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公开(公告)号：CN114830313A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080087669.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/027 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及用于处置和均匀烘烤基板的烘烤设备以及用于处置和均匀烘烤基板的方法。烘烤设备允许将基板加热到大于50℃的温度，而没有从基板的边缘到基板的中心的约1mm至约2mm的弯曲。烘烤设备均匀地或实质均匀地加热基板以改善基板品质。
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公开(公告)号：CN113924517B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202080041362.9
申请日：2020-04-27
Applicant: 应用材料公司
IPC: H04N23/16 , H04N23/55 , H04N23/951 , H04N23/957 , H04N5/265 , H04N23/84 , G02B13/00 , G02B5/04 , G02B27/00
Abstract: 本案提供生成复合影像的成像系统及方法。所述成像系统包括耦合至传感器的一或更多个透镜组件。当来自物体的反射光进入所述成像系统时，在超透镜滤光系统上的入射光生成经过滤的光，经过滤的光被对应的传感器转成复合影像。各超透镜滤光系统将光聚焦于特定波长中，从而生成超透镜影像。这些超透镜影像被发送至处理器，其中所述处理器将超透镜影像结合成为一或更多个复合影像。超透镜影像被结合成复合影像，而所述复合影像具有减少的色差。
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公开(公告)号：CN114945870B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202080092787.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 罗伯特·简·维瑟 , 卢多维克·戈代
Abstract: 本公开内容的实施方式关于用于在光源的传播方向上定位掩模的方法。掩模对应于待写入基板的光刻胶层中的图案。通过拼接第一掩模和第二掩模来定位掩模。第一掩模包括一组第一特征，第一特征具有在第一特征界面处从第一特征延伸的第一特征延伸部分。第二掩模包括一组第二特征，第二特征具有在第二特征界面处从第二特征延伸的第二特征延伸部分。每个第一特征延伸部分与每个对应的第二特征延伸部分拼接，以形成第一对掩模的第一拼接部分的每个拼接部分。第一对掩模的拼接部分限定了要写入光刻胶层中的图案的一部分。
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公开(公告)号：CN116635787A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202180086387.5
申请日：2021-11-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 本公开内容总体涉及形成光学装置的方法，所述光学装置包含设置在透明基板上的纳米结构。一种形成纳米结构的第一工艺包含在玻璃基板上沉积第一材料的第一层；在所述第一层中形成一或多个沟槽；和在一或多个孔至沟槽中沉积第二材料的第二层，交替的第一材料的第一部分和第二材料的第二部分的第一交替层。将第一工艺重复一或多次，以在第一交替层之上形成额外的交替层。每个交替层的每个第一部分设置成与相邻交替层中的相邻第一部分接触并且从所述相邻第一部分偏移一段距离。第二工艺包含从每个交替层移除第一部分或第二部分以形成多个纳米结构。
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公开(公告)号：CN115176205A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202180016687.6
申请日：2021-01-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/20 , G03F7/09 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/308
Abstract: 本公开内容的多个方面一般涉及处理诸如玻璃基板等透明基板的方法和设备。在一个实施方式中，用于光学组件的膜堆叠物包括玻璃基板，玻璃基板包括第一表面和第二表面。膜堆叠物包括：形成于第一表面上的组件功能层；形成于组件功能层上的硬模层；和形成于硬模层上的基板识别层。硬模层包括铬、钌或氮化钛中的一种或多种。膜堆叠物包括：形成于第二表面上的背侧层。形成于第二表面上的背侧层包括导电层或氧化物层中的一个或多个。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114945870A
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202080092787.2
申请日：2020-12-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 罗伯特·简·维瑟 , 卢多维克·戈代
Abstract: 本公开内容的实施方式关于用于在光源的传播方向上定位掩模的方法。掩模对应于待写入基板的光刻胶层中的图案。通过拼接第一掩模和第二掩模来定位掩模。第一掩模包括一组第一特征，第一特征具有在第一特征界面处从第一特征延伸的第一特征延伸部分。第二掩模包括一组第二特征，第二特征具有在第二特征界面处从第二特征延伸的第二特征延伸部分。每个第一特征延伸部分与每个对应的第二特征延伸部分拼接，以形成第一对掩模的第一拼接部分的每个拼接部分。第一对掩模的拼接部分限定了要写入光刻胶层中的图案的一部分。
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公开(公告)号：CN114930253A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202080090426.4
申请日：2020-12-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 郭津睿 , 卢多维克·戈代
Abstract: 提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括以下步骤：将布置在掩模布局中的多个掩模定位在基板上方。基板定位在第一平面中，且多个掩模定位在第二平面中，掩模布局中的多个掩模具有多个边缘，多个边缘各自平行于第一平面且平行或垂直于基板上的对准特征延伸，基板包括多个分区，多个分区被配置为被引导通过布置在掩模布局中的掩模的能量图案化。该方法进一步包括以下步骤：通过基板上方的掩模布局中布置的多个掩模向多个分区引导能量，以在多个分区的各者中形成多个图案化特征。
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公开(公告)号：CN114556409A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071132.7
申请日：2020-09-14
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容之实施方式包括裸片系统与比较对准向量的方法。该裸片系统包括以期望图案排列的多个裸片。能够从该裸片的边缘特征确定对准向量，诸如裸片向量。这些对准向量能够与相同系统中的其他裸片或裸片图案比较。一种比较裸片与裸片图案的方法包括：比较裸片向量和/或图案向量。对准向量之间的比较允许为下一轮的处理固定裸片图案。所提供的方法允许刚沉积的边缘特征之间的准确比较，使得能够实现准确的裸片拼接。
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公开(公告)号：CN113924517A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202080041362.9
申请日：2020-04-27
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本案提供生成复合影像的成像系统及方法。所述成像系统包括耦合至传感器的一或更多个透镜组件。当来自物体的反射光进入所述成像系统时，在超透镜滤光系统上的入射光生成经过滤的光，经过滤的光被对应的传感器转成复合影像。各超透镜滤光系统将光聚焦于特定波长中，从而生成超透镜影像。这些超透镜影像被发送至处理器，其中所述处理器将超透镜影像结合成为一或更多个复合影像。超透镜影像被结合成复合影像，而所述复合影像具有减少的色差。
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公开(公告)号：CN113677825A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027992.0
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
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