液晶显示装置的制造方法及其制造装置

    公开(公告)号:CN101990651B

    公开(公告)日:2014-06-04

    申请号:CN200980112848.0

    申请日:2009-04-02

    CPC classification number: G02F1/133788

    Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法,其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态,对所述液晶显示用基板照射规定波长的光,使得所述液晶的分子定向于规定方向,包括:将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤;和在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。

    曝光方法及曝光装置
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102365589B

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201080014236.0

    申请日:2010-03-17

    Inventor: 梶山康一

    CPC classification number: G03F7/7055 G03F7/70358

    Abstract: 本发明公开一种曝光方法及曝光装置,其中一边将被曝光体(8)沿箭头A方向输送,一边在对使用光掩模(11)的第一掩模图案组12进行的被曝光体(8)的第一曝光区域(9)的曝光结束时使快门(5)与被曝光体(8)的输送速度同步移动遮断光源光,将被曝光体(8)沿箭头D方向返回被曝光体(8)在快门(5)的移动中移动的距离,同时,移动光掩模(11),切换为第二掩模图案组(13),当光掩模(11)的掩模图案组的切换结束时,再次启动被曝光体(8)的向箭头A方向的输送,同时将快门(5)与被曝光体(8)的输送速度同步向箭头B方向移动,解除光源光的遮断,执行对第二曝光区域(10)的曝光。由此,提高对同一被曝光体的多种曝光图案的形成效率。

    曝光方法及曝光装置
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102834780A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201180017800.9

    申请日:2011-03-03

    CPC classification number: G03F7/2035 G03F7/70791 G03F9/00 G03F9/7003

    Abstract: 本发明的曝光方法边使基板沿着一定方向移动,边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光,其中,执行如下步骤:在所述基板上使所述图案曝光,另一方面,使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射,在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤;检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤;使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤;在所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。由此,在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光。

    曝光装置
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101268420B

    公开(公告)日:2010-10-27

    申请号:CN200680034934.0

    申请日:2006-10-04

    CPC classification number: G03F7/7035 G02F1/133516 G03F7/70058

    Abstract: 本发明提供一种曝光装置,包括:承载并搬运滤色基板1的载物台5;以与滤色基板1邻接相对置的方式保持光掩膜14的掩膜载物台6;在曝光过程中持续点亮并对光掩膜14照射曝光用光的光源7;使照射在光掩膜14上的曝光用光的亮度分布均匀的光积分仪8;使照射在光掩膜14上的曝光用光成为平行光的聚光透镜9;在聚光透镜9的靠前侧形成光积分仪8的端面像的成像透镜10;设置在成像透镜10的成像位置附近,并与多个曝光区域2随着滤色基板1的移动而依次通过光掩膜14的下侧同步,进行曝光用光的照射及遮断切换的光闸11。由此,能够防止在被曝光体上沿其搬运方向设定的多个曝光区域的外部彼此邻接的曝光区域之间的部分被曝光。

    光掩模和使用该光掩模的曝光方法

    公开(公告)号:CN101273302A

    公开(公告)日:2008-09-24

    申请号:CN200680035418.X

    申请日:2006-09-25

    CPC classification number: G03F7/0007 G03F1/44

    Abstract: 本发明是由透明基体材料2和形成在该透明基体材料2的一个面上的遮光膜3构成的光掩模1,该光掩模1设置了多个掩模图案4和观察孔5,所述多个掩模图案4单向排列形成在上述遮光膜3上,并使曝光用光透过,所述观察孔5形成在上述遮光膜3上,并且形成在上述多个掩模图案4的排列方向的一侧,可观察对置的滤色基板的表面。这样,提高曝光图案相对于涂敷了感光性树脂的基板的基准图案的重合精度。

    薄膜图案形成方法
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104206016B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201380016813.3

    申请日:2013-03-25

    CPC classification number: H01M4/00 H01L27/3211 H01L51/0016

    Abstract: 本发明是薄膜图案形成方法,在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14),基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极,上述薄膜图案形成方法构成为包含:使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤;对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L),在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤;通过上述膜(2)的开口图案(21),在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤;以及剥离上述膜(2)的步骤。由此,能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。

    成膜掩模、成膜掩模的制造方法和触摸面板

    公开(公告)号:CN106488995A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201580036959.3

    申请日:2015-06-26

    Abstract: 本发明具备:掩模层(1),其与在显示面板与该透明电极的形状尺寸相同的开口图案(4);以及支撑层(2),其具有横穿开口图案(4)而设置于掩模层(1)的一个面(1a)的多个支撑线(2a),支撑层(2)的支撑线(2a)的排列间距设为可抑制由作为成膜的膜厚不匀而转印到透明电极上的支撑线(2a)的阴影导致的莫尔条纹或者衍射条纹的发生的尺寸。(5)的显示面上成膜形成的透明电极对应而具有

    曝光头和曝光装置
    19.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104169798B

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201280071476.3

    申请日:2012-03-19

    Abstract: 本发明的曝光头包含以下部分:透明基板;多个曝光光源,其形成于上述透明基板,辐射曝光光;聚光透镜,其使来自上述曝光光源的曝光光会聚到上述曝光对象物上;摄像机构,其配置于隔着上述透明基板与上述聚光透镜相反的一侧,对上述曝光对象物进行摄像;以及控制机构,其基于由上述摄像机构摄像得到的图像信息,控制上述曝光光源的点亮。另外,本发明的曝光装置包含本发明的曝光头。根据这样的构成,能够提高曝光对象物的对位精度,使曝光对象物的曝光精度提高。

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