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公开(公告)号:CN100339900C
公开(公告)日:2007-09-26
申请号:CN200410090068.X
申请日:2004-11-01
申请人: 株式会社神户制钢所
CPC分类号: G11B7/258 , C23C14/14 , C23C14/3414 , G11B7/2585
摘要: 本发明提供(1)光信息记录用铝合金反射膜,以Al为主成分,含有1.0~10.0原子数量%的稀土类元素中的至少1种,此外,含有0.5~5.0原子数量%的Cr、Ta、Ti、Mo、V、W、Zr、Hf、Nb、Ni中的至少1种,(2)在上述铝合金反射膜中,含有1.0~5.0原子数量%的Fe、Co中的至少1种,或含有1.0~10.0原子数量%的In、Zn、Ge、Cu、Li中的至少1种,(3)光信息记录介质,具有上述铝合金反射膜,(4)所述铝合金构成的溅射靶材。根据本发明可以实现具有低导热率、低熔化温度、高耐腐蚀性的与激光标记对应的光信息记录用铝合金反射膜及其形成用溅射靶材、光信息记录介质。
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公开(公告)号:CN1280446C
公开(公告)日:2006-10-18
申请号:CN200410044707.9
申请日:2004-05-17
CPC分类号: C22C5/06 , C23C14/3414
摘要: 一种Ag-Bi基合金溅射靶以及该溅射靶的制备方法,其特征在于,溅射靶的析出Bi强度为0.01原子%-1或以下,其是根据下式,基于X-射线衍射的分析结果计算出来的。析出Bi强度=[IBi(102)/(IAg(111)+IAg(200)+IAg(220)+IAg(311))]/[Bi]该溅射靶的Bi固溶于Ag中。根据本发明,在使用该溅射靶形成薄膜时,可以抑制其薄膜之中Bi含量相对于溅射靶Bi含量的显著降低。
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公开(公告)号:CN1256461C
公开(公告)日:2006-05-17
申请号:CN03127461.7
申请日:2003-08-07
申请人: 株式会社神户制钢所
CPC分类号: C22C5/06 , C22C1/002 , C22C5/08 , C23C14/024 , C23C14/185 , C23C14/205 , C23C14/3414 , C23C14/584 , G02B5/0808 , G11B7/252 , G11B7/2531 , G11B7/257 , G11B7/258 , G11B7/259 , G11B7/266 , Y10T428/10 , Y10T428/1059 , Y10T428/1095 , Y10T428/12 , Y10T428/12431 , Y10T428/12896 , Y10T428/12924 , Y10T428/21 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
摘要: 本发明涉及Ag合金膜,尤其适合用于光信息记录介质领域中具有高导热系数、高反射率、高耐久性的光信息记录介质用反射膜和半透过反射膜、耐Ag凝集性优异的电磁波屏蔽用膜、反射型液晶显示元件等背面光反射膜。本发明Ag合金膜是由Bi和/或Sb合计含有0.005~10%(指原子%)的Ag合金膜构成。本发明进而涉及用于这种Ag合金膜的成膜的溅射靶。
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公开(公告)号:CN1624176A
公开(公告)日:2005-06-08
申请号:CN200410100020.2
申请日:2004-11-30
申请人: 株式会社神户制钢所
CPC分类号: C22C5/06 , C23C14/185 , C23C14/3414 , Y10T428/12896
摘要: 本发明提供一种兼有低电阻率、高耐热性的FPD用Ag基合金配线电极膜、以及用于形成该Ag基合金配线电极膜的FPD用Ag基合金溅射靶、以及具备该Ag基合金配线电极膜的FPD。本发明的FPD用Ag基合金配线电极膜,在有源型FPD的情况下,构成连接到用于使其驱动的TFT2上的配线电极膜(3)、(4)、(5)、(6)、(7)。所述配线电极膜,由含有0.1~4.0at%的Nd、和/或0.01~1.5at%的Bi、剩余部分实质上由Ag构成的Ag基合金形成。除了Nd之外,所述Ag基合金还可以含有合计0.01~1.5at%的选自由Cu、Au、Pd构成的物质组中的一种或者两种以上元素。
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公开(公告)号:CN111788631B
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN201980013291.9
申请日:2019-05-08
申请人: 株式会社神户制钢所
发明人: 田内裕基
IPC分类号: G11B7/2433 , C23C14/08 , C23C14/34 , G11B7/24035 , G11B7/2578 , G11B7/26
摘要: 本发明为一种光信息记录媒体用记录层、光信息记录媒体以及溅镀靶。光信息记录媒体用记录层为可通过激光的照射来记录信息信号的光信息记录媒体用记录层,其具有包括Mn氧化物、W氧化物及Sn氧化物的金属氧化物。此外,相对于构成所述金属氧化物的金属元素的合计原子数,Mn的原子数比例为3atm%以上且40atm%以下。
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公开(公告)号:CN110337693B
