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公开(公告)号：CN104947064B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201510133979.4
申请日：2015-03-25
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/14 , H01L21/768
摘要： 本发明提供一种能够不形成核生成用的初始钨膜而以一个阶段成膜钨膜的钨膜的成膜方法。对被处理基板在减压气氛气下同时或交替供给作为钨原料的氯化钨气体和还原气体，一边对被处理基板进行加热一边使氯化钨气体和还原气体反应，在被处理基板的表面不成膜核生成用的初始钨膜而直接成膜主钨膜。
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公开(公告)号：CN105839068B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201610064286.9
申请日：2016-01-29
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/08 , C23C16/455 , H01L21/285
摘要： 本发明提供一种能够通过使用了WCl6气体作为原料气体的ALD法来以较高的生产率形成填埋性良好的钨膜的钨膜的成膜方法。在收容有被处理基板并被保持在减压气氛下的腔室内，利用ALD法在被处理基板的表面形成钨膜时，在供给氯化钨气体时，以ALD反应为主体的程度添加还原气体，在该ALD法中，以隔着腔室内的吹扫的方式交替地供给作为钨原料气体的氯化钨气体以及用于对氯化钨气体进行还原的还原气体。
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公开(公告)号：CN104947082B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201510142689.6
申请日：2015-03-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45557 , C23C16/08 , C23C16/4481 , C23C16/45544 , C23C16/52
摘要： 本发明以短时间且大流量供给由液体原料或固体原料生成的原料气体，并且避免原料的浪费。具备：收纳固体状或液体状的原料的原料容器(1)；在原料容器(1)中加热原料的加热器(2)；向原料容器(1)内供给载气的载气供给配管(3)；控制载气的流量的流量控制器(4)；向腔室(10)供给原料气体的原料气体供给配管(5)；设置于原料气体供给配管(5)的腔室(10)附近的原料气体供给·切断阀(6)；和气体供给控制器(8)，进行控制使得：控制流量控制器(4)，并且在关闭原料气体供给·切断阀(6)的状态下，通过流通载气，使原料容器(1)和原料气体供给配管(5)成为高压状态之后，打开原料气体供给·切断阀(6)。
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公开(公告)号：CN104947064A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510133979.4
申请日：2015-03-25
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/14 , H01L21/768
CPC分类号： H01L21/76879 , C23C16/08 , C23C16/14 , C23C16/455 , C23C16/45525 , C23C16/46 , H01L21/28556 , H01L21/28562 , H01L21/32051 , H01L21/76877
摘要： 本发明提供一种能够不形成核生成用的初始钨膜而以一个阶段成膜钨膜的钨膜的成膜方法。对被处理基板在减压气氛气下同时或交替供给作为钨原料的氯化钨气体和还原气体，一边对被处理基板进行加热一边使氯化钨气体和还原气体反应，在被处理基板的表面不成膜核生成用的初始钨膜而直接成膜主钨膜。
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公开(公告)号：CN115466941B
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202210609924.6
申请日：2022-05-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/67
摘要： 提供一种用于改善膜厚的面内分布的喷淋头及基板处理装置。该喷淋头包括：喷淋板；基座部件，设置有气体流路，并对所述喷淋板进行固定；以及多个气体供给部件，布置在形成于所述喷淋板与所述基座部件之间的气体扩散空间中，并与所述气体流路连接，其中，所述气体供给部件具有用于沿放射方向喷出气体的多个喷出口，从多个所述气体供给部件的喷出口喷出的气体形成旋流。
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公开(公告)号：CN115466942B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202210625595.4
申请日：2022-06-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/52 , H01L21/3205
摘要： 本发明提供一种改善膜厚的面内分布的喷淋头和基板处理装置。该喷淋头包括:喷淋板；基座部件,其设有气体流路,用于固定上述喷淋板；多个气体供给部件,其配置于在上述喷淋板和上述基座部件之间形成的气体扩散空间内,并且与上述气体流路连接；以及整流板,其配置于上述气体扩散空间内,并且配置于比上述气体供给部件靠外周部。
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公开(公告)号：CN115466942A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210625595.4
申请日：2022-06-02
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/52 , H01L21/3205
摘要： 本发明提供一种改善膜厚的面内分布的喷淋头和基板处理装置。该喷淋头包括:喷淋板；基座部件,其设有气体流路,用于固定上述喷淋板；多个气体供给部件,其配置于在上述喷淋板和上述基座部件之间形成的气体扩散空间内,并且与上述气体流路连接；以及整流板,其配置于上述气体扩散空间内,并且配置于比上述气体供给部件靠外周部。
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公开(公告)号：CN106191815A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610364429.8
申请日：2016-05-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/14
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/14 , C23C16/45527 , H01L21/28562 , H01L21/76877 , H01L27/11582 , C23C16/45523
摘要： 本发明提供一种金属膜的成膜方法。在使用氯化物原料在具有复杂形状部分和平坦形状部分的被处理基板上形成金属膜的情况下，能够在任何部分都形成膜。在该金属膜的成膜方法中，隔着被保持在减压气氛下的腔室内的吹扫，在按顺序向腔室内供给作为原料气体的金属氯化物气体以及对金属氯化物进行还原的还原气体而在配置于所述腔室内的具有复杂形状部分和平坦形状部分的被处理基板形成金属膜时，交替地实施相对地减少金属氯化物原料的供给量而形成第一金属膜的工序和相对地增多金属氯化物原料的供给量而形成第二金属膜的工序。
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公开(公告)号：CN104947065A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510142640.0
申请日：2015-03-27
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/14
CPC分类号： H01L21/76883 , H01L21/28556 , H01L21/28562 , H01L21/32135 , H01L21/76877 , H01L21/76879 , H01L23/53257 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 本发明不使工序变得繁杂且即使微细化也不对基底产生恶劣影响，并且以高生产量形成消除了埋入部分的孔隙或接缝的钨膜。在腔室内配置具有孔的晶片，同时或交替供给WCl6气体和H2气体，将晶片加热并使这些气体反应，在孔内形成钨的埋入部(步骤1)，接着，向腔室内供给WCl6气体，对埋入部的上部进行蚀刻，形成开口(步骤2)，接着，向腔室内同时或交替供给WCl6气体和还原气体，将晶片加热并使WCl6气体和还原气体反应，对具有形成有开口的埋入部的晶片形成钨膜(步骤3)。
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公开(公告)号：CN115466941A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210609924.6
申请日：2022-05-31
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/14 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/67
摘要： 提供一种用于改善膜厚的面内分布的喷淋头及基板处理装置。该喷淋头包括：喷淋板；基座部件，设置有气体流路，并对所述喷淋板进行固定；以及多个气体供给部件，布置在形成于所述喷淋板与所述基座部件之间的气体扩散空间中，并与所述气体流路连接，其中，所述气体供给部件具有用于沿放射方向喷出气体的多个喷出口，从多个所述气体供给部件的喷出口喷出的气体形成旋流。
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