结构体、显示元件、隔壁用图案及其形成方法

    公开(公告)号:CN117939914A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202311339880.0

    申请日:2023-10-17

    Inventor: 岩井武

    Abstract: 本发明涉及结构体、显示元件、隔壁用图案及其形成方法。课题是提供能够抑制蓝色光的杂散光导致的子像素间混色的在子像素的至少一部分中埋入颜色不同的发光体而得的显示元件的隔壁用图案、具备该隔壁用图案的结构体、具备该结构体的显示元件及隔壁用图案的形成方法。解决手段为隔壁用图案,其是在子像素的至少一部分中埋入颜色不同的发光体而得的显示元件的隔壁用图案,具备:透明基板;在透明基板上进行图案化而形成的、具有开口部的黑色矩阵;和设置于黑色矩阵上的隔壁,隔壁的光程长度10μm时的透过率在波长440nm~470nm的范围内为30%以下,在波长520nm~700nm的范围内为50%以上。

    组合物及感光性组合物
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117908327A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311343888.4

    申请日:2023-10-17

    Inventor: 菅原隆太郎

    Abstract: 本发明涉及组合物及感光性组合物。本发明的课题是提供即使被加热也不易发生组合物或感光性组合物中的成分(在组合物或感光性组合物包含溶剂的情况下,为溶剂以外的成分)的质量的过度减少、无机微粒在长期内稳定地分散的感光性组合物、该感光性组合物的固化物、优选配合于前述的感光性组合物中的化合物、和该化合物的制造方法。本发明的解决手段为:在包含光聚合性化合物(A)和无机微粒(B)的组合物或者包含光聚合性化合物(A)、无机微粒(B)和引发剂(C)的感光性组合物中,使用具有含有自由基聚合性基团的基团或含有阳离子聚合性基团的基团的特定结构的化合物作为光聚合性化合物(A)。

    清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法

    公开(公告)号:CN113462277B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202110344297.3

    申请日:2021-03-30

    Abstract: 本发明涉及清漆组合物、及聚酰亚胺树脂的制造方法。本发明提供能够形成表面高度平滑的聚酰亚胺树脂的清漆组合物、和使用该清漆组合物的聚酰亚胺树脂的制造方法。在含有聚酰胺酸的用于形成聚酰亚胺树脂的清漆组合物中,作为溶剂(S),配合在氮原子上键合有碳原子数3以上且7以下的烷基的N‑烷基‑2‑吡咯烷酮。作为N‑烷基‑2‑吡咯烷酮,优选N‑正丁基‑2‑吡咯烷酮。溶剂(S)优选包含特定结构的含氮化合物。

    固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法

    公开(公告)号:CN108957956B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN201810464330.4

    申请日:2018-05-15

    Abstract: 本发明涉及固化性组合物、固化物、固化膜、显示面板、及固化物的制造方法。本发明的课题在于提供:可形成折射率高、耐弯曲性优异的固化物的固化性组合物;该固化性组合物的固化物;由该固化物形成的固化膜;具有该固化膜的显示面板;以及,使用前述的固化性组合物的固化物的制造方法。本发明的技术手段是,在包含(A)固化性化合物和(C)固化剂的固化性组合物中,使(A)固化性化合物含有以包含芳香环的3个以上的环稠合而形成的稠环为主骨架的固化性化合物,并且,在所述固化性组合物中配合有(B)金属氧化物,在所述(B)金属氧化物的表面以共价键键合有封端剂。

    抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法

    公开(公告)号:CN116745699B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202180083350.7

    申请日:2021-11-19

    Abstract: 一种抗蚀剂组合物,含有基材成分(A)、产酸剂成分(B)、可光降解的碱(D0),可光降解的碱(D0)包含以通式(d0‑1)表示的化合物(D01)及以通式(d0‑2)表示的化合物(D02)。式中,Rd01为可具有取代基的链状或环状的脂肪族烃基。n01为1~10的整数。Rd02为具有氧原子(=O)的环状的脂肪族烃基。m为1以上的整数,Mm+为m价的有机阳离子。#imgabs0#

    保护膜形成剂、及半导体芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN112300637B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202010707712.2

    申请日:2020-07-21

    Inventor: 木下哲郎

    Abstract: 本发明涉及保护膜形成剂、及半导体芯片的制造方法。本发明的课题在于提供在半导体晶片的切割中、用于在半导体晶片的表面形成保护膜、且能够形成吸光系数高的保护膜的保护膜形成剂、和使用该保护膜形成剂的半导体芯片的制造方法。本发明的解决手段是在包含水溶性树脂(A)、吸光剂(B)和溶剂(S)的保护膜形成剂中,使用特定结构的化合物作为吸光剂(B)。保护膜形成剂中的吸光剂(B)的含量优选为0.1质量%以上且10质量%以下。

    感光性组合物及固化膜的形成方法

    公开(公告)号:CN107976867B

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN201710987198.0

    申请日:2017-10-20

    Abstract: 本发明涉及感光性组合物及固化膜的形成方法。本发明的课题在于提供感光性组合物中的异物产生被抑制、且能良好地解析微细的图案的感光性组合物、和使用了该感光性组合物的固化膜的形成方法。在包含碱溶性树脂(A)、光聚合性化合物(B)、光聚合引发剂(C)、和溶剂(S)的感光性组合物中配合胺(E),组合使用肟酯化合物(C1)和肟酯化合物以外的化合物(C2)作为光聚合引发剂(C),并且使感光性组合物中的氯化物离子量为1000质量ppm以下。

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