公开(公告)号：CN102362342B

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201080012833.X

申请日：2010-03-16

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 布莱恩·麦科米林 ,  约瑟·V·唐 ,  耶-库恩·维克特·王

IPC分类号： H01L21/687 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00 ,  H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/6833 ,  H01J37/32788 ,  H01L21/68742

摘要： 本发明提供了一种通过减少在衬底脱离期间电势峰值从ESC移走衬底的等离子体处理室的衬底脱离系统。

公开(公告)号：CN103053018A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201180037611.8

申请日：2011-08-11

申请人： TOTO株式会社

发明人： 石川佳津子 ,  米澤顺治 ,  青岛利裕

IPC分类号： H01L21/683 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC分类号： H02N13/00 ,  B23Q3/152 ,  H01L21/6833

摘要： 本发明提供一种静电吸盘，是具备电介体基板的静电吸盘，该电介体基板具有：突起部，形成在载放被吸附物侧的主面上；及平面部，形成在所述突起部的周围，其特征在于，所述电介体基板由多晶陶瓷烧结体形成，用激光显微镜求出的所述主面中的干涉条纹占有面积率小于1%。可以提供一种静电吸盘及静电吸盘的制造方法，可抑制产生颗粒。

公开(公告)号：CN102975030A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201110265550.2

申请日：2011-09-07

申请人： 陈玉争

发明人： 陈玉争 ,  张春定

IPC分类号： B23Q1/25 ,  B23Q1/26 ,  B23Q3/15

摘要： 本发明公开一种磁力工作台，包括：可生磁和消磁的磁力台和磁力台升降机构，所述磁力台升降机构的下端适于安装在工作台座上，所述磁力台升降机构上端与所述磁力台底部连接，以使所述磁力台受控性地上升或者下降。本发明的磁力工作台，可以根据需要将磁力台上升或下降，这样可以使磁力台的上表面与管板下表面达到最佳的吸附效果，提高了管板的抗震动性能，且操作起来较方便。在磁力台具有磁性时，可以将管板的上拱部向下拉平，还可以在磁力台消磁时，将磁力台上表面下沉至下极限位置以上、支柱顶端以下，用于躲避管板钻通孔时高速钻头的刀刃。

公开(公告)号：CN102922347A

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN201110230575.9

申请日：2011-08-12

申请人： 昆山广禾电子科技有限公司

发明人： 唐显喜 ,  张开友

IPC分类号： B23Q3/15

摘要： 本发明公开了一种磁力治具，包括第一、二动力件、滑轨和磁吸装置，第一动力件能够带动滑轨直线运动，不导磁材料制成的滑轨一侧面上设有能够将产品在该平面上止动定位的定位装置，滑轨内与定位装置所在位置覆盖对应的设有一空腔，该空腔内设有具有磁性的磁吸装置，第二动力件能够驱动磁吸装置沿滑轨运动方向直线运动，本发明通过直线运动的滑轨将产品送入或退出计算机数字控制加工中心的设定位置，通过磁铁的直线运动实现产品的固定和松开，定位速度快，节省工时，固定连接强度大，定位精准，产品不受压紧力作用，无变形，保证了加工精度。

公开(公告)号：CN102773535A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201210266156.5

申请日：2012-07-30

申请人： 天津长荣印刷设备股份有限公司

发明人： 赵军峰 ,  王立雷

IPC分类号： B23C3/16 ,  B23Q3/15

摘要： 一种数控设备加工工装，其特征在于它由左偏心转盘、右偏心转盘、磁力吸盘、三爪卡盘及铣刀构成；所述三爪卡盘固定偏心转盘右；所述磁力吸盘固定在偏心转盘左与偏心转盘右之间；所述磁力吸盘通电后产生磁力，吸附工件；与四轴数控设备主轴连接的刀柄卡住铣刀，驱动铣刀自转。工作方法：将一种数控设备加工工装与四轴数控设备的三爪卡盘装卡；将磁力吸盘的导线从其侧面圆孔中穿入，露在外面的导线不得对工件加工有阻碍；磁力吸盘通电，工件被吸附在磁力吸盘上执行数控程序，铣刀对工件进行铣削加工。优越性：工件加工方便，加工周期短，提高了工作效率；工件成型好各曲面衔接连贯流畅，工件一致性高，提高了产品生产质量，通用性程度高。

公开(公告)号：CN102473672A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080032793.5

申请日：2010-06-29

申请人： 朗姆研究公司

发明人： 汤姆·史蒂文森 ,  丹尼尔·比允 ,  绍拉·乌拉尔 ,  巴巴克·卡德库达彦 ,  拉金德·丁德萨

IPC分类号： H01L21/687 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC分类号： H01L21/68757 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/3255 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  H01L21/6875

