置包括：一台座(2、3)，其保持二维平面的方形基板(W)，以正交于二维平面的轴为中心旋转，且于该二维平面内的第一方向上移动；一第一摄影装置(4a、4b)，其对配置于方形基板的一边的边缘的彼此分离的位置上的二个部位进行摄影，并输出二个部位的边缘影像；一第二摄影装置(4c)，其对与一边相交的另一边的边缘的一个部位进行摄影，并输出一个部位的另一边缘影像；一影像处理电路(100)，其对边缘影像及另一边缘影像进行影像处理；以及一控制部(20)，其根据影像处理装置的输出而控制台座。

公开(公告)号：CN101097407A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200710112531.X

申请日：2007-06-20

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 三好久司

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供描图系统，从而对应于基板等的被描图体的变形而适当地修正描图位置，形成精度佳的描图图案。在使用DMD等的光调变组件的描图装置中，使用CCD而量测四个对准孔的位置。然后，在维持从基准矩形(Z0)的一对边(TA1、TA2)及一对边(TB1、TB2)算起的距离比(m∶n及M∶N)的情况下，使描图资料的位置坐标，即描图位置相对于变形后的四角形(Z)的一对边(TA1、TA2)及一对边(TB1、TB2)而沿X、Y方向移动。

公开(公告)号：CN101063825A

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN200710091393.1

申请日：2007-03-30

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 佐藤仁 ,  中泽朗

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置和曝光方法。该曝光装置可将带子(6)的中央区域(17)与侧边区域(19)固定在曝光台(2)上。上述曝光装置每次将两侧形成有穿孔(20)的薄膜状的带子(6)的一块(21)输送至曝光台(2)，同时在曝光台(2)上按照每一块(21)对带子(6)进行曝光，曝光台(2)具有：设有中央吸引口(13)的中央部(22)，该中央吸引口作用第一吸气力吸引以穿孔(20)为边界而配置于内侧的带子(6)的中央区域(17)，吸引并吸附中央区域(17)；设有侧边吸引口(3)的侧边部(23)，该侧边吸引口作用比第一吸气力大的第二吸气力吸引以穿孔(20)为边界而配置于外侧的带子(6)的侧边区域(19)，吸引并吸附侧边区域(19)。

公开(公告)号：CN101047108A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710079177.5

申请日：2007-02-15

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦

IPC: H01J65/00

Abstract: 本发明提供一种长形灯容器。在长形的玻璃制准分子灯中，防止了灯的破损和照度降低。在该长形灯容器中，将长形的玻璃制圆筒形内管(1)和玻璃制圆筒形外管(2)呈同轴状地固定，并设置用于保持内管(1)使其不弯曲的保持材料(3)。保持材料(3)是与外管(2)材质相同的玻璃棒。当外管(2)的内径是d1、内管(1)的外径是d2时，保持材料(3)的长度大致是(d12－d22)1/2。保持材料在与轴正交的方向上固装在内管的外周圆筒面上。这样，即使是长形灯容器的准分子灯，内管也不会弯曲，能够确保本来的放电间隙。能够避免因灯的破损或破裂引起的不亮灯，也不会发生灯整体的照度的不均匀，能够确保长时间稳定的亮灯。

公开(公告)号：CN1959534A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200610143731.7

申请日：2006-11-03

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 剑持晴康 ,  佐藤博明 ,  池田泰人 ,  森昌人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可对应于在周边区域的任何位置上形成识别标记，并可使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置具有：紫外线照射单元(9)，其在移动路径上，从照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；和照射区域调节遮板机构(10)，其根据基板的移动速度，以遮盖照射口(9m)的至少一部分而对识别标记进行遮光的方式进行控制。

公开(公告)号：CN1912748A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200610115461.9

