光学无色差聚焦系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103575230B

    公开(公告)日:2017-10-31

    申请号:CN201210281504.6

    申请日:2012-08-09

    IPC分类号: G01B11/24 G01N21/21 G02B17/06

    摘要: 本申请涉及光学测量领域,特别涉及一种光学无色差聚焦系统。包括:第一曲面反射元件、第二曲面反射元件及第三曲面反射元件;所述第一曲面反射元件,接收由点光源发射出的光束,并将该光束变成平行光束;第二曲面反射元件,接收由第一曲面反射元件反射的所述平行光束;所述第三曲面反射元件,接收由所述第二曲面反射元件反射的平行光束,将其变成会聚光束并垂直入射至待测样品的表面;所述第一曲面反射元件、第二曲面反射元件及第三曲面反射元件构成交叉切尔尼‑特纳结构。本申请提供的光学无色差聚焦系统结构简单、价格低廉,光学测量时不会产生色差,并且可合理地改变入射光的传播方向,使其聚焦在样品表面,同时获得较为合适的工作距离。

    利用反射光谱测量硅基太阳能电池增透膜的方法

    公开(公告)号:CN103575223B

    公开(公告)日:2016-09-21

    申请号:CN201210281798.2

    申请日:2012-08-09

    IPC分类号: G01B11/06 G01N21/31

    摘要: 公开利用反射光谱测量硅基太阳能电池增透膜的方法,包括通过垂直入射测量包含增透膜的硅基太阳能电池的相对反射率R’,测量反射率R’时参考样品的已知的绝对反射率Rr,模拟计算包含增透膜的平滑的硅基薄膜的绝对反射率R,反射率中引入粗糙度系数α,α=M+Nλ。将所述R*α/Rr与所述反射率R’比较,模型中设定粗糙度系数中M及/或N、增透膜厚度及增透膜材料的光学常数或光学常数物理模型的系数为变量,通过数值回归的曲线拟合过程,计算得出膜厚与材料光学常数。本发明提高了反射率测量方法测量硅基太阳能样品薄膜特征的准确度,拓展了光谱反射仪的应用领域,使测量硬件结构更加简单,成本更低。

    一种外延片拉曼散射光谱数据生成方法

    公开(公告)号:CN104697973A

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201310648303.X

    申请日:2013-12-04

    IPC分类号: G01N21/65

    摘要: 本发明公开了一种外延片拉曼散射光谱数据生成方法,属于半导体材料制造设备技术领域。该方法在石墨盘旋转的情况下,通过控制采集数据的时间间隔及每个数据采集周期对应的起始外延片,可以使采集的数据遍历布设在石墨盘外周上的所有外延片,即得到布设在石墨盘外周上的所有外延片拉曼散射光谱数据,从而,本发明提供的外延片拉曼散射光谱数据生成方法能够连续、自动生成布设在石墨盘外周上的外延片拉曼散射光谱数据。

    一种自校准的全穆勒矩阵椭偏仪测量系统

    公开(公告)号:CN104677838A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201310624769.6

    申请日:2013-11-26

    IPC分类号: G01N21/21

    摘要: 本发明公开了一种自校准的全穆勒矩阵椭偏仪测量系统,属于光学测量仪器技术领域。其包括光源、起偏器、第一相位补偿器、检偏器、第二相位补偿器、光谱仪、样品台和各向同性且均匀的参考样品,各向同性且均匀的参考样品能够置于样品台上,还包括光谱仪数据采集频率设定模块、光强数据采集模块、实验傅里叶系数运算模块、理论傅里叶系数运算模块、第一相位补偿器相位延迟量运算模块、第二相位补偿器相位延迟量运算模块和全穆勒矩阵椭偏仪剩余工作参数运算模块。应用该自校准的全穆勒矩阵椭偏仪测量系统对待测样品进行测量时,测量结果更加准确。

    一种全穆勒矩阵椭圆偏振仪的校准方法

    公开(公告)号:CN104677835A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201310611433.6

    申请日:2013-11-26

    IPC分类号: G01N21/21 G01J4/00 G01B11/00

    摘要: 本发明公开了一种全穆勒矩阵椭圆偏振仪的校准方法,属于光学测量仪器技术领域。该方法借助各向同性且均匀的参考样品,将已经校准得到第一相位补偿器的初始偏振角Cs1、第二相位补偿器的初始偏振角Cs2、起偏器的偏振角Ps和检偏器的偏振角As,第一相位补偿器的相位延迟量δ1和第二相位补偿器的相位延迟量δ2作为初始值,通过理论傅里叶系数与工作参数之间的关系式,以(d,θ,Ps,As,Cs1,Cs2,δ1,δ2)为变量,通过最小二乘法拟合得到所述全穆勒矩阵椭圆偏振仪全部工作参数(d,θ,Ps,As,Cs1,Cs2,δ1,δ2)的准确值。该方法充分利用了全穆勒矩阵椭圆偏振仪同次测量数据,引入的误差相对较小,校准得到的参数更加准确。

    垂直入射宽带光谱仪
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102269622B

    公开(公告)日:2013-07-03

    申请号:CN201010270454.2

    申请日:2010-09-02

    摘要: 本发明提供一种垂直入射光谱仪。该垂直入射光谱仪包括光源、分光元件、聚光单元、第一平面反射元件和探测单元,其中:分光元件设置于聚光单元和探测单元之间的光路中,用于使来自光源的光束在入射至聚光单元之前部分地通过,以及接收从样品上反射的、且依次经过第一平面反射元件和聚光单元的光束并将该光束反射至探测单元;聚光单元用于通过分光元件接收来自光源的光束并使该光束变成会聚光束;第一平面反射元件用于接收会聚光束并将会聚光束反射后垂直地聚焦到样品上;以及探测单元用于探测从样品上反射的且依次经过第一平面反射元件、聚光单元和分光元件的光束。该垂直入射宽带光谱仪结构简单,不仅易于调节聚焦,还可实现无色差,且可保持探测光束偏振状态。

    包含参考光束的垂直入射光谱仪及光学测量系统

    公开(公告)号:CN103162830A

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201110427609.3

    申请日:2011-12-19

    IPC分类号: G01J3/42 G01J3/02

    摘要: 本发明公开了一种包含参考光束的垂直入射光谱仪,包括光源、光源聚光单元、第一反射单元、第一聚光单元、第二聚光单元、第二反射单元和探测单元。本发明提供的包含参考光束的垂直入射光谱仪利用由平面反射镜组成的平面反射单元,实现了分光及分光后的光束的重新结合,在提高光通效率的同时,系统的复杂程度比现有技术低。该垂直入射光谱仪能够精确地测量各向异性或非均匀样品,如多层材料的薄膜厚度与光学常数。本发明还公开了一种包括上述光谱仪的光学测量系统。

    近垂直入射宽带偏振光谱仪和光学测量系统

    公开(公告)号:CN103134591A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201110396390.5

    申请日:2011-12-02

    IPC分类号: G01J3/447 G01J3/02

    摘要: 本发明涉及一种易于调节聚焦的、无色差的、保持偏振特性的、信噪比优化的、且结构简单的近垂直入射宽带光谱仪。该宽带光谱仪通过一对曲面反射元件和平面反射元件实现聚焦和调焦,包含至少一个偏振器,能够高精度地测量样品材料的光学常数、薄膜厚度和/或用于分析周期性结构的样品的临界尺度(CD)或三维形貌;特别地,该宽带光谱仪通过采用近垂直入射,避免了分束结构的使用,提高光通量一倍以上。