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公开(公告)号：CN111240102B
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202010199285.1
申请日：2015-08-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13363 , G02B5/30 , C09D201/00 , C09D133/14 , C09D7/40
Abstract: 本发明的课题在于提供一种固化膜形成用组合物，所述固化膜形成用组合物用于提供具有优异的垂直取向性和密合性、即使在树脂膜上也能以高灵敏度使聚合性液晶垂直取向的取向材料、和使用了这样的取向材料的相位差材料。其解决手段是：固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有垂直取向性基团和能够热交联的官能团的聚合物、(B)交联剂、以及(C)密合促进剂和(D)具有热交联性基团的聚合物中的任意一者或两者；取向材料，其特征在于，是使用该组合物得到的；相位差材料，其特征在于，是使用该组合物得到的。
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公开(公告)号：CN106604973B
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201580046083.0
申请日：2015-08-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C09D201/00 , C09D7/63 , C09D133/14 , G02B5/30 , G02F1/13363 , G02F1/1337
Abstract: 本发明的课题在于提供一种固化膜形成用组合物，所述固化膜形成用组合物用于提供具有优异的垂直取向性和密合性、即使在树脂膜上也能以高灵敏度使聚合性液晶垂直取向的取向材料、和使用了这样的取向材料的相位差材料。其解决手段是：固化膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有垂直取向性基团和能够热交联的官能团的聚合物、(B)交联剂、以及(C)密合促进剂和(D)具有热交联性基团的聚合物中的任意一者或两者；取向材料，其特征在于，是使用该组合物得到的；相位差材料，其特征在于，是使用该组合物得到的。
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公开(公告)号：CN106062009B
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201580011005.7
申请日：2015-02-27
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08F2/44 , C08F265/04 , G02B5/30 , G02F1/1337
CPC classification number: C09D4/06 , C08F220/20 , C08F220/36 , C08F251/02 , C08F265/04 , C08F265/06 , C08F283/02 , C08F285/00 , C08F2222/1013 , C08F2222/1026 , C09K19/062 , C09K19/2028 , C09K19/22 , C09K19/56 , C09K2019/0444 , C09K2019/0448 , C09K2019/2035 , G02B1/04 , G02B1/08 , G02B5/3016 , G02B5/3083 , G02F1/133788
Abstract: 本发明的课题是提供一种适于形成具有优异的液晶取向性的固化膜的固化膜形成用组合物。解决手段是一种固化膜形成用组合物、以及使用该固化膜形成用组合物而形成的取向材料或相位差材料，所述固化膜形成用组合物含有以下成分：(A)成分：一种或多种具有包含光取向性部位及热反应性部位的基团和聚合性基团的单体、(B)成分：选自下述(B‑1)～(B‑3)中的至少一种聚合物[(B‑1)：具有至少2个选自羟基、羧基、酰胺基、氨基、烷氧基甲硅烷基及下述式(2)表示的基团中的至少一种基团的聚合物、(B‑2)：能够与(A)成分的热反应性部位进行热反应且能够自交联的聚合物、及(B‑3)：三聚氰胺甲醛树脂]、以及(C)交联剂。
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公开(公告)号：CN107532006A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680028417.6
申请日：2016-04-12
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L101/06 , C08K5/053 , C08K5/42 , C08L33/06 , C09D133/14 , C09D201/00 , G02B5/30
CPC classification number: C08K5/053 , C08K5/42 , C08L33/06 , C08L101/06 , C09D133/14 , C09D201/00 , G02B5/30
Abstract: 例如含有(A)具有由下述式(1)表示的液晶性侧链、例如由下述式(2)表示的垂直取向性基团和热交联性基团的聚合物、(B)交联剂和(C)溶剂的热固化性树脂组合物即使不使用垂直取向膜也可垂直取向，同时给予白浊(透明性)、表面粘性得到了改善的热固化膜、垂直取向相位差膜。(式中，Y1～Y4表示单键等，Y5表示苯环等，m表示0～4的整数，Y6表示氢原子、碳原子数1～18烷基等，Y2～Y6表示的取代基的总碳原子数为6～30。X表示COO基或OCO基，R表示氟原子、氰基、碳原子数1～6的烷基或碳原子数1～6的烷氧基，n表示1～10的整数，o和p表示1或2的整数)。
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公开(公告)号：CN103748517B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201280038944.7
申请日：2012-08-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G77/28 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , C07F7/1804 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L21/0276 , H01L21/31133
Abstract: 一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其中，含有作为硅烷的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物，该硅烷为下述式（1）所示的化合物，〔(R1)aSi(R2)(3‑a)〕b(R3) 式（1） 式（1）中，R3表示含有磺酰基和吸光基、以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R1是烷基、芳基、芳烷基、卤代烷基、卤代芳基、卤代芳烷基、链烯基、或具有环氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、巯基、烷氧基芳基、酰基氧基芳基、异氰脲酸酯基、羟基、环状氨基或氰基的有机基团、或它们的组合，其表示以Si‑C键与Si原子键合的有机基团，R2表示烷氧基、酰基氧基或卤素基，a表示0～2的整数，b表示1～3的整数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104081282A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201380007256.9