摘要： 本发明提供了一种静电夹头组件，包括陶瓷接触层、图案化粘合层、导电底座和地下电弧缓解层。所述陶瓷接触层和所述导电底座共同配合来限定在所述静电夹头组件的地下部分形成的多个混合气体分配通路。所述混合气体分配通路中的各个混合气体分配通路包括由导电底座提供的相对较高的电导率的表面和由陶瓷接触层提供的相对较低的电导率的表面。所述地下电弧缓解层包括相对较低电导率的层，并且该地下电弧缓解层形成在所述静电夹头组件的所述地下部分中的所述混合气体分配通路的相对较高的电导率表面之上。也提供了半导体晶片处理室。

公开(公告)号：CN101335227B

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN200810129521.1

申请日：2008-06-30

申请人： 普莱克斯技术有限公司

发明人： M·奈姆

IPC分类号： H01L21/683 ,  C23C16/458 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00

CPC分类号： H02N13/00 ,  H01J2237/2007 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6875 ,  H01L21/68757 ,  Y10T279/23

摘要： 本发明涉及用于夹持工作基底的聚合物陶瓷E-吸盘，包括三层，其中非导电层的介电常数选择成为吸盘提供总体低的电容。在吸盘组件中，与基底例如晶片接触的顶部介电层具有大于约5的介电常数，大于约1E6ohm.m的电阻率；但底部介电层具有小于约5的介电常数，大于约1E10ohm.m的电阻率。中间层具有电阻率小于约1ohm.m的导电层。静电吸盘可粘附于涂敷抗电弧电介质的散热器。散热器也可用作RF电极。散热器可提供有冷却剂和气体槽道以将冷却气体供应到晶片背部。散热器可具有供给通路以对静电吸盘内的分段电极充电。供给通路、供气孔和提升销用的通道可用陶瓷或聚合物衬里以防止对散热器的任何放电。静电吸盘用于在半导体工具中夹持工作基底如Si、GaAs、SiO2等。

公开(公告)号：CN102160167A

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN200980136614.X

申请日：2009-08-06

申请人： 应用材料股份有限公司

发明人： 史蒂文·V·桑森尼 ,  蔡振雄 ,  夏姆胡·N·罗伊 ,  卡尔·M·布朗 ,  维杰·D·帕克 ,  哈里·K·庞内坎蒂

IPC分类号： H01L21/687 ,  B23Q3/15 ,  H02N13/00 ,  H01L21/68

CPC分类号： H01L21/6833 ,  H01J37/32431 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/68785 ,  H01L2924/0002 ,  H02N13/00 ,  H01L2924/00

摘要： 本发明的实施方式提供具有成本效益的静电吸盘组件，其能够在超高真空环境中在宽温度范围内操作，同时使静电吸盘组件内部的热机械应力最小化。在一实施方式中，该静电吸盘组件包含一介电主体，其具有夹持电极，该夹持电极包含一金属基质复合材料，该材料的热膨胀系数(CTE)与该介电主体的CTE匹配。

公开(公告)号：CN101035650B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200580028646.X

申请日：2005-08-23

申请人： SRB建筑技术有限公司

发明人： 史蒂文·吉罗托 ,  罗伯特·斯拉多耶维奇 ,  克雷格·德莱翁

IPC分类号： B25B11/00 ,  B25B5/16 ,  B23Q3/15

CPC分类号： B25B11/002 ,  B28B7/0017 ,  B28B7/002

摘要： 一种用于在预制混凝土制造中夹紧金属模板的磁性夹具(10)，该夹具包括外壳(12)。磁体(14)可移位地布置在该外壳(12)中。移位机构(18)可移位地布置在该外壳(12)上以关于外壳(12)移位磁体(14)。作用力放大机构(24)连接到磁体(14)，并且该作用力放大机构(24)的至少一部分置于该移位机构(18)和磁体(14)之间。

公开(公告)号：CN101379607B

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200780004585.2

申请日：2007-02-08

申请人： TOTO株式会社

发明人： 安藤正美 ,  宫地淳 ,  冈本修

IPC分类号： H01L21/683 ,  B23Q3/15 ,  C04B35/10 ,  H02N13/00

CPC分类号： H02N13/00 ,  C04B35/111 ,  C04B35/6455 ,  C04B2235/3232 ,  C04B2235/3234 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/6582 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/85 ,  C04B2235/963 ,  H01L21/6833

摘要： 本发明的课题是要提供曝露在等离子体过后，仍可以维持平滑的面，其结果是可以抑制对于硅片等的被吸附物所造成微粒的污染，且有优异的吸附、脱离被吸附体的特性，以低温烧成，容易进行制作的静电卡盘。本发明的静电卡盘是具备有氧化铝为99.4wt％以上、氧化钛为大于0.2wt％且0.6wt％以下、室温中体积电阻率为108～1011Ωcm、且氧化钛偏析至氧化铝粒子的粒界的结构的静电卡盘用电介体。