公开(公告)日:2021-04-30
申请号:CN201880012085.1
申请日:2018-01-15
申请人: 株式会社神户制钢所
发明人: 田内裕基
IPC分类号: G11B7/2578 , G11B7/243 , G11B7/26 , C23C14/08 , C23C14/34
摘要: 本发明的目的在于提供在直接层叠的氧化物系记录层中可进行良好的信息记录且无需预防健康问题的措施、耐久性高的电介质层、光记录媒体、溅镀靶材及氧化物。本发明的电介质层由含有Sn元素、以及Zn元素、Zr元素、Si元素及Ga元素中的至少一种元素的氧化物形成,在相对于氧化物的氧以外的所有元素而将Sn元素的含有率设为a摩尔%、Zn元素的含有率设为b摩尔%、Zr元素的含有率设为c摩尔%、Si元素的含有率设为d摩尔%、及Ga元素的含有率设为e摩尔%的情况下,满足下述式(1)~式(7)。0≦b/(a+b)≦0.6···(1)0≦(c+d)/(a+b+c+d+e)≦0.5···(2)0≦b≦50···(3)0≦c≦40···(4)0≦d≦45···(5)0≦e≦40···(6)20≦b+c+d+e≦80···(7)。
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公开(公告)号:CN110603590B
公开(公告)日:2021-02-12
申请号:CN201880030084.X
申请日:2018-04-24
申请人: 株式会社神户制钢所
发明人: 田内裕基
IPC分类号: G11B7/258 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/34 , G11B7/24056 , G11B7/24085 , G11B7/26
摘要: 本发明涉及在基板上依次层叠有反射膜和透光层至少各一层,由蓝色激光进行信息的再生的只读的光信息记录介质,反射膜由含有Sn和Zn的金属氧化物或含有In的金属氧化物形成,并且,反射膜的膜厚为20nm以上、70nm以下。根据本发明,能够提供因高反射率和低抖动(再生信号在时间轴上的摆动少)而再生稳定性优异,并且耐久性也良好的只读光信息记录介质。
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公开(公告)号:CN112018260A
公开(公告)日:2020-12-01
申请号:CN202010453857.4
申请日:2020-05-26
申请人: 株式会社神户制钢所
发明人: 田内裕基
摘要: 本发明涉及一种即便使作为反射膜的Al合金膜与氧化物导电膜直接接触,也可确保低接触电阻与高反射率,且耐热性也优异的反射阳极电极,其用于有机EL显示器,且所述反射阳极电极具有层叠结构,所述层叠结构包含Al合金膜及氧化物导电膜,在所述Al合金膜及所述氧化物导电膜的接触界面介隔存在以氧化铝为主成分的层,所述Al合金膜包含Si及稀土类元素,当将所述Si的含量设为a(原子%),将所述稀土类元素的合计含量设为b(原子%)时,满足0.62<{a/(a+b)}、0.2<a<3及0.1<b的关系,且所述以氧化铝为主成分的层包含Si。另外,还涉及一种薄膜晶体管基板、有机EL显示器、以及溅镀靶材。
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公开(公告)号:CN110120459A
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201910085196.1
申请日:2019-01-29
申请人: 株式会社神户制钢所
摘要: 提供一种有机EL显示器用的反射阳极电极及其应用。为包含包括Al-Ge系合金膜、以及与Al-Ge系合金膜接触的氧化物导电膜的层叠结构、且在这些的接触界面中介隔存在以氧化铝为主成分的层的有机EL显示器用的反射阳极电极,并且Al-Ge系合金膜含有0.1原子%~2.5原子%的Ge,且在Al-Ge系合金膜与氧化物导电膜的接触界面中形成有Ge浓化层及含有Ge的析出物,Al-Ge系合金膜中的、自氧化物导电膜侧的表面起50nm以内的平均Ge浓度为Al-Ge系合金膜中的平均Ge浓度的2倍以上,且含有Ge的析出物的平均直径为0.1μm以上。
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公开(公告)号:CN105931654B
公开(公告)日:2019-07-02
申请号:CN201610230364.8
申请日:2010-09-16
IPC分类号: G11B7/2433 , G11B7/2437 , C23C14/08 , C23C14/34
CPC分类号: G11B7/2437 , C23C14/08 , C23C14/3414 , G11B7/24038 , G11B7/2433 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/24308 , G11B2007/24312 , G11B2007/2432 , Y10T428/21
摘要: 本发明提供记录特性优异的光信息记录介质用记录层、具备该记录层的光信息记录介质及对上述记录层的形成有用的溅射靶。该光信息记录介质用记录层是通过激光的照射进行记录的记录层,其特征在于,含有氧化物相对于1mol氧的标准生成自由能的绝对值比Pd大的金属(以下,称为X金属)的氧化物和氧化Pd,该氧化Pd含有一氧化Pd和二氧化Pd,且Pd原子相对于记录层中所含的X金属原子和Pd原子的合计的比率为4~85原子%。
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