申请日：2006-08-10

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 森田亮

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 提供了曝光装置及曝光方法，基板与光罩薄膜的精度由温度及湿度的调整作业调整为相同，可与输送通路的影响及曝光装置内部的环境的变化对应地调整，且即使在具备预校准部的曝光装置中，也可在适当的位置进行温度及湿度的检测与供给。一种曝光装置(1)包括曝光部(20，40)，对基板(W)进行曝光处理，该基板(W)由设置在与保持光罩薄膜(M)的晒图框对置的位置上的曝光台(21)搬运；预校准部(10)，配置于该曝光部的正前方，通过推动上述基板的端面的推动销移动部(14b)进行预先定位，曝光装置(1)由温度调整装置(61A)、湿度调整装置(65A)、基板温度湿度检测装置(16)、光罩温度湿度检测装置(24)以及温度湿度控制装置(82)构成。

公开(公告)号：CN1284049C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200410048823.8

申请日：2004-06-04

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 屋木康彦 ,  薮慎太郎 ,  氏益稔

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置的曝光方法，能够通过短的步骤精度良好地进行基板与掩模的校准，并迅速地对基板整体进行曝光。其对具有校准标记的基板以及具有掩模标记并设有规定图案的掩模进行校准，在掩模密合于基板的状态下进行曝光，包括：以掩模标记为基础，求出掩模的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点MA、MB的步骤；以校准标记为基础，求出基板的一半区域以及整体的对角线彼此交叉所得到的分配点WA、WB的步骤；对分配点MB与分配点WB进行比较的比较步骤；通过比较步骤，判断分配点WB相对于分配点MB是否在容许范围内的判断步骤；以及在判断步骤判断在容许范围内时，将曝光光线照射于上述基板整体的步骤。

公开(公告)号：CN1841202A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610066090.X

申请日：2006-03-28

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 伊势胜 ,  水口信一郎

IPC: G03F7/20 ,  H05K3/00

Abstract: 一种曝光工作台，和能流畅地进行一系列作业且可提高基板品质的曝光装置，曝光工作台即使是较薄的基板也能够适当地吸附保持，且即使在基板周缘呈波浪状的状态下也能够进行保持，在基板的载置面因使用而磨损的情况下，也能以简单的结构进行更换等，保养作业性优良。该曝光工作台(7)包括：基板的载置板(8)；工作台主体(9)；设置在载置板上的多个吸附孔；连通通道，其形成于工作台主体并与吸附孔连通，吸附孔具有第一吸附孔(8a)和第二吸附孔(8b)，第二吸附孔形成为小于第一吸附孔的小孔(8b1)，并形成为将多个小孔相邻地集合起来的吸附孔群，吸附孔群沿着基板的周缘的纵边和横边的至少一方，按规定间隔配置在预先设定的位置上。

公开(公告)号：CN1828822A

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN200610064812.8

申请日：2002-12-06

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 见代修一 ,  石桥纪雄 ,  藤森昭芳

IPC: H01J61/35 ,  H01J5/08

Abstract: 本发明提供一种受激准分子灯，可防止受激准分子灯的双重管灯泡接合部由于紫外线而变脆。在受激准分子灯的有效发光部和接合部3之间的内管1和外管2的管体设有用于阻止紫外线的遮光部4。遮光部4是用于使吸收或散射紫外线的遮光村料分散的不透明石英玻璃或维科尔高硼硅酸耐热玻璃。本发明可对由于光纤效果而引起的紫外线向接合部3的集中进行抑制，并可防止在接合部3产生微裂纹。并且，在双重管灯泡的有效发光部以外的外表面上涂敷粘合材料等硬化剂5，从而可提高机械强度，并可抑制微裂纹的扩散。

公开(公告)号：CN1257437C

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN03156857.2

申请日：2003-09-10

Applicant: 株式会社ORC制作所

Inventor： 森田亮 ,  中沢朗

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G03B27/18 ,  H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70733 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70741

Abstract: 一种曝光设备，其包括：设置在加载/卸载位置与曝光位置之间处于不同高度的第一传送通道和第二传送通道；第一和第二工作台，其中之一设置在所述的加载/卸载位置，而另一个设置在所述的曝光位置；升降机构，其将所述第一和第二工作台的其中之一提升至所述的第一传送通道，并将所述第二和第一工作台中的另一个下降至所述的第二传送通道；和传送机构，其分别将所述的第一和第二工作台传送至所述的加载/卸载位置和曝光位置。所述的第一和第二工作台中的每一都具有其上设置有工件的载物台板和事先安装有掩模的透光板。