一种硅片缓冲装载装置
    121.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103217130B

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201210479223.1

    申请日:2012-11-22

    IPC分类号: G01B11/30 G01B11/24 G01N21/47

    摘要: 本发明公开了一种硅片缓冲装载装置,属于硅片样品光学测量技术领域。该装置包括硅片样品台和吸盘,吸盘与硅片样品台相配合,硅片样品台具有底座,还包括缓冲机构,缓冲机构连接于底座,缓冲机构包括接触平台和升降机构,接触平台固定连接于升降机构,接触平台在升降机构的带动下升降。该装置在对硅片样品进行装载时,机械手与硅片样品台能够实现任意装载,并且,装载过程简单、装载稳定。

    一种在线实时检测外延片生长的方法

    公开(公告)号:CN104697972A

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201310646667.4

    申请日:2013-12-04

    IPC分类号: G01N21/65 H01L21/66

    摘要: 本发明公开了一种在线实时检测外延片生长的方法,属于半导体材料制造设备技术领域。该方法根据各外延片对应的实时拉曼散射光谱数据,实时分析各外延片带隙、微结构、组分信息,并实时反馈各外延片的波长偏差,从而在线实时检测各外延片的生长信息。该方法参数易协调一致且实时检测数据量明显降低,应用本发明提供的在线实时检测外延片生长的方法能够减小外延片质量差及报废带来的损失。

    一种自校准的全穆勒矩阵椭圆偏振仪测量系统

    公开(公告)号:CN104677836A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201310611454.8

    申请日:2013-11-26

    IPC分类号: G01N21/21

    摘要: 本发明公开了一种自校准的全穆勒矩阵椭圆偏振仪测量系统,属于光学测量仪器技术领域。其包括光源、起偏器、第一相位补偿器、检偏器、第二相位补偿器、光谱仪、样品台和各向同性且均匀的参考样品,各向同性且均匀的参考样品能够置于样品台上,其特征在于,还包括光谱仪数据采集频率设定模块、光强数据采集模块、实验傅里叶系数运算模块、理论傅里叶系数运算模块、第一相位补偿器相位延迟量运算模块、第二相位补偿器相位延迟量运算模块和全穆勒矩阵椭圆偏振仪全部工作参数运算模块。应用该自校准的全穆勒矩阵椭圆偏振仪测量系统对待测样品进行测量时,校准过程简单,测量方便,并且测量结果更加准确。

    一种三维移动装置
    125.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104567663A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201310498667.4

    申请日:2013-10-22

    IPC分类号: G01B11/00

    摘要: 本发明公开了一种三维移动装置,属于光学测量技术领域。该装置包括底座、固定连接件、X方向移动平台、Y方向移动平台、限位板、升降机构和承载机构。该装置的升降机构受限于由固定连接件的第一通孔、X方向移动平台的第二通孔、Y方向移动平台的第三通孔和限位板的第四通孔形成的容置空间,操作X方向移动平台能够使该升降机构沿X方向移动,操作Y方向移动平台能够是该升降机构沿Y方向移动,该升降机构本身能够沿Z方向移动,因此,固定连接于该升降机构的承载机构能够分别沿XYZ三个方向移动到精确的测量位置。

    半导体薄膜反应腔辅助温度校准装置

    公开(公告)号:CN104089703A

    公开(公告)日:2014-10-08

    申请号:CN201410325405.2

    申请日:2014-07-09

    IPC分类号: G01J5/00 G01J5/54 H01L21/66

    摘要: 本发明公开了一种半导体薄膜反应腔辅助温度校准装置,属于半导体制造领域。该装置能够将光源的光强调节到P0,由于P0对应的黑体炉靶心的温度为T0,因此,可以将光源等效为一个温度为T0的热辐射源,此时,由温度探测装置探测到的光源透过狭缝窗口后光线的光强的最大值P0'等效为半导体薄膜反应腔内温度T0时的热辐射强度。应用该半导体薄膜反应腔辅助温度校准装置时,相当于在已知T0和P0'的条件下,对半导体薄膜反应腔的测温装置进行校准。因此,该光源能够模拟温度为T0时的黑体辐射P0',为半导体薄膜反应腔温度校准提供支持。

    利用反射光谱测量单晶硅基太阳能表面增透膜的方法

    公开(公告)号:CN103575703A

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201210281822.2

    申请日:2012-08-09

    IPC分类号: G01N21/47 G01B11/06

    摘要: 本发明公开一种利用反射光谱测量单晶硅基太阳能电池表面增透膜的方法,包括通过建模模拟计算分别得出包含增透膜的单晶硅基太阳能电池的总反射效率A与不包含增透膜的单晶硅基太阳能电池的总反射效率B;基于所述总反射效率A和所述总反射效率B求出单晶硅基太阳能电池的相对反射比率Rcal;测量包含增透膜的单晶硅基太阳能电池相对于不包含增透膜的单晶硅基太阳能电池的反射比率R;将所述Rcal与所述R比较,模型中设定增透膜厚度及增透膜材料的光学常数或光学常数物理模型的系数为变量,通过数值回归的曲线拟合过程,计算得出膜厚与材料光学常数。本发明提高了反射率测量方法测量硅基太阳能样品薄膜特征的准确度,拓展了光谱反射仪的应用领域,使测量硬件结构更加简单,成本更低。

    一种硅片缓冲装载装置
    128.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103217130A

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201210479223.1

    申请日:2012-11-22

    IPC分类号: G01B11/30 G01B11/24 G01N21/47

    摘要: 本发明公开了一种硅片缓冲装载装置,属于硅片样品光学测量技术领域。该装置包括硅片样品台和吸盘,吸盘与硅片样品台相配合,硅片样品台具有底座,还包括缓冲机构,缓冲机构连接于底座,缓冲机构包括接触平台和升降机构,接触平台固定连接于升降机构,接触平台在升降机构的带动下升降。该装置在对硅片样品进行装载时,机械手与硅片样品台能够实现任意装载,并且,装载过程简单、装载稳定。