申请日：2013-01-23
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , C08G77/80 , C09D183/04 , G03F7/0752 , G03F7/11 , H01L21/3081
Abstract: 本发明的课题是提供在将抗蚀剂曝光后，用有机溶剂显影来形成抗蚀剂图案方面良好的抗蚀剂下层膜。作为解决本发明课题的方法涉及一种半导体装置的制造方法，其包括下述工序：工序(A)，将形成抗蚀剂下层膜的组合物涂布在基板上，进行烘烤来形成抗蚀剂下层膜，所述形成抗蚀剂下层膜的组合物包含水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的组合，该水解性硅烷为下述式(1)所示的硅烷、式(2)所示的硅烷和式(3)所示的硅烷，在全部硅烷中以摩尔％计下述式(1)所示的硅烷:下述式(2)所示的硅烷:下述式(3)所示的硅烷为45～90:6～20:0～35的比例含有各硅烷；工序(B)，在上述下层膜上涂布抗蚀剂用组合物，形成抗蚀剂膜；工序(C)，将上述抗蚀剂膜进行曝光；工序(D)，曝光后将抗蚀剂膜用有机溶剂显影，获得被图案化了的抗蚀剂膜；和工序(E)，利用被图案化了的抗蚀剂膜对上述抗蚀剂下层膜进行蚀刻，利用被图案化了的抗蚀剂下层膜对基板进行加工。Si(R1)4 式(1)，R2[Si(R3)3]a 式(2)，R4[Si(R5)3]b 式(3)。
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公开(公告)号：CN102498440A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041030.7
申请日：2010-09-07
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G77/28 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: C08G77/04 , C08G77/28 , C09D183/08 , G03F7/0751 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094
Abstract: 本发明的课题是提供用于形成可以作为硬掩模使用的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。用于解决本发明课题的方法是包含具有磺酰胺基的硅烷化合物的形成抗蚀剂下层膜的组合物，该具有磺酰胺基的硅烷化合物是分子内具有磺酰胺基的水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。用于解决本发明课题的方法是包含具有磺酰胺基的硅烷化合物和不具有磺酰胺基的硅烷化合物的组合物，在该硅烷化合物整体中，具有磺酰胺基的硅烷化合物以低于1摩尔％，例如0.1～0.95摩尔％的比例存在。
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公开(公告)号：CN101946209A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105535.2
申请日：2009-02-16
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G77/26 , C08G77/388 , C08L83/08 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/11 , C08G77/26 , C08G77/80 , C08L83/08 , G03F7/0752
Abstract: 本发明的课题在于提供用于形成可以用作硬掩模的抗蚀剂下层膜的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。本发明通过提供下述组合物而解决了上述课题，即，一种形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物，是作为硅烷含有水解性有机硅烷、其水解物或其水解缩合物的组合物，该硅烷全体中、具有环状氨基的硅烷以小于1摩尔％的比例存在，优选以0.01～0.95摩尔％的比例存在。含有具有环状氨基的水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物的形成膜的组合物。含有具有环状氨基的水解性有机硅烷、其水解物、或其水解缩合物的形成光刻用抗蚀剂下层膜的组合物。上述环状氨基是仲氨基或叔氨基。水解性有机硅烷是式(1)所示的化合物，R1aR2bSi(R3)4-(a+b)式(1)(式中，R1是环状氨基或含有环状氨基的有机基团)。
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公开(公告)号：CN105765458B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201480065093.4
申请日：2014-10-20
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: G03F7/031 , G02F1/1333 , G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/033
Abstract: 本发明提供一种负型感光性树脂组合物，其固化速度增大，即使为15μm以上的膜厚也能够利用从基材的背面曝光使涂膜表面充分地固化，可以形成微细的透明结构体。作为解决本发明课题的方法为含有(A)成分、(B)成分、(C‑1)成分、(C‑2)成分和(D)成分的感光性树脂组合物。(A)成分：碱溶性共聚物，(B)成分：具有2个以上选自丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、乙烯基和烯丙基中的至少1种聚合性基团的化合物，(C‑1)成分：具有肟酯基、且365nm时的甲醇中或乙腈中的吸光系数为5,000ml/g·cm以上的光引发剂，(C‑2)成分：365nm时的甲醇中或乙腈中的吸光系数为100ml/g·cm以下的光引发剂，(D)成分：溶剂。
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公开(公告)号：CN107429081B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201680014475.3
申请日：2016-03-10
Applicant: 日产化学工业株式会社
IPC: C08L33/04 , C09D4/02 , C07C69/736 , C08K5/101 , C08L61/28 , C08L101/02 , C09D7/63 , C09D201/02 , G02B5/30 , G02F1/13363 , G02F1/1337
Abstract: 本发明的课题是提供适合形成具有优异的液晶取向性的固化膜的固化膜形成用组合物，提供取向材，提供使用该取向材的相位差材。该固化膜形成用组合物含有：(A)具有下述式(1)所示的基团的肉桂酸酯中的一种或多种(式中，R1和R2分别独立地表示氢原子或烷基，R3表示烷基等，X1表示可以被取代的亚苯基。)；(B)选自下述(B‑1)～(B‑3)中的至少一种的聚合物，(B‑1)：具有至少2个选自羟基、羧基、酰胺基、氨基、烷氧基甲硅烷基和下述式(2)所示的基团中的基团的聚合物(式中，R62表示烷基、烷氧基或苯基。)，(B‑2)：能够与选自羟基、羧基、酰胺基、氨基、烷氧基甲硅烷基和上述式(2)所示的基团中的至少一种基团发生热反应且能够自交联的聚合物，(B‑3)：三聚氰胺甲醛树脂；以及(C)交联剂(其中，在(B)成分为上述(B‑2)时，(C)成分可以与(B‑2)成分相同。)，本发明还涉及固化膜、取向材、相位差材